JPH0438797Y2

JPH0438797Y2 -

Info

Publication number: JPH0438797Y2
Application number: JP1985182731U
Authority: JP
Priority date: 1985-11-27
Filing date: 1985-11-27
Publication date: 1992-09-10
Also published as: JPS6290590U

Description

【考案の詳細な説明】 (イ) 考案の目的［産業上の利用分野］本考案は、社寺等が出しているお守りや護魔札
等のお札（ふだ）に関するものである。

［従来の技術］従来、お札は紙や木の小片を基材とし、これに
神仏の像や文字を印刷等により記入して作成され
ているので、平面的な感じは免れなかつた。

［考案が解決しようとする問題点］本考案においては、従来技術における上記の欠
点を解消し、立体感にあふれた新規なお札を提供
しようとするものである。

(ロ) 考案の構成［問題を解決するための手段］本考案は、お札基材の表面もしくは裏面の一部
に、ホログラム画像周辺部分では蒸着反射面層の
厚さを基材が見える程度に薄くし、中央に向かつ
て徐々に蒸着厚さを厚くしたホルグラム画像を貼
込または転写などにより形成せしめたことを特徴
とするものであつて、従来では得られなかつた立
体感に溢れた外観を有するお札を提供できるもの
である。

［作用］お札の表面または裏面に、仏像等のホログラム
画像層を周縁では基材がホログラム層より見え、
中央に向かつてホログラム画像が浮かび出るよう
貼着あるいは転写形成することにより、仏像等が
三次元的立体像として現出するように構成するこ
とにより、お札に一層のありがたさが感じられる
ようになる。

［実施例］以下本考案による実施例を図面に従つて説明す
る。なお、本明細書中、お札としては、お守り及
び護摩札のほかにも、各宗教において社寺等で配
付するものを包含するものとする。

第１図、第２図はそれぞれ本考案による護摩札
及びお守りを示す平面図で、第１図においては、
護摩札１は基材２の表面にホログラム画像３を貼
込、または転写により形成せしめてある。

基材としては、従来、お札基材として使用され
ていたものであれば使用でき、それ以外のもの
も、用途、デザインにより使用できるが、例え
ば、紙、木、プラスチツク、金属、石、ガラス、
もしくは、陶磁器、またはこれらの複合体であ
る。木材は宗教上の要請により、所望の大きさお
よび所望の色彩であつてよい。また、第１図に示
すように、ホログラム画像３以外に適宜な手段に
より設けられた文字等を配してもよい。

ホログラム画像３としては、多くの場合、神仏
の像であつて、大日如来、観世音菩薩、あるいは
不動明王等が例として挙げられる。神仏の像は、
ホログラムの撮影の対象となり、必要に応じ、更
に、背景や祈祷の文字を含んでもよい。

また、ホログラム画像３の周縁３ａ部分の金属
蒸着反射面層の厚さを500〓以下の透明層として
基材２が見える状態とし、徐々に蒸着厚さを増し
てやり、1000〓以上としてやれば、ホログラム画
像３の周縁では下の基材２の面が見え、中央に向
かうにつれてホログラム画像が浮かび出るように
なるので、ホログラム画像３と基材２との間に違
和感がなく、効果的である。

第２図はお守り５の例を示すもので、小さい基
材６にホログラム画像７が形成しただけで、画像
周縁７ａの構成も第１図の場合と同様である。

本考案のホログラム付お札に用い得るホログラ
ムとしては、その再生機能上「反射型」であるも
のはいずれも適用可能である。ここで「反射型」
とは、ホログラムに対してその再生光源と同じ側
に回折光を発生するタイプであり「透過型」のホ
ログラムの背面に再生光を反射させるための反射
層を設けたタイプのホログラムをも含むものとす
る。具体的なホログラムの種類としては、イメー
ジホログラム、レインボーホログラム、リツプマ
ンホログラム、ホルグラフイツクステレオグラ
ム、回折格子等が広く適用され得る。

ホログラムを材料別に大別すると、「感光材料
型」と「エンボス複製型」の２タイプに分けら
れ、後者は本考案に利用しうる。リツプマンホロ
グラム以外の「感光材料型」のホログラムは再生
機上は透過型であるので前述したように背面に反
射層を伴う。また、「感光材料型」でリツプマン
ホログラムのタイプは、そのまま用いることがで
きる。また、「エンボス複製型」で材料として透
明樹脂を用いたものは透過型であり背面に反射層
を形成して適用することができるが、レリーフ面
にレリーフ形状に従う反射層を、たとえば真空蒸
着法等により設け反射型ホログラムとしてそのま
ま利用することができる。

ホログラムは、ホログラム用感光材料またはエ
ンボスホログラム形成材料からなる。

ホログラム層の厚みは、画像の大きさ、ホログ
ラムの種類によつて適宜選択されうるが、通常、
0.1〜50μm、望ましくは0.5〜5μmであることが好
ましい。

本考案にはエンボスホログラムが適しており、
このエンボスホログラム用の樹脂は、ホログラム
の成形（複製）時には熱成形可能であり、ホログ
ラム成形後つまり加工時には、加工の際の熱圧
力、接着剤中の溶剤に耐えるだけの耐性を有する
ことが必要である。このような樹脂としては、い
わゆる紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂、熱硬
化、自然硬化型の反応性の樹脂などが用いられう
る。特に生産性を考慮した場合、紫外線もしくは
電子線で硬化する樹脂が適している。

具体的には、例えばメチルメタクリレート、メ
チルアクリレート、エチルアクリレート、エチル
メタクリレート、プロピルアクリレート、プロピ
ルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチル
メタクリレート、イソブチルアクリレート、イソ
ブチルメタクリレート、ｔ−ブチルアクリレー
ト、ｔ−ブチルメタクリレート、イソアミルアク
リレート、イソアミルメタクリレート、シクロヘ
キシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレ
ート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エ
チルヘキシルメタクリレート、エチレングリコー
ルジアクリレート、エチレングリコールジメタク
リレート、ポリエチレングリコールジアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジメタクリレート、
ヘキサンジオールジアクリレート、ヘキサンジオ
ールジメタクリレート、トリメチロールプロパン
トリアクリレート、トリメチロールプロパントリ
メタクリレート、トリメチロールプロパンジアク
リレート、トリメチロールプロパンジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラメタクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペン
タエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサメタクリレート、エチレン
グリコールジグリシジルエーテルジアクリレー
ト、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ
メタクリレート、ポリエチレングリコールジグリ
シジルエーテルジアルクリレート、ポリエチレン
グリコールジグリシジルエーテルジメタクリレー
ト、プロピレングリコールジグリシジルエーテル
ジアクリレート、プロピレングリコールジグリシ
ジルエーテルジメタクリレート、ポリプロピレン
グリコールジグリシジルエーテルジアクリレー
ト、ポリプロピレングリコールジグリシジルエー
テルジメタクリレート、ソルビトールテトラグリ
シジルエーテルテトラアクリレート、ソルビトー
ルテトラグリシジルエーテルテトラメタクリレー
ト、等のラジカル重合性不飽和基を有する単量体
が用いられ得る。さらに本考案においては、熱成
形性を有する紫外線または電子線硬化樹脂を用い
ることができる。このような樹脂としては、以下
の化合物〜を重合もしくは共重合させた重合
体に対し、後述する方法(イ)〜(ニ)によりラジカル性
不飽和基を導入したものが用いられる。

水酸基を有する単量体：Ｎ−メチロールアク
リルアミド、２−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２
−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒド
ロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキ
シブチルアクリレート、２−ヒドロキシブチル
メタクリレート、２−ヒドロキシ、３−フエノ
キシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキ
シ、３−フエノキシプロピルアクリレートな
ど。

カルボキシル基を有する単量体：アクリル
酸、メタクリル酸、アクリロイルオキシエチル
モノサクシネートなど。

エポキシ基を有する単量体：グリシジルメタ
クリレートなど。

アジリジニル基を有する単量体：２−アジリ
ジニルエテルメタクリレート、２−アジリジニ
ルプロピオン酸アリルなど。

アミノ基を有する単量体：アクリルアミド、
メタクリルアミド、ダイアセトンアクリルアミ
ドジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエ
チルアミノエチルメタクリレートなど。

スルフオン基を有する単量体：２−アクリル
アミド−２−メチルプロパンスルフオン酸な
ど。

イソシアネート基を有する単量体：２，４−
トリエンジイソシアネートと２−ヒドロキシエ
チルアクリレートの１モル対１モル付加物など
のジイソシアネートと活性水素を有するラジア
ル重合性単量体の付加物など。

さらに、上記の共重合体のガラス転移点を調
節したり、硬化膜の物性を調節したりするため
に、上記の化合物と、この化合物と共重合可能
な以下のような単量体とを共重合させることが
できる。このような共重合可能な単量体として
は、たとえばメチルメタクリレート、メチルア
クリレート、エチルアクリレート、エチルメタ
クリレート、プロピルアクリレート、プロピル
メタクリレート、ブチルアクリレート、ブチル
メタクリレート、イソブチルアクリレート、イ
ソブチルメタクリレート、ｔ−ブチルアクリレ
ート、ｔ−ブチルメタクリレート、イソアミル
アクリレート、イソアミルメタクリレート、シ
クロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメ
タクリレート、２−エチルヘキシルアクリレー
ト、２−エチルヘキシルメタクリレートなどが
挙げられる。

次に上述のようにして得られた重合体を以下に
述べる方法(イ)〜(ニ)により反応させ、ラジカル重合
性不飽和基を導入することによつて、紫外線もし
くは電子線硬化樹脂が得られる。

(イ) 水酸基を有する単量体の重合体または共重合
体の場合には、アクリル酸メタクリル酸などの
カルボキシル基を有する単量体などを縮合反応
させる。

(ロ) カルボキシル基、スルフオン基を有する単量
体の重合体または共重合体の場合には、前述の
水酸基を有する単量体を縮合反応させる。

(ハ) エポキシ基、イソシアネート基あるいはアジ
リジニル基を有する単量体の重合体または共重
合体の場合には、前述の水酸基を有する単量体
もしくはカルボキシル基を有する単量体を付加
反応させる。

(ニ) 水酸基あるいはカルボキシル基を有する単量
体の重合体または共重合体の場合には、エポキ
シ基を有する単量体あるいはアジリジニル基を
有する単量体あるいはジイソシアネート化合物
と水酸基含有アクリル酸エステル単量体の１対
１モルの付加物を付加反応させてもよい。

またさらに、前述の単量体と、上記の熱成形性
の紫外線または電子線硬化樹脂とを混合して用い
ることもできる。

また、上記のものは電子線により十分に硬化可
能であるが、紫外線照射で硬化させる場合には、
増感剤としてベンゾキノン、ベンゾイン、ベンゾ
インメチルエーテル、などのベンゾインエーテル
類、ハロゲン化アセトフエノン類、ビアセチル類
などの紫外線照射によりラジカルを発生するもの
も用いることができる。

反射層は、ホログラムに反射性を与えるための
ものであつて、Cr，Ti，Fe，Co，Ni，Cu，Ag，
Au，Ge，Al，Mg，Sb，Pb，Pd，Cd，Bi，Sn，
Se，In，Ga，Rd、などの金属およびその酸化
物、窒化物などを単独もしくは２種以上組合せて
用いて形成される。これらの金属のうちAl，Cr，
Ni，Ag，Au、などが特に好ましい。

この反射層の膜厚は、10〜10000Å望ましくは
200〜2000Åであることが好ましい。

この反射層は必ずしもなくてもよい場合がある
が、存在することが望ましい。

次に本考案に係るホログラム付お札の製造方法
について説明する。

お札にホログラムを設ける方法としては、接
着、粘着、融着などの適宜な公知の貼着手段が用
いられ得るほか、転写法が好ましく用いられる。

以下、この転写法によつてホログラム付お札を
製造する場合について説明する。

まず、ホログラム付お札を製造するに先立つて
ホログラム転写シートを作成するには、まずホロ
グラム転写シート基材上に、必要に応じて剥離層
およびオーバプリント層を介して、熱成形性を有
する紫外線または電子線硬化樹脂あるいは熱成形
性を有する熱硬化樹脂を設けて、ホログラム形成
用フイルムを形成する。上記樹脂のうち、特に硬
化前に常温で個体であり熱成形性を有する紫外線
または電子線硬化樹脂が好ましい。

次いで、得られたホログラム形成用フイルムと
凹凸模様が形成されたホログラム原版とを、該フ
イルムの樹脂層がホログラム原版に接するように
して加熱圧接させ前記樹脂表面に凹凸模様を形成
しつつ、またはその後紫外線または電子線を照射
するか熱をさらに加えて前記樹脂を硬化させる。

ホログラム原版とホログラム形成用フイルムと
を加熱圧接するに際しては、加熱ロールなどの加
熱圧接手段を用いることができ、この際加熱ロー
ルの温度は、用いられるべき樹脂の種類ベースフ
イルムの材料、厚みなどによつて大きく変化する
が、一般的には、100〜200℃であることが適当で
ある。また、ホログラム原版とホログラム形成用
フイルムとは0.1Kg／cm²、望ましくは１Kg／cm²以
上の圧力下に圧接することが好ましい。

この際に、紫外線または電子線を照射しても良
い。またホログラム原版のホログラムの凹凸を成
形したフイルムを版より剥離した後に再度照射し
ても良く、照射強度は樹脂を十分に硬化させるこ
とが好ましい。紫外線、電子線の照射は使用する
樹脂に応じて適宜決めることが必要である。

次に反射層を被着させる。この反射層は、スパ
ツタリング法、イオンプレーテイング法、真空蒸
着法などによつてホログラム層上に設けることが
できる。

次いで、この反射層上に、必要に応じてアンカ
ー層を設けた後に、接着剤層を塗布法などにより
設けると、ホログラム転写シートが得られる。

なお、従来用いられてきた種類の紫外線硬化樹
脂および電子線硬化樹脂は、一般に液体状態であ
るため、基材フイルム上に塗布した場合に著しく
べたつき、したがつて基材フイルム上に従来の紫
外線または電子線硬化樹脂を塗布してなるホログ
ラム形成用フイルムは巻取つて保管することがで
きず、ホログラム原版と接触する直前に基材フイ
ルム上にいちいち紫外線硬化樹脂を塗布してホロ
グラム形成用フイルムを形成しなければならない
という問題点があつたが、上記のようなホログラ
ム形成用フイルムは、特定の樹脂により形成され
ているため、べとつくことがなく、巻取つて保管
することができるという利点を有している。

次に上記のような構成を有するホログラム転写
シートとお札基材とを、ホログラム転写シートの
接着剤層とお札基材とが接するようにして加熱圧
接すると、ホログラム転写シートのホログラム層
および反射層がお札の基材上に転写されて、本考
案に係るホログラム付お札が得られる。

ホログラム転写シートとお札基材とは、100〜
200℃の温度で５〜50Kg／cm²の圧力下で加熱圧接
されることが好ましい。

このように構成したお札のホログラム画像３
は、ホログラムにより三次元的な光の像を作り、
表示されている神仏の画像は実在感にあふれる立
体像として現出する。

ホログラムの適用位置としては格別の制限はな
く、適宜の位置に設けることができる。

特に、転写によつてホログラムを適用するとき
は、ホログラムの厚みは極く薄い（数μ）から、
所望の部分に適用してよい。

(ハ) 考案の効果本考案によれば、ホログラム画像の周縁部分で
は蒸着反射層の厚さを基材が見える程度に薄く
し、中央に向かつて徐々に蒸着厚さを厚くしたホ
ログラム画像層をお札の基材上に設けたので、ホ
ログラム画像部分と基材との間の表現に違和感が
なく、しかも、ホログラムにより神仏もしくは他
のものが表現されて、画像に立体感がある上、全
体的に金色もしくは銀色を帯びているので輝きが
あり、光の干渉により虹色に見えるため、眺める
人にとつては、あたかもそこに現世を超越した空
間があるかのように感じられ、ご利益が得られる
ことが期待されるので、お札としての効果が高い
ものとなる。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図はそれぞれ本考案による護摩札
及びお守りを示す平面図、である。１……護摩札、２……基材、３……ホログラム
画像、３ａ……画像周縁、５……お守り、６……
基材、７……ホログラム画像、７ａ……画像周
縁。

Claims

【実用新案登録請求の範囲】

基材の表面もしくは裏面の一部に、ホログラフ
画像の周縁部分では蒸着反射層の厚さを基材が見
える程度に薄くし、中央に向かつて徐々に蒸着厚
さを厚くすることにより、中央に向かうにつれて
ホログラム画像が浮かび出るようにしたホログラ
ム画像層を貼着または転写形成してなるお札。