JPH0437159A - 混成集積回路装置 - Google Patents
混成集積回路装置Info
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- JPH0437159A JPH0437159A JP14499290A JP14499290A JPH0437159A JP H0437159 A JPH0437159 A JP H0437159A JP 14499290 A JP14499290 A JP 14499290A JP 14499290 A JP14499290 A JP 14499290A JP H0437159 A JPH0437159 A JP H0437159A
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- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 51
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 35
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 35
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 29
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 26
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 20
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims abstract description 11
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 10
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000005476 soldering Methods 0.000 claims description 4
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 abstract description 10
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 3
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 abstract 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000003415 peat Substances 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 210000000988 bone and bone Anatomy 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 235000013399 edible fruits Nutrition 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
Classifications
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
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- H01L2224/4847—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a wedge bond
- H01L2224/48472—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a wedge bond the other connecting portion not on the bonding area also being a wedge bond, i.e. wedge-to-wedge
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- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、例えば電装品などに用いられ、ヒートシン
クを有する混成集積回路装置に関し、特にヒートシンク
の改良にかかわる。
クを有する混成集積回路装置に関し、特にヒートシンク
の改良にかかわる。
第3図(l!L)及び(b)は、従来の電装品用の混成
集積回路装置の平面図及び正面図である。図において、
アルミヒートシンク1にはプレス加工により、打とげス
テージ2と、装着する部品の2辺を受ける位置決め突起
3と、ワイヤボンディング用の突起座4が設けられてい
る。この突起座4のL面は研摩仕とげしである。5は打
とげステージ2土に接着された混成集積回路基板(以下
「回路基板」と称する)で、ワイヤボンディング用バッ
ド6(アルミ材)が設けられている。7はヒートシンク
1北に接合手段により装置されたパワートランジスタ、
8はバッド6と突起座4とにワイヤボンディングされた
アルミ線である。
集積回路装置の平面図及び正面図である。図において、
アルミヒートシンク1にはプレス加工により、打とげス
テージ2と、装着する部品の2辺を受ける位置決め突起
3と、ワイヤボンディング用の突起座4が設けられてい
る。この突起座4のL面は研摩仕とげしである。5は打
とげステージ2土に接着された混成集積回路基板(以下
「回路基板」と称する)で、ワイヤボンディング用バッ
ド6(アルミ材)が設けられている。7はヒートシンク
1北に接合手段により装置されたパワートランジスタ、
8はバッド6と突起座4とにワイヤボンディングされた
アルミ線である。
ヒートシンクIJ:、のパワートランジスタγの接合手
段を第4図に拡大図で示す。ヒートシンク1北面には、
はんだ付は性を向上するためニッケルめっき層11が全
面に施され、アルミナやセラミックスを基材としたメタ
ライズ絶縁板12が位置決め突起3により2辺が受けら
れ位置決めされ、はんだ材13により接合されている。
段を第4図に拡大図で示す。ヒートシンク1北面には、
はんだ付は性を向上するためニッケルめっき層11が全
面に施され、アルミナやセラミックスを基材としたメタ
ライズ絶縁板12が位置決め突起3により2辺が受けら
れ位置決めされ、はんだ材13により接合されている。
このメタライズ絶縁板12)−に銅材からなる一次ヒー
トシンク14がはんだ材13により接合されている。こ
の一次ヒートシンク14上にはんだ材13によりパワー
トランジスタチップ15が接合され、パワートランジス
タ7が形成されている。
トシンク14がはんだ材13により接合されている。こ
の一次ヒートシンク14上にはんだ材13によりパワー
トランジスタチップ15が接合され、パワートランジス
タ7が形成されている。
回路基板5の接地ラインをヒートシンク1に接地する手
段としては、ニッケルめっき層11が施されたヒートシ
ンクユにリード綴をはんだ付けする手段もあるが、作業
性が悪い。そこで、アルミ線を超音波ワイヤボンディン
グする手段が採用されていることが多い。しかし、ニッ
ケルめっき層面への超音波ワイヤボンディングは信頼性
に問題がある。これに対処し、ヒートシンク1にプレス
打玉げによる突起座4を形成し、全面に施されたニッケ
ルめっき層11のうち、突起座4面の部分を除くため研
摩しアルミ面を露出させ、アルミ線8をワイヤボンディ
ングする手段がとられている。
段としては、ニッケルめっき層11が施されたヒートシ
ンクユにリード綴をはんだ付けする手段もあるが、作業
性が悪い。そこで、アルミ線を超音波ワイヤボンディン
グする手段が採用されていることが多い。しかし、ニッ
ケルめっき層面への超音波ワイヤボンディングは信頼性
に問題がある。これに対処し、ヒートシンク1にプレス
打玉げによる突起座4を形成し、全面に施されたニッケ
ルめっき層11のうち、突起座4面の部分を除くため研
摩しアルミ面を露出させ、アルミ線8をワイヤボンディ
ングする手段がとられている。
上記のような従来の混成集積回路装置では、アルミヒー
トシンク1上面にニッケルめっき層11を形成するため
、面倒な曲表面処理とメツキ処理を要し、さらに、ワイ
ヤボンド用突起座4の研摩加工など多工程の加工が必要
であるという問題点があった。
トシンク1上面にニッケルめっき層11を形成するため
、面倒な曲表面処理とメツキ処理を要し、さらに、ワイ
ヤボンド用突起座4の研摩加工など多工程の加工が必要
であるという問題点があった。
また、パワートランジスタ7はアルミヒートシンク1と
絶縁するためメタライズ絶縁板ユ2を介しはんだ付は接
合されているが、ヒートシンク1と絶縁板12との熱膨
張係数の差により、はんだ層13が熱疲労のだめ割れる
という問題点があった。
絶縁するためメタライズ絶縁板ユ2を介しはんだ付は接
合されているが、ヒートシンク1と絶縁板12との熱膨
張係数の差により、はんだ層13が熱疲労のだめ割れる
という問題点があった。
なお、アルミの外の金層をヒートシンクとして使用する
場合は、回路基板5の接地ラインをヒートシンクに接地
する手段として、ワイヤボンディングを用いるには、ワ
イヤボンド川岸として、ヒートシンクにアルミ材を埋込
むか、又はアルミクラツド材を使用しなければならず、
前者は加工骨が高くなり、後者は材料費が高くなるとい
う問題点があった。
場合は、回路基板5の接地ラインをヒートシンクに接地
する手段として、ワイヤボンディングを用いるには、ワ
イヤボンド川岸として、ヒートシンクにアルミ材を埋込
むか、又はアルミクラツド材を使用しなければならず、
前者は加工骨が高くなり、後者は材料費が高くなるとい
う問題点があった。
この発明は、このような問題点を解決するためになされ
たもので、ヒートシンクにアルミ線の超音波ワイヤボン
ディングのだめのプレス加工による突起座を不要とし、
安価な材料によりヒートシンクとし、1而のニッケルめ
っきのための前処理を容易にし、加工工程数を減少し、
パワー半導体装置のメタライズ絶縁板とヒートシンクの
熱膨張係数の差による双方間のはんだ層の割れをなくし
た混成集積回路装置を得ることを目的としている。
たもので、ヒートシンクにアルミ線の超音波ワイヤボン
ディングのだめのプレス加工による突起座を不要とし、
安価な材料によりヒートシンクとし、1而のニッケルめ
っきのための前処理を容易にし、加工工程数を減少し、
パワー半導体装置のメタライズ絶縁板とヒートシンクの
熱膨張係数の差による双方間のはんだ層の割れをなくし
た混成集積回路装置を得ることを目的としている。
この発明にかかる混成集積回路装置では、第1の発明に
おいては、鉄系材によるヒートシンクを用い、このヒー
トシンク):而にニッケルめっき層を施し、この北面に
メタライズ絶縁板をはんだ付は接合し、このメタライズ
絶縁板トに第1次ヒートシンクをはんだ接合し、この第
1ヒートシンク上にパワー半導体素子をはんだ付は接合
しである。
おいては、鉄系材によるヒートシンクを用い、このヒー
トシンク):而にニッケルめっき層を施し、この北面に
メタライズ絶縁板をはんだ付は接合し、このメタライズ
絶縁板トに第1次ヒートシンクをはんだ接合し、この第
1ヒートシンク上にパワー半導体素子をはんだ付は接合
しである。
また、ヒートシンクFmのニッケルめっき層トに、アル
ミ蒸着により接地用のボンディング川岸を形成している
。ピートシンク上面のニッケルめっき層Eに混成集積回
路基板を接2& L、、この回路基板とのボンディング
用バッドとボンディング川岸とにアルミ線をワイヤボン
ディングしたものである。
ミ蒸着により接地用のボンディング川岸を形成している
。ピートシンク上面のニッケルめっき層Eに混成集積回
路基板を接2& L、、この回路基板とのボンディング
用バッドとボンディング川岸とにアルミ線をワイヤボン
ディングしたものである。
さらに、第2の発明においては、ピートシンク上面のニ
ッケルめっき層1に、混成集積回路基板及びパワー半導
体装置用のメタライズ絶縁板の各四周を囲う位置に、位
置決めパターン突起層をアルミ蒸着によって形成したも
のでめる。
ッケルめっき層1に、混成集積回路基板及びパワー半導
体装置用のメタライズ絶縁板の各四周を囲う位置に、位
置決めパターン突起層をアルミ蒸着によって形成したも
のでめる。
この発明においては、第1の発明では、ヒートシンクF
i鉄系材によっており、従来のアルミ材より熱膨張係数
が小さく、メタライズ絶縁板の熱膨張係数に近くされて
あり、双方間のはんだ層の割れがなくされる。また、ヒ
ートシンク1面のニッケルめっき層上に、アルミ蒸着手
段により、接地のボンディング川岸が容易に形成される
。
i鉄系材によっており、従来のアルミ材より熱膨張係数
が小さく、メタライズ絶縁板の熱膨張係数に近くされて
あり、双方間のはんだ層の割れがなくされる。また、ヒ
ートシンク1面のニッケルめっき層上に、アルミ蒸着手
段により、接地のボンディング川岸が容易に形成される
。
さらに、第2の発明では、ヒートシンクと面のニッケル
めっき層上に、混成集積回路基板及びメタライズ絶縁板
の位置決めパターン突起層が、アルミの選択蒸着によう
アルミ蒸着座と同一工程により形成される。
めっき層上に、混成集積回路基板及びメタライズ絶縁板
の位置決めパターン突起層が、アルミの選択蒸着によう
アルミ蒸着座と同一工程により形成される。
第1図(a)及び(b)は、この発明の一実施例による
混成集積回路装置の平面図及び正面図である。21は鋼
板又はニッケル合金鉄板など鉄系材からなるヒートシン
クで、熱膨張係数が丑記従来のアルミヒートシンク1よ
シ小さく、メタライズ絶縁板12に近いものにしである
。このヒートシンク21の上面には、第2図に示すよう
にニッケルめっき層11が施されている。このニッケル
めっきは、鉄系材のめつきであるので、アルミの場合よ
う前処理か容易になる。
混成集積回路装置の平面図及び正面図である。21は鋼
板又はニッケル合金鉄板など鉄系材からなるヒートシン
クで、熱膨張係数が丑記従来のアルミヒートシンク1よ
シ小さく、メタライズ絶縁板12に近いものにしである
。このヒートシンク21の上面には、第2図に示すよう
にニッケルめっき層11が施されている。このニッケル
めっきは、鉄系材のめつきであるので、アルミの場合よ
う前処理か容易になる。
第1図に返り、22及び23は回路基板5及びメタライ
ズ絶縁板12に対応し各四周を囲う位置に、アルミ蒸着
により形成された位置決めパターン突起層である。
ズ絶縁板12に対応し各四周を囲う位置に、アルミ蒸着
により形成された位置決めパターン突起層である。
これらの突起層22及び23内に、回路基板5及びメタ
ライズ絶縁板12を位置決めし接合すればよく、自動化
による装着が容易に施行される。
ライズ絶縁板12を位置決めし接合すればよく、自動化
による装着が容易に施行される。
次に、24はヒートシンク21b面のニッケルめっき層
11五に、アルミ蒸着により形成された、接地用のボン
ディング川岸である。
11五に、アルミ蒸着により形成された、接地用のボン
ディング川岸である。
第1図(b)のA部の拡大図を第2図に示す。ヒートシ
ンク21五面に施されたニッケルめっき層ll上に、位
置決めパターン突起層22により回路基板5を位置決め
し、接着剤16により接着している。この接着剤16は
シリコン系接着剤など軟性樹脂材によっている。これは
、鉄系のヒートシンク21であっても、回路基板5の基
板材であるアルミナ材との熱膨張係数の差により、回路
基板5が割れることがあるのを防ぐためである。
ンク21五面に施されたニッケルめっき層ll上に、位
置決めパターン突起層22により回路基板5を位置決め
し、接着剤16により接着している。この接着剤16は
シリコン系接着剤など軟性樹脂材によっている。これは
、鉄系のヒートシンク21であっても、回路基板5の基
板材であるアルミナ材との熱膨張係数の差により、回路
基板5が割れることがあるのを防ぐためである。
一方、ヒートシンク21上面のニッケルめっき層11b
に、b1第4図と同様に、メタライズ絶縁板IZ、ヒー
トシンク14.パワートランジスタ素子15とをそれぞ
れはんだ付けにより順に接合する。
に、b1第4図と同様に、メタライズ絶縁板IZ、ヒー
トシンク14.パワートランジスタ素子15とをそれぞ
れはんだ付けにより順に接合する。
次に、回路基板5の接地ラインに設けられたボンデイン
ク用パッド6と、ヒートシンク21のポンディング#J
座24とを、アルミ線8により超音波ワイヤボンディン
グする。
ク用パッド6と、ヒートシンク21のポンディング#J
座24とを、アルミ線8により超音波ワイヤボンディン
グする。
なお、上記実施例の位置決めパターン突起層22゜23
及びポンディング月産24の形成は、メタルマスクなど
を用い、アルミの選択蒸着によっているが、全面アルミ
蒸着をして後、エツチングによりパターンを形成するよ
うにしてもよい。
及びポンディング月産24の形成は、メタルマスクなど
を用い、アルミの選択蒸着によっているが、全面アルミ
蒸着をして後、エツチングによりパターンを形成するよ
うにしてもよい。
また、上記実施例では、回路基板5及びメタライズ41
!!縁板12の位置決めとして、アルミ蒸着による位置
決めパターン突起層22及び23を形成したが、上記従
来のように、プレス加工による位置決め突起3を設けて
もよい。
!!縁板12の位置決めとして、アルミ蒸着による位置
決めパターン突起層22及び23を形成したが、上記従
来のように、プレス加工による位置決め突起3を設けて
もよい。
さらに、J:aピ実流側では、パワー半導体装置として
パワートランジスタ7の場合を示したが、他の種のパワ
ー半導体装置の場合にも適用できるものである。
パワートランジスタ7の場合を示したが、他の種のパワ
ー半導体装置の場合にも適用できるものである。
以とのように、この発明にょnば、第1の発明では、ア
ルミヒートシンクに代え鉄系のヒートシンクを用い、熱
膨張係数を小さくシ、メタライズ絶縁板との熱膨最差を
減小したので、双方間のはんだ層の割れがなくさ几、安
価になる。また、ヒ−) ’/ ンク)、 U¥Iのニ
ッケルめっき層の形成の工程が容易になる。さらに、ヒ
ートシンクの接地F@υワイヤボンディング用座用岸ル
ミ蒸着により形成したので、従来に比ベニ作が簡単にな
り生忙性が向とされる。
ルミヒートシンクに代え鉄系のヒートシンクを用い、熱
膨張係数を小さくシ、メタライズ絶縁板との熱膨最差を
減小したので、双方間のはんだ層の割れがなくさ几、安
価になる。また、ヒ−) ’/ ンク)、 U¥Iのニ
ッケルめっき層の形成の工程が容易になる。さらに、ヒ
ートシンクの接地F@υワイヤボンディング用座用岸ル
ミ蒸着により形成したので、従来に比ベニ作が簡単にな
り生忙性が向とされる。
第2の発明においては、回路基板及びパワー半導体装置
用のメタライズ絶は板の位置決め手段として、ヒートシ
ンクと面のニッケルめっき層丘に回路基板及びメタライ
ズ絶縁板の四周を囲う位置に、アルミ蒸事により位置決
めパターン突起層を形成したので、位置決め手段が精關
筒<容易に施される。
用のメタライズ絶は板の位置決め手段として、ヒートシ
ンクと面のニッケルめっき層丘に回路基板及びメタライ
ズ絶縁板の四周を囲う位置に、アルミ蒸事により位置決
めパターン突起層を形成したので、位置決め手段が精關
筒<容易に施される。
第1図(a)及び(b)はこの発明の一実施例による混
成集積回路装置の平面図及び正面図、第2図は第1図(
b)のA部の拡大図、第3図(a)及び<b>は従来の
混成集積回路装置の平面図及び正面図、WJ4図は第3
図(b)のパワートランジスタ部の拡大図である。 3・・・位置決め突起、5・・・混成集積回路基板、6
・・・ワイヤボンディング用パッド、7・・・パワー半
導体装置(パワートランジスタ)、8・・・アルミ線、
11・・・ニッケルめっき層、12・・・メタライズ絶
縁板、13・・・はんだ材、14・・・一次ヒートシン
ク、15・・・パワー半導体素子(パワートランジスタ
素子)、16・・・y着剤、21・・ヒートシンク、2
2.23・・・位置決めパターン突起層、24・・・接
地用ポンディング月産 なお、図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
成集積回路装置の平面図及び正面図、第2図は第1図(
b)のA部の拡大図、第3図(a)及び<b>は従来の
混成集積回路装置の平面図及び正面図、WJ4図は第3
図(b)のパワートランジスタ部の拡大図である。 3・・・位置決め突起、5・・・混成集積回路基板、6
・・・ワイヤボンディング用パッド、7・・・パワー半
導体装置(パワートランジスタ)、8・・・アルミ線、
11・・・ニッケルめっき層、12・・・メタライズ絶
縁板、13・・・はんだ材、14・・・一次ヒートシン
ク、15・・・パワー半導体素子(パワートランジスタ
素子)、16・・・y着剤、21・・ヒートシンク、2
2.23・・・位置決めパターン突起層、24・・・接
地用ポンディング月産 なお、図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (2)
- (1)アルミ材より熱膨張係数の小さい鉄系材からなり
上面にニッケルめつき層が形成されたヒートシンク、こ
のヒートシンク上面のニッケルめつき層上にアルミ蒸着
により形成された接地用のワイヤボンディング用座、上
記ニッケルめつき層上に位置決めし接着剤により接着さ
れた混成集積回路基板、上記ニッケルめつき層上に位置
決めし、順次重ねられそれぞれはんだ付けにより結合さ
れたメタライズ絶縁板、一次ヒートシンク及びパワー半
導体素子、上記混成集積回路基板上のワイヤボンディン
グ用パッドと上記ワイヤボンディング用座とにワイヤボ
ンディングされたアルミ線を備えた混成集積回路装置。 - (2)ヒートシンク上の混成集積回路基板及びメタライ
ズ絶縁板の位置決め手段として、ヒートシンク上面のニ
ッケルめつき層上に、混成集積回路基板及びメタライズ
絶縁板の四周を囲う位置に、アルミ蒸着による位置決め
パターン突起層をそれぞれ形成したことを特徴とする請
求項1記載の混成集積回路装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14499290A JPH0437159A (ja) | 1990-06-01 | 1990-06-01 | 混成集積回路装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14499290A JPH0437159A (ja) | 1990-06-01 | 1990-06-01 | 混成集積回路装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0437159A true JPH0437159A (ja) | 1992-02-07 |
Family
ID=15374960
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14499290A Pending JPH0437159A (ja) | 1990-06-01 | 1990-06-01 | 混成集積回路装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0437159A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0895446A2 (de) * | 1997-07-31 | 1999-02-03 | GKR Gesellschaft für Fahrzeugklimaregelung mbH | Regler für einen Elektromotor mit Regelschaltung und Leistungshalbleiter |
JP2008034759A (ja) * | 2006-07-31 | 2008-02-14 | Sanyo Electric Co Ltd | 回路装置 |
-
1990
- 1990-06-01 JP JP14499290A patent/JPH0437159A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0895446A2 (de) * | 1997-07-31 | 1999-02-03 | GKR Gesellschaft für Fahrzeugklimaregelung mbH | Regler für einen Elektromotor mit Regelschaltung und Leistungshalbleiter |
EP0895446A3 (de) * | 1997-07-31 | 2000-08-30 | GKR Gesellschaft für Fahrzeugklimaregelung mbH | Regler für einen Elektromotor mit Regelschaltung und Leistungshalbleiter |
JP2008034759A (ja) * | 2006-07-31 | 2008-02-14 | Sanyo Electric Co Ltd | 回路装置 |
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