JPH0437493A - 金属板の加工方法 - Google Patents

金属板の加工方法

Info

Publication number
JPH0437493A
JPH0437493A JP2140300A JP14030090A JPH0437493A JP H0437493 A JPH0437493 A JP H0437493A JP 2140300 A JP2140300 A JP 2140300A JP 14030090 A JP14030090 A JP 14030090A JP H0437493 A JPH0437493 A JP H0437493A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
processing
metal plate
laser beam
resist
etching
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2140300A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2843645B2 (ja
Inventor
Tsunenori Kato
加藤 凡典
Hideo Hotta
日出男 堀田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2140300A priority Critical patent/JP2843645B2/ja
Publication of JPH0437493A publication Critical patent/JPH0437493A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2843645B2 publication Critical patent/JP2843645B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Landscapes

  • Laser Beam Processing (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は、金属板の微細加工方法に関するものであり、
特に例えば半導体組み立て部材であるリードフレーム等
の比較的小さな金属板の微細加工に有効である金属板の
加工方法に関するものである。
[従来の技術] 透電 半導体素子の高密度実装化がより一層激しく要求
されてきており、このような中でリードフレームの多ビ
ンが進展してきてる。そして現在では、 リードの数が
300ピンを超えるリードフレームも製造されている。
このリードフレームの多ビン化に伴い、リードフレーム
のインナーリードのピッチは、従来では最小で200μ
m程度であったものが、現在では200μmを切るリー
ドフレームが開発されてきている。このような多ビンで
かつ狭ピッチのリードフレームを製造する方法として、
従来エツチングによる製造が主流となっている。このエ
ツチングによる製造方法は、スタンピングによる製造方
法に比較して多ビン(L狭ピッチ化が容易ではあるが、
インナーリードピッチが200μmを切るリードフレー
ムを製造する場合、エツチングファクターの低下、パタ
ーン補正の限界、歩留りの悪化などの種々の障害が伴リ
ードフレームの多ピン化および狭ピン化に対応すること
ができる一つの手段として、加工基材である金属板を厚
さの薄い薄板から形成することが考えられるが、あまり
薄くすると強度が不足してしまうので、板厚を薄くする
にも限界がある。
なお、多ビン化および狭ピン化に対応する他の手段とし
て、エツチング液の添加剤等によるエツチングファクタ
ーの向上が考えられるが、現在はエツチングファクター
を効果的に向上させるまでには至っていない。
[発明が解決しようとする課題] このような状況の中で、それほど厚さを薄くすることが
できない金属板をエツチングにより加工して300ピン
以上の多ピンおよび200μm以下の狭ピッチのリード
フレームを形成しようとすると、微細加工がそれほど必
要でないアウターリード部はエツチングにより貫通され
るが、微細な加工が必要なインナーリード部はエツチン
グでは貫通されない。また、インナーリードが貫通され
たとしても、ワイヤーボンディングやモールドに必要な
リードの平坦幅やリードの所望の狭ピッチを確保するこ
とができないという不具合が発生する。
本発明はこのような問題に鑑みてなされたものであって
、その目的は、金属板の微細加工を高精度にかつ簡単に
行うことのできる金属板の加工方法を提供することであ
る。
本発明の他の目的は、例えば300ピン以上の多ピンお
よび例えば200μm以下の狭ピッチのリードフレーム
を容易に製造することのできるリードフレームの製造方
法を提供することである。
[課題を解決するための手段] 上記の課題を解決するために、請求項1の発明の金属板
の加工方法は、所定箇所をエツチングにより全加工量の
うち所定量だけ加工するエツチング加工工程と、このエ
ツチング加工部の少なくとも一部にレーザビームを照射
することにより全加工量の残量を加工するレーザビーム
加工工程とからなることを特徴としている。
また請求項2の発明は、エツチング加工工程において、
金属板の一方の面または両方の面に所定パターンのレジ
ストを製版し、このレジストによりエツチング加工を行
うことを特徴としている。
更に請求項3の発明は、レーザビーム加工工程を、レジ
ストを剥離する前に行うことを特徴としている。
更に請求項4の発明は、レーザビーム加工工程のレーザ
ビーム径が、レジストの所定パターン開口部幅よりも大
きく設定されていることを特徴としている。
更に請求項5の発明は、レーザビーム加工工程を、レジ
ストを剥離した後に行うことを特徴としている。
更に請求項6の発明は、レーザビーム加工工程では、レ
ーザビームを、金属板の少なくともエツチング加工部を
含む所定領域または全面に照射することを特徴としてい
る。
更に請求項7の発明は、レーザビーム加工工程のレーザ
ビーム径が、レジストの所定パターン開口部幅よりも小
さく設定されていることを特徴としている。
更に請求項8の発明は、エツチング加工工程により、金
属板の微細加工箇所では全加工量のうちの所定量だけ加
工すると共に、金属板の微細加工箇所以外の加工箇所で
は全加工量を加工し、レーザビーム加工工程により、微
細加工箇所の全加工量の残量を加工することを特徴とし
ている。
更に請求項9の発明は、エツチング加工工程において、
金属板のエツチング加工を行う面に所定パターンのレジ
ストを製版し、このレジストによリエッチング加工を行
うと共に、金属板の微細加工箇所におけるレジストの所
定パターン開口部幅よりも、金属板の微細加工箇所以外
の加工箇所におけるレジストの所定パターン開口部幅が
大きく設定されていることを特徴としている。
更に請求項10の発明は、エツチング加工時に位置決め
用マークを形成し、この位置決め用マークによりレーザ
ビームの位置精度を管理することを特徴としている。
更に請求項11の発明は、金属板がリードフレームであ
ることを特徴としている。
[作用] このような構成をした本発明の金属板の加工方法におい
ては、まずエツチング加工により所定量だけ加工されて
板厚が薄くなっている金属板の加工箇所を、レーザビー
ム加工により加工するので、レーザビーム加工時間が大
幅に短縮される。また、従来のようなエツチングのみに
よる加工の場合には、加工板厚とエツチングによる加工
代との関係から微細加工に限界を生じるが、本発明によ
れば加工板厚のうちの所定量をエツチングにより加工す
るので、加工代をそれほど必要としないばかりでなく、
レーザビームにより金属板を切断するので、より一層高
度の微細加工が可能となる。
また、 レーザど一ム加工工程をレジストを剥離する前
に行うことにより、レジストがレーザビームに対するマ
スクとして機能するようになる。したがって、比較的大
きなレーザビーム径で加工できると共に、そのレーザビ
ームの位置精度もそれほど厳しくする必要がないので、
加工がきわめて簡単になるばかりでなく、短時間で加工
すイことができるようになる。
更に、エツチング加工工程では、金属板の微細加工箇所
では全加工量のうちの所定量だけ加工するが、金属板の
微細加工箇所以外の加工箇所では全加工量を加工するよ
うにし、更に前記レーザビーム加工工程により、微細加
工箇所の全加工量の残量を加工することにより、レーザ
ビーム加工箇所が少なくなるので、レーザによる微細加
工時間を短縮することができる。
更に、エツチング加工時に金属板に位置決め用マークを
形成し、この位置決め用マークにより前記レーザど−ム
の位置精度を管理することにより、レーザビームの位置
決めが簡単かつ高精度に行うことができ、微細加工時間
をより一層短縮できると共に、加工精度をより一層向上
させることができる。
また本発明の金属の加工方法をリードフレームの加工に
適用することにより、より一層高度の微細加工が可能と
なるので、例えば300ビン以上の多ピンおよび例えば
200μm以下の狭ピッチのリードを有するリードフレ
ームを高精度にかつ簡単に製造することができるように
なる。
[実施例] 以下、図面を用いて本発明の詳細な説明する。
第1図は本発明に係る金属板の加工方法を用いて製造さ
れるリードフレームの一例を示す図である。
第1図に示すように リードフレーム1#上 例えば凱
 銅合金、42アロイ、コバール等の所定厚の金属板か
らなるQ F P (Quad plat Packa
ge)タイプのリードフレームであり、上下に配置され
ると共に互いに平行に配置された一対のレール2゜2を
備えている。一対のレール2,2の間には、半導体素子
3を搭載するダイパッド4が配設されている。このダイ
パッド4を囲むようにして所定数のインナーリード5,
5.・・・とこれらインナーリード5に連続するアウタ
ーリード6.6.・・・が配設されており、これらイン
ナーリード5とアウターリード6とはダムバー7により
レール2,2に支持されている。
第2図はこのようなリードフレーム1を製造するための
工程を示す図である。
リードフレーム1を製造するにあたり、まずエツチング
加工工程を行う。すなわち、第2図(a)に示す所定厚
の金属板8の上下両面に、同図(b)に示すように所定
パターンPのレジスト9,10を製版する。次+、= 
 同図(c)に示すように製版されたレジスト9,10
を用いて、金属板8の両面に対して所定量のエツチング
深さだけケミカルエツチングを行う。したがって、この
エツチングによるエツチング加工部eIn  e2にお
ける金属板8の厚さtは他の非加工部の厚さ1.に比し
薄くなり、エツチング加工部eI、e2はハーフエッチ
部となっている。レジストおよびエツチング液は、従来
公知のものを使用することができる。
次いで、この金属板8に対してレーザビーム加工工程を
行う。すなわち、同図(d)に示すようにこの厚さの薄
(なったエツチング加工部e、、  e2にレーザビー
ムLを照射する。その場合、レーザビームしはそのスポ
ット径φがレジスト9の開口部9aの幅h(例えば30
μm)よりも小さく設定されており(例えば10μm)
、微小スポットサイズのレーザビームLである。そして
、所定時間レーザビームLを照射すると、同図(e)に
示すように金属板8のエツチング加工部eI、e2に貫
通孔11が形成さね エツチング加工部が切断される。
この時の切断寸法はレーザビームLのスポットサイズが
微少であるため、きわめて微少なものとなる。
レーザビームLを照射するにあたっては、第1図(a)
に示すようにレーザビームLをレジスト9の全面に照射
するようにすることもできるし、第1図(b)に示すよ
うにインナ−リード5先端部のような微細加工が必要な
エツチング加工部e1、e2にの駅 部分的にレーザビ
ームLを照射することもできる。微細加工部にのみ部分
的にレーザビームLを照射する場合には、他の加工部分
はエツチング加工のみにより貫通、切断する。このよう
な加工を行うためには、微細加工部におけるレジスト9
,10の開口部幅を、微細加工部以外の部分におけるレ
ジスト9.10の開口部幅よりも小さく設定することに
より、エツチング加工量を微細加工部では少なくし、ま
た微細加工部以外の部分では多くなるようにする。これ
により、 レーザビームしによる微細加工時間を短縮す
ることができる。
最後に、第2図(f)に示すように金属板8の両面のレ
ジスト9.10を剥離して取り除くことにより、 リー
ドフレーム1が製造される。
このようなリードフレーム1の製造方法によれば、金属
板の厚さtl、すなわち全加工量のうち所定量だけしか
エツチング加工を行わないので、エツチング加工幅e 
hl+  eh2はそれほど大きくなることはない。し
たがって、エツチング加工代をそれほど大きく必要とし
ない。しかも、金属板8の全加工量のうちの残量を微小
スポット径のレーザビームしにより加工するので、超微
細加工を行うことができる。これにより、例えば300
ビン以上のリードでかつ200μm以下のリードピッチ
のリードフレーム1を製造することができる。こうして
、本実施例によれば、今後ますます求められるリードフ
レームの超多ピン化および狭ピッチ化に確実に対応する
ことができる。
前述の実施例では、レジスト9.10を取り除く前にレ
ーザビーム加工工程を行うようにしているが、レジスト
9,10を取り除いてからレーザビーム加工工程を行う
ようにすることもできる。
すなわち、第2図(c)に示すエツチング加工後に 第
3図(a)〜(d)に示すようにレジスト9.10を取
り除いた後、レーザビームLを照射することにより、金
属板8を加工する。この場合にもレーザビームLを照射
するにあたって&九 レーザビームLを金属板8のほぼ
全面に照射するようにすることもできるし、微細加工が
必要なエツチング加工部el+  etにの駅 部分的
にレーザビームLを照射することもできる。第4図に示
すようにこのレーザビーム加工においては、レーザビー
ムしはレジスト9により遮られないので直接金属板8に
照射される。そして、金属板8のレーザビームLの照射
された面が一定厚溶焦 除去さねその結果ハーフエッチ
部が先に貫通、切断する。
第5図は本発明の他の実施例を示す図である。
この実施例では、第2図に示されている実施例と同様に
レジスト9,10の剥離前にレーザビーム加工工程を行
うものである。その場合、レーザビームLのスポット径
φは絞らなくレジスト9の開口部9aの幅りよりも大き
く設定されている。したがって、レーザビームLがレジ
スト9に照射された際、このレジスト9がマスクとして
機能するようになり、レジスト9の開口部9aを通して
レーザビームLが金属板8に照射される。そして、開口
部幅りと同じ大きさの貫通孔11が形成される。この実
施例によれば、レーザビームLのスポット径φを絞らな
くてもレーザビーム加工を行うことができるので、レー
ザビームLの位置決めをそれほど厳しく管理する必要が
ないので、製造が容易となる。
また、第1図(a)に示すようにリードフレーム1の金
属板には位置決め用マーク12が形成されている。この
位置決め用マーク12をエツチング加工を行う際に同時
に形成すると共をこ この位置決め用マーク12を用い
てレーザビームLの加工位置決めを行う。このようにレ
ーザビームLの加工位置決めを管理することにより、エ
ツチング加工位置とレーザビーム加工位置とが太き(ず
れること、はない、したがって、エツチング加工とレー
ザビーム加工とのマツチングが容易となると共に 加工
精度が向上するものとなる。
なお、本発明は前述の実施例に限定されるものではなく
、種々の設計変更が可能である。
例えば前述のいずれの実施例においても、エツチング加
工を金属板8の両面に行うものとしているが、本発明は
エツチング加工を金属板8の上面または下面のいずれか
の面にのみ行うようにすることもできる。
また、前述の各実施例においてはQFPタイプのリード
フレームの製造方法についてのみ説明しているが、本発
明は、例えばDIPタイプ等の他リードフレームの製造
にも適用できるばかりでなく、リードフレーム以外の金
属板の微細加工にも適用できることは言うまでもない。
その場合、比較的小さな金属板の微細加工の場合、レジ
ストを製版する際の位置ずれが小さいので、特に本発明
の金属板の加工方法は、このような比較的小さな金属板
の微細加工に有効なものである。
[発明の効果コ 以上の説明から明らかなように、本発明の金属板の加工
方法によれば、エツチング加工により板厚を薄くし、そ
の薄くなった箇所をレーザビーム加工により加工するの
で、レーザビーム加工時間を大幅に短縮できる。
また、従来のようなエツチングのみによる加工の場合に
は、加工板厚とエツチングによる加工代との関係から微
細加工に限界を生じるが、本発明によればエツチングに
よる加工代をそれほど必要としないばかりでなく、レー
ザビームにより金属板を切断するので一層高度の微細加
工が可能となる7 更に、 レーザビーム加工工程をエツチング加工におけ
るレジストを剥離する前に行うことにより、比較的大き
なレーザビーム径で加工できると共に、そのレーザビー
ムの位置精度もそれほど厳しくする必要がないので、加
工がきわめて簡単になるばかりでなく、短時間で加工す
ることができるようになる。これにより生産性が向上す
る。
更に 本発明の金属板の加工方法をリードフレームの製
造に適用することにより、より一層高度の微細加工が可
能となるので、超多ビンでしかも超狭ピッチのリードを
有するリードフレームを高精度にかつ簡単に製造するこ
とができるようになル・シたがって、今後ますます求め
られるリードフレームの超多ピン化および超狭ピッチ化
に確実に対応することができる。
更に従来のようなエツチング加工のみで製造できるリー
ドフレームに応用した場合、エツチングがほとんどハー
フエツチングであり、しかも微細部分の加工が必要とさ
れないため、エツチング加工の調整が従来に比較して容
易となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る金属板の加工方法の一実施例を用
いて製造されるリードフレームの一例を示し、 (a)
はレーザビームを全面に照射する場合を示す図、 (b
)はレーザビームを部分的に照射する場合を示す図、第
2図は本発明によるリードフレームの製造方法の一実施
例を説明する図、第3図は本発明の他の実施例を説明す
る図、第4図はレーザビームによる金属板の貫通を説明
する図、第5図は本発明の更に他の実施例を説明する図
である。 1・・・リードフレーム、 4・・・ダイパッド、 5
・・・インナーリード、 6・・・アウターリード、 
8・・・金属板9.10・・・レジスト、11・・・貫
通:L 12・・・位置決めマーク、el+  82・
・・エツチング加工s、L・・・レーザビーム、h・・
・開口部幅 特許出願人    大日本印刷株式会社代理人 弁理士
    青 木 健 二(外7名)第1図 第1図 (ハーフニジ11竿) (ハーフエ、ナテP) 第3図 (b) ρ電

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)所定箇所をエッチングにより全加工量のうち所定
    量だけ加工するエッチング加工工程と、このエッチング
    加工部の少なくとも一部にレーザビームを照射すること
    により全加工量の残量を加工するレーザビーム加工工程
    とからなることを特徴とする金属板の加工方法。
  2. (2)エッチング加工工程は金属板の一方の面または両
    方の面に所定パターンのレジストを製版し、このレジス
    トによりエッチング加工を行うことを特徴とする請求項
    1記載の金属板の加工方法。
  3. (3)レーザビーム加工工程は、レジストを剥離する前
    に行うことを特徴とする請求項2記載の金属板の加工方
    法。
  4. (4)レーザビーム加工工程のレーザビーム径は、レジ
    ストの所定パターン開口部幅よりも大きく設定されてい
    ることを特徴とする請求項3記載の金属板の加工方法。
  5. (5)レーザビーム加工工程は、レジストを剥離した後
    に行うことを特徴とする請求項2記載の金属板の加工方
    法。
  6. (6)レーザビーム加工工程では、レーザビームを、金
    属板の少なくともエッチング加工部を含む所定領域また
    は全面に照射することを特徴とする請求項5記載の金属
    板の加工方法。
  7. (7)レーザビーム加工工程のレーザビーム径は、レジ
    ストの所定パターン開口部幅よりも小さく設定されてい
    ることを特徴とする請求項3または5記載の金属板の加
    工方法。
  8. (8)エッチング加工工程により、金属板の微細加工箇
    所では全加工量のうちの所定量だけ加工すると共に、金
    属板の微細加工箇所以外の加工箇所では全加工量を加工
    し、レーザビーム加工工程により、微細加工箇所の全加
    工量の残量を加工することを特徴とすることを特徴とす
    る請求項1ないし7のいずれか1記載の金属板の加工方
    法。
  9. (9)エッチング加工工程では、金属板のエッチング加
    工を行う面に所定パターンのレジストを製版し、このレ
    ジストによりエッチング加工を行うと共に、金属板の微
    細加工箇所におけるレジストの所定パターン開口部幅よ
    りも、金属板の微細加工箇所以外の加工箇所におけるレ
    ジストの所定パターン開口部幅が大きく設定されている
    ことを特徴とする請求項8記載の金属板の加工方法。
  10. (10)エッチング加工時に位置決め用マークを形成し
    、この位置決め用マークによりレーザビームの位置精度
    を管理することを特徴とする請求項1ないし9のいずれ
    か1記載の金属板の加工方法。
  11. (11)金属板がリードフレームであることを特徴とす
    る請求項1〜10記載のいずれか1記載の金属板の加工
    方法。
JP2140300A 1990-05-30 1990-05-30 金属板の加工方法 Expired - Lifetime JP2843645B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2140300A JP2843645B2 (ja) 1990-05-30 1990-05-30 金属板の加工方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2140300A JP2843645B2 (ja) 1990-05-30 1990-05-30 金属板の加工方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0437493A true JPH0437493A (ja) 1992-02-07
JP2843645B2 JP2843645B2 (ja) 1999-01-06

Family

ID=15265581

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2140300A Expired - Lifetime JP2843645B2 (ja) 1990-05-30 1990-05-30 金属板の加工方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2843645B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1994013015A1 (en) * 1992-11-24 1994-06-09 Hitachi Construction Machinery Co., Ltd. Lead frame manufacturing method
WO1994024705A1 (en) * 1993-04-14 1994-10-27 Hitachi Construction Machinery Co., Ltd. Metal sheet processing method and lead frame processing method, and lead frame and semiconductor device manufacturing method and semiconductor device

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1994013015A1 (en) * 1992-11-24 1994-06-09 Hitachi Construction Machinery Co., Ltd. Lead frame manufacturing method
US5548890A (en) * 1992-11-24 1996-08-27 Hitachi Construction Machinery Co., Ltd. Lead frame processing method
WO1994024705A1 (en) * 1993-04-14 1994-10-27 Hitachi Construction Machinery Co., Ltd. Metal sheet processing method and lead frame processing method, and lead frame and semiconductor device manufacturing method and semiconductor device
US5580466A (en) * 1993-04-14 1996-12-03 Hitachi Construction Machinery Co., Ltd. Metal plate processing method, lead frame processing method, lead frame, semiconductor device manufacturing method, and semiconductor device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2843645B2 (ja) 1999-01-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4849890B2 (ja) 貫通孔を有するガラス部品およびその製造方法
JPH0437493A (ja) 金属板の加工方法
JPH06179088A (ja) 金属板の加工方法およびリードフレームの製造方法
JP2000030990A (ja) チップ部品の保持プレートの製造方法
WO2023188587A1 (ja) 加工品の製造方法、半導体装置の製造方法、および加工品の製造装置
US6084204A (en) Leadframe manufacturing apparatus using laser beams
JP2542738B2 (ja) リ―ドフレ―ムの製造方法
JPS60206130A (ja) 半導体基板のマ−キング方法
JPH05302181A (ja) 金属薄板のエッチング加工方法
KR100745511B1 (ko) 리드프레임과 그 제조방법
JPH059756A (ja) エツチング方法
JP2704128B2 (ja) 半導体装置用リードフレームおよびその製造方法
JPH05152482A (ja) Icチツプ搭載部品の製造方法
JPH06320293A (ja) 金属板の加工方法及びリードフレームの加工方法
KR100546696B1 (ko) 반도체패키지 제조 공정용 리드프레임의 형성 방법
JPH04116887A (ja) 回路パターンの形成方法
JPS6045011A (ja) 半導体ウエ−ハ及びその製造方法
JPH06283644A (ja) 半導体装置用部品のめっき方法
JPS6049885A (ja) レ−ザ加工方法
JP2003017828A (ja) 基板の切断方法
JPH02158160A (ja) リードフレームの製造方法
TW202325453A (zh) 雷射加工裝置、雷射加工方法、及半導體裝置的製造方法
KR20010028869A (ko) 인쇄회로기판의 윈도우 형성방법
JP3381455B2 (ja) フラット型シャドウマスク
JPS63254756A (ja) リ−ドフレ−ムの製造方法