JPH04368709A - 非還元性誘電体磁器組成物 - Google Patents

非還元性誘電体磁器組成物

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JPH04368709A
JPH04368709A JP3144765A JP14476591A JPH04368709A JP H04368709 A JPH04368709 A JP H04368709A JP 3144765 A JP3144765 A JP 3144765A JP 14476591 A JP14476591 A JP 14476591A JP H04368709 A JPH04368709 A JP H04368709A
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Norio Nakajima
規巨 中島
Koji Nanbu
南部 幸二
Yasuyuki Naito
康行 内藤
Masashi Morimoto
森本 正士
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば積層コンデンサ
等のセラミック電子部品に用いられる非還元性誘電体磁
器組成物に関し、特に、内部電極として卑金属材料を用
いることを可能とする非還元性誘電体磁器組成物に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来、高誘電率系の積層コンデンサを得
るにあたっては、BaTiO3 を主成分とする誘電体
材料が用いられている。すなわち、上記誘電体材料を用
いてセラミックグリーンシートを成形し、内部電極材料
を間に介して積層し、圧着した後空気中で1250℃〜
1350℃で内部電極材料及びセラミックスを一体焼成
することにより、積層コンデンサを製造していた。従っ
て、内部電極材料は、(1)上記焼成温度に耐え得る高
融点のものであること、ならびに(2)空気中で焼成し
た場合でも酸化されないものであることが求められてい
る。そこで、内部電極材料としては、従来、白金、金も
しくはパラジウムまたはこれらの合金のような貴金属が
用いられていた。しかしながら、貴金属は非常に高価で
ある。従って、内部電極のコストが積層コンデンサ全体
のコストのかなりの程度を占めるため、製造コストの低
減が求められている。
【0003】そこで、貴金属に代えて、安価な卑金属を
内部電極材料として用いる方法が試みられている。もっ
とも、NiやCu等の卑金属からなる内部電極材料は、
空気中で焼成を行うと容易に酸化される。従って、焼成
を中性または還元性雰囲気中で行わねばならなかった。 のみならず、従来から用いられている誘電体磁器組成物
材料を卑金属からなる内部電極材料と共に焼成すると、
セラミックスが半導体化するという問題もあった。
【0004】他方、特公昭57−42588号公報では
、上記のような問題を解決するために、チタン酸バリウ
ム系固溶体において、バリウムサイト/チタンサイトを
化学量論比よりも過剰にした誘電体材料を用いることが
提案されている。このような誘電体材料を用いれば、還
元性雰囲気中で焼成した場合であっても、半導体化が生
じない誘電体セラミックスを得ることができ、かつ内部
電極としてNi等の卑金属を使用することが可能となる
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た先行技術の誘電体材料では、チタンの還元を抑制する
ために、アクセプターが過剰に加えられている。この過
剰に加えられたアクセプターにより、セラミックスが電
気的に中性にならないせいか、上記先行技術により得ら
れた積層コンデンサでは、従来の貴金属を内部電極とし
て使用した積層コンデンサに比べて、絶縁抵抗等の特性
の経時的な変化が生じ易いという欠点があった。
【0006】よって、本発明の目的は、卑金属を内部電
極として用いた場合であっても、従来の貴金属内部電極
を使用した積層電子部品と同等の特性を有し、かつ経時
により特性の劣化が生じ難い積層電子部品を得ることを
可能とする非還元性誘電体磁器組成物を提供することに
ある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記の一般式
(I)で示される主成分100モル%に対し、MnをM
nOまたはMnCO3 の形態で0.05〜2.0モル
%添加して得られた組成100重量部と、Li2 Oを
2〜45モル%、RO(但し、RはBa、Sr、Ca、
Mgのうち少なくとも1種)を5〜40モル%、(Ti
,Si)O2 [但し、(Ti,Si)O2 はそのう
ちSiO2 を15モル%以上含有している]を30〜
70モル%含有する非還元性ガラス0.05〜5.0重
量部とを含む、非還元性誘電体磁器組成物である。
【0008】
【化2】
【0009】但し、式(I)において、x、m、n、o
、p、qは、下記の関係を満足する。 0<x≦0.30 0<m≦0.30 0<n≦0.02 0.0005≦o≦0.02 0.05≦p≦0.30 1.002≦q≦1.030 一般式(I)において、x、m、n、o、p及びqを上
記の範囲に限定したのは、下記の理由による。
【0010】xが0.30を超えると、Sr量が増大し
、キュリー点がマイナス側にシフトしようとし、温度特
性及び周波数特性が劣化するからである。また、mが0
.30を超えると、Ca量が過剰となり、焼結性が低下
し、かつ誘電率も低下するからである。さらに、nが0
.02を超えると、Mgが過剰となり、焼結性が極度に
低下し、好ましくないからである。oを0.0005〜
0.02の範囲としたのは、0.0005未満では、ア
クセプター濃度の過剰により高温負荷におけるライフ特
性及び高温における絶縁抵抗が低下するからであり、0
.02モル%を超えると、Ceの還元により同様に絶縁
抵抗が低下するからである。
【0011】pを0.05〜0.30の範囲としたのは
、0.05未満ではキュリー点がプラス側にシフトし、
誘電正接が大きくなりすぎるからであり、0.3を超え
ると焼結性が低下し、誘電率が低下するからである。ま
た、モル比qを1.002〜1.03の範囲としたのは
、1.002未満では、還元性雰囲気中で焼成した場合
に、セラミックスが還元され、絶縁抵抗が低下するから
であり、他方、1.03を超えると焼結性が悪化し、好
ましくないからである。
【0012】また、本発明において、上記一般式(I)
で示される主成分100モル%に対し、MnをMnOま
たはMnCO3 の形態で0.05〜2.0モル%添加
しているのは、以下の理由による。MnOまたはMnC
O3の添加量が0.05モル%未満の場合には絶縁抵抗
が小さくなりすぎ、他方、2.0モル%を超えて添加す
ると、高温における絶縁抵抗が小さくなり、かつ高温に
おける長時間使用の場合の信頼性が低下するからである
【0013】本発明において、上記非還元性ガラスを添
加しているのは、焼結助剤及び電荷補償剤として作用さ
せるためである。非還元性ガラスを0.05〜5.0重
量部の範囲で配合するのは、0.05重量部未満では焼
結性が悪化し、電荷補償効果が低く、高温におけるライ
フ特性が劣化するからであり、他方、5.0重量部を超
えて含有させた場合には、ガラス成分の偏析により結晶
粒径が5μm以上となり、素子の薄膜化に適しないから
である。
【0014】
【作用及び発明の効果】本発明の非還元性誘電体磁器組
成物は、一般式(I)で示した上記特定の主成分100
モル%に対し、Mnを上記特定の割合で添加した組成1
00重量部に対し、上記特定の非還元性ガラスを0.0
5〜5.0重量部の割合で含有しているため、高温にお
いて長時間使用した場合であって絶縁抵抗の劣化の少な
い信頼性に優れた積層電子部品を得ることができる。こ
れは、上記のように希土類を含む非還元性誘電体磁器組
成物を用いているため、アクセプター濃度の過剰による
絶縁抵抗の低下が抑制され、さらに非還元性ガラス成分
が添加されているため、セラミックスが電気的な中性に
近づけられ、それによって貴金属を用いた従来の積層コ
ンデンサと同程度に絶縁抵抗の劣化が生じ難い誘電体磁
器を実現し得ることによると考えられる。
【0015】また、本発明では、上記特定の非還元性ガ
ラスが焼結助剤としても作用するため、焼成温度が10
0〜180℃程度に下げられる。よって、内部電極材料
として、ニッケル等の卑金属材料を内部電極材料として
用いるのに適した誘電体磁器組成物を提供することがで
きる。
【0016】
【実施例の説明】まず、原料として、BaCO3 、S
rCO3 、CaCO3 、MnCO3 、CeO2 
、TiO2 、ZrO2 及びMnOを用意した。これ
らの原料を、一般式(I)のx、m、n、o、p及びq
が表1に示す割合となるように配合し、配合原料を得た
。得られた配合原料をボールミルで湿式混合し、粉砕し
た後乾燥し、空気中、1150℃で2時間仮焼し、仮焼
物を得た。この仮焼物に、ポリビニルブチラール・バイ
ンダー、可塑剤、トルエン−エタノール系溶剤及び非還
元性ガラスを添加し、ボールミルで混合し、粉砕するこ
とよりスラリーを調製した。なお、使用した非還元性ガ
ラスは、Li2 Oを30モル%、CaOを15モル%
、SiO2 を50モル%、TiO2 を5モル%から
なる混合物を1000℃にて溶融したものであり、上述
した仮焼物100重量%に対し、表1に示す数値(単位
は重量%)の割合で添加した。
【0017】得られたスラリーをドクターブレード法に
より成形し、セラミックグリーンシートを得た。得られ
たグリーンシートを積層し、厚み方向に熱圧着した後、
打ち抜きにより直径10mm及び厚さ1mmの円板を得
た。この円板を空気中で500℃まで加熱し、有機バイ
ンダーを燃焼させた後、酸素分圧が1×10−8〜1×
1011atmのH2 −N2−H2 Oからなる還元
性雰囲気中において、1050℃〜1200℃で2時間
焼成し、焼結体を得た。上記のようにして得られた焼結
体の両主面にIn−Ga合金を塗布し、特性測定用試料
とした。
【0018】得られた試料について、静電容量(C)及
び誘電正接(tanδ)を自動ブリッジを用いて1kH
z及び1Vrms の条件で測定した。また、絶縁抵抗
(IR)は、高絶縁計によって500Vの直流電圧を2
分間印加した後の値を測定した。絶縁抵抗pは、25℃
及び85℃の値をそれぞれ測定し、それぞれの抵抗率の
対数(logρ)を算出した。さらに、試料の結晶粒径
を試料表面を電子顕微鏡で観察することにより測定した
。これらの測定結果及び評価結果を、表2に示す。
【0019】
【表1】
【0020】
【表2】
【0021】評価結果 表1の試料1〜28のうち、*を付した試料番号1〜7
及び試料番号25〜28は、本発明の範囲外となる組成
の誘電体磁器組成物であり、試料番号8〜24は本発明
の範囲内に入る組成物の試料である。
【0022】表2から明らかなように、試料番号1では
、x=0.35とSrのモル比が本発明の範囲外である
ため、誘電率が低いことが分かる。また、試料番号2で
は、mが0.35であり、Caのモル比が大きすぎるた
め、同じく誘電率が5200とかなり低いことが分かる
。さらに、試料番号3では、n=0.03と、Mgの配
合比が大きいため、焼結性が極度に低下し、焼結体の得
られないことが分かる。
【0023】試料番号4では、Ceが配合されていない
ため(o=0)、誘電率は高いものの、結晶粒径が3.
5μmとかなり大きくなり、積層コンデンサを得ようと
した場合、誘電体層を薄くすることができないため、好
ましくない。また、絶縁抵抗IRについても、高温下に
おいて低下することが分かる。試料番号5では、oが0
.03とCeの配合比が高いため、絶縁抵抗がかなり低
下することが分かる。試料番号6では、p=0.03で
あり、Zrの配合比が低いため、誘電率が7000と低
く、誘電正接が4.5と大きく、しかも結晶粒径が3.
0μmとかなり大きいため好ましくない。試料番号7で
は、p=0.35とZrの配合比が高くなっているため
、焼結性が極度に悪化し、焼結体を得ることができなか
った。
【0024】さらに、試料番号25では、Mnの添加割
合が0.02モル%と少ないため、誘電率が6600と
低いことが分かる。逆に試料番号26では、Mnの添加
割合が2.5モル%と多過ぎるためか結晶粒径が4.5
μmとかなり大きくなり、しかも絶縁抵抗IRが高温に
おいてかなり低下することが分かる。試料番号27では
、非還元性ガラスの混合比が0.01重量部と少なく、
そのため焼結性が極度に悪化し、焼結体を得ることがで
きなかった。逆に試料番号28では、非還元性ガラスの
混合割合が5.5重量部と大きいためか、結晶粒径が1
0.0μmと非常に大きくなり、従って誘電体層を薄膜
化することができないため、小型大容量の積層コンデン
サを得ることができず、好ましくない。
【0025】これに対して、本発明の組成範囲に入る試
料番号8〜24では、いずれの場合においても8000
以上の誘電率を示し、しかも誘電正接が3.0以下と小
さく、絶縁抵抗IRの高温における劣化が生じておらず
、さらに結晶粒径が3.5μm以下と比較的小さいこと
が分かる。
【0026】よって、上記本発明の組成範囲に入る非還
元性誘電体磁器組成物を用いれば、、還元性雰囲気中で
焼成した場合であっても還元され難く、絶縁抵抗の劣化
の少ない誘電体磁器を得ることができるため、安価なニ
ッケル等の卑金属を内部電極として用いて、積層コンデ
ンサ等の積層電子部品を提供することができる。しかも
、結晶粒径が3μm以下となるため、誘電体層を薄膜化
しても誘電体層内に結晶粒が多く存在することになるた
め、信頼性に優れた高誘電体磁器を得ることができ、誘
電体層の薄膜化が容易であるため、小型大容量の積層コ
ンデンサを得ることができる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  下記の一般式(I)で示される主成分
    100モル%に対し、MnをMnOまたはMnCO3 
    の形態で0.05〜2.0モル%添加して得られた組成
    100重量部と、Li2 Oを2〜45モル%、RO(
    但し、RはBa、Sr、Ca、Mgのうち少なくとも1
    種)を5〜40モル%、(Ti,Si)O2 [但し、
    (Ti,Si)O2 はそのうちSiO2 を15モル
    %以上含有している]を30〜70モル%含有する非還
    元性ガラス0.05〜5.0重量部とを含む、非還元性
    誘電体磁器組成物。 【化1】 但し、式(I)において、x,m,n,o,p,qは以
    下の関係を満たす。 0<x≦0.30 0<m≦0.30 0<n<0.02 0.0005≦o≦0.02 0.05≦p≦0.30 1.002≦q≦1.030
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100246298B1 (ko) * 1997-01-03 2000-03-15 무라타 야스타카 반도체세라믹
JP2012051750A (ja) * 2010-08-31 2012-03-15 Tdk Corp 誘電体磁器組成物の製造方法および積層型セラミック電子部品
WO2017122382A1 (ja) * 2016-01-13 2017-07-20 株式会社村田製作所 ガラスセラミック焼結体、ガラスセラミック組成物、積層セラミックコンデンサ及び積層セラミックコンデンサの製造方法

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KR100246298B1 (ko) * 1997-01-03 2000-03-15 무라타 야스타카 반도체세라믹
JP2012051750A (ja) * 2010-08-31 2012-03-15 Tdk Corp 誘電体磁器組成物の製造方法および積層型セラミック電子部品
WO2017122382A1 (ja) * 2016-01-13 2017-07-20 株式会社村田製作所 ガラスセラミック焼結体、ガラスセラミック組成物、積層セラミックコンデンサ及び積層セラミックコンデンサの製造方法

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