JPH04364752A - 半導体基板処理システム - Google Patents

半導体基板処理システム

Info

Publication number
JPH04364752A
JPH04364752A JP14022091A JP14022091A JPH04364752A JP H04364752 A JPH04364752 A JP H04364752A JP 14022091 A JP14022091 A JP 14022091A JP 14022091 A JP14022091 A JP 14022091A JP H04364752 A JPH04364752 A JP H04364752A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
processing
semiconductor substrate
transport
transfer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP14022091A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenichi Nakayama
健一 中山
Yoshinori Okawachi
義徳 大川内
Shoichi Kodama
祥一 児玉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Toshiba Electronic Device Solutions Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Microelectronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Toshiba Microelectronics Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP14022091A priority Critical patent/JPH04364752A/ja
Publication of JPH04364752A publication Critical patent/JPH04364752A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体基板処理システ
ムに関するものであり、特に半導体基板の搬送機構の制
御に使用されるものである。
【0002】
【従来の技術】以下、図6を参照しながら従来の半導体
基板(以下、ウェーハとする)処理システムについて説
明する。図6は、従来のウェーハ処理装置が複数個配設
された平面配置図である。
【0003】図6に示すウェーハ処理システムにおいて
、ウェーハ収納装置61と、ウェーハ処理装置62,6
3と、バッファインタラプタ64と、ウェーハ処理装置
65と、パス装置66と、ウェーハ処理装置67,68
とウェーハ収納装置69は番号順に配置されている。
【0004】尚、各処理装置61乃至69間(例えば、
ウェーハ収納装置61とウェーハ処理装置62の間、ウ
ェーハ処理装置62とウェーハ処理装置63の間等)に
は、図示せぬ搬送機構が配設されている。制御部6bは
、通信ケーブル6cを介して各処理装置61乃至69に
接続されており、図示せぬ各搬送機構を操作する。また
、操作パネル6dは制御部6bに接続されており、操作
パネル6dから各処理の指示を制御部6bに入力してい
る。次に、図6に示す従来のウェーハ処理装置の動作に
ついて説明する。まず、オペレータは、操作パネル6d
に半導体基板処理の開始指示を入力する。
【0005】制御部6bは、この開始入力信号を受けて
、通信ケーブル6cを介して各処理装置61乃至69と
各処理装置間に配設された図示せぬ搬送機構に各制御信
号を伝送する。この制御信号を受けて、各処理装置61
乃至69は各処理を行い、処理終了後ウェーハは搬送機
構によって次の処理装置に搬送されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従来のウェーハ処理装
置においては、各処理装置が決められた順序で配置され
ているので、ウェーハの処理内容によっては、必要でな
い処理装置でもウェーハの搬送経路6a上にある為、少
なくとも一度はその必要でない処理装置上を通過させ、
この為、必要でない熱処理等が搬送に伴って自動的に行
われてしまうという問題があった。
【0007】また、ウェーハ処理条件によってはウェー
ハの処理順序を変更したい場合もあり、その場合にはウ
ェーハの搬送機構の大幅な変更が必要であるという問題
があった。
【0008】本発明は、上記実情に鑑みてなされたもの
で、ウェーハ処理装置が複数個配設された装置において
、ウェーハの搬送順序を任意に設定できる半導体基板処
理システムを提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体基板処理
システムは、半導体基板を処理する複数の処理装置と、
前記各処理装置に前記半導体基板を搬送する搬送機構と
、前記処理装置と前記搬送機構を制御する制御装置とを
具備し、前記制御装置が各前記処理装置への前記半導体
基板の搬送順序を任意に設定、変更することを特徴とす
る。
【0010】
【作用】上記構成において、制御装置は各処理装置への
搬送順序を自由に設定,変更する。設定,変更された搬
送順序に従って搬送機構と各処理装置を制御するように
、制御装置は搬送機構と各処理装置それぞれに制御信号
を伝送する。搬送機構は、制御装置からの制御信号を受
けて各処理装置に半導体基板を搬送する。半導体基板を
搬送された処理装置は、この半導体基板を処理する。
【0011】
【実施例】以下、図面を参照しながら本発明の実施例を
説明する。
【0012】図1は、本発明の実施例に係る半導体基板
(以下、ウェーハとする)処理システムである。尚、図
1は各処理装置が複数個配設された状態を平面的に示し
たものである。図2は、本発明の実施例に係るウェーハ
処理装置の電気的構成を示すブロック図である。まず、
図1に示すウェーハ処理システムの構成について説明す
る。
【0013】図1のウェーハ収納装置11は、図面左端
に配置されておりウェーハを収納するものである。ウェ
ーハ収納装置11に隣接して、ウェーハ処理装置12乃
至17が番号順に配置されている。
【0014】尚、ウェーハ収納装置11とウェーハ処理
装置12乃至17には、図2に示すセンサ261乃至2
68が各装置毎に配置されている。(例えば、ウェーハ
収納装置11にはセンサ261が備えられている。)尚
、このセンサ261乃至268は、各装置11乃至17
におけるウェーハの有無を検知するものである。
【0015】ウェーハ収納装置11とウェーハ処理装置
12乃至17に向かい合うような位置にウェーハ搬送装
置18が配置されている。尚、ウェーハ搬送装置18に
は、ウェーハ搬送装置18を移動可能とする為の図示せ
ぬ移動機構が備えられている。矢印1aは、ウェーハ搬
送装置18の移動方向を示している。矢印1bは、ウェ
ーハ搬送装置18のウェーハ受けとり方向を示している
【0016】ウェーハ収納装置11とウェーハ処理装置
12乃至17とウェーハ搬送装置18は、制御部・ウェ
ーハ処理装置通信ケーブル1cを介して制御部19に接
続されている。制御部19は、ウェーハ収納装置11と
ウェーハ処理装置12乃至17とウェーハ搬送装置18
を制御する。
【0017】また、制御部19はメインCPU21を備
える。メインCPU21は、バス27を介して操作パネ
ル1dと、HDD(ハードディスクドライブ)22と、
FDD(フロッピィディスクドライブ)23と、メモリ
24と、センサ261乃至センサ268と、ウェーハ収
納装置11と、ウェーハ処理装置12及び17と、搬送
装置18と、サブCPU251乃至257に接続されて
いる。また、制御部19は、図2に示すようにメインC
PU21の他にサブCPU251乃至257とHDD2
2とFDD23とメモリ24を備える。
【0018】尚、制御部19には操作パネル1dが接続
されている。操作パネル1dは、各処理装置の処理内容
とウェーハの搬送処理順序を制御部19へ適当な名前を
付けて登録するものである。以下、図3及び図4を参照
しながら、図1及び図2に示すウェーハ処理装置の動作
について説明する。
【0019】図3は、本発明の実施例に係るウェーハ搬
送装置における搬送処理を示すフローチャートである。 図4は、本発明の実施例に係るウェーハの処理順序を示
す図である。尚、制御部19内のメモリ24には、操作
パネル1dによって各処理装置の処理内容と、ウェーハ
の搬送処理順序が名前が付されて予め登録されている。 まず、操作パネル1dから先にメモリ24へ登録された
名前を指定する。
【0020】名前が指定されると、その指定された名前
に基づいて、操作パネル1dからメインCPU21にウ
ェーハの処理開始指示の命令及び各処理装置の処理内容
が伝達されると、図3に示すフローが開始される。ステ
ップS1では、操作パネル1dからの処理開始の指示を
確認し、フローはステップS2に進む。
【0021】ステップS2では、制御部19に登録され
ている指示された名前のウェーハ搬送処理の順序とウェ
ーハ搬送処理順序から必要な処理装置の処理内容をメモ
リ24へ格納し、図4に示すようなデータテーブルに展
開する。データテーブルの作成後、フローはステップS
3に進む。
【0022】ステップS3では、最初にウェーハを受け
取る処理装置を図4に示すデータテーブルから検索し、
ウェーハの搬送元、ウェーハの搬送先を判断する。例え
ば、図4に示すように、処理順序番号の1がウェーハ処
理装置11であり、処理順序番号の2が処理装置13の
場合、ウェーハの搬送元はウェーハ収納装置11、ウェ
ーハの搬送先は処理装置13と判断する。ウェーハの搬
送元と搬送先を判断後、フローはステップS4に進む。
【0023】ステップS4では、搬送先の処理装置13
のウェーハの受け取り状況を図2に示すセンサ263に
よってチェックする。処理装置13がウェーハを受け取
れる状況にあると判断された場合には、フローはステッ
プS5に進む。一方、ステップS4で搬送先の処理装置
13が、ウェーハを受け取れない状況にあると判断され
た場合には、フローは再びステップS4を繰り返す。
【0024】ステップS5では、ウェーハ収納装置11
からウェーハを受け取り、処理装置13に搬送するよう
にウェーハ搬送装置18へ指示を出し、フローはステッ
プS6に進む。
【0025】これにより、ウェーハ搬送装置18はウェ
ーハをウェーハ収納装置11から受け取り、ウェーハを
保持しながらウェーハ処理装置13に向かい合う位置ま
で図示せぬ移動装置によって移動し、ウェーハをウェー
ハ処理装置13にセットする。
【0026】ステップS6では、処理装置13に備えら
れた図2に示すセンサ263によって処理装置13がウ
ェーハを受け取ったか否かをチェックする。処理装置1
3がウェーハを受け取ったと判断された場合には、フロ
ーはステップS7に進む。一方、処理装置13がウェー
ハを受け取っていないと判断された場合には、フローは
再びステップS6を繰り返す。ステップS7では、ウェ
ーハ処理開始の指示がサブCPU251へ転送され、フ
ローはステップS8に進む。ステップS8では、処理装
置13で所定のウェーハ処理を開始し、フローはステッ
プS9に進む。ステップS9では、ステップS8で開始
した所定のウェーハの処理を終了し、フローは再びステ
ップS4に戻り、ステップS4以下の処理を行う。
【0027】以下、同様にして検索された制御部19の
内部データテーブルのウェーハの搬送元、搬送先に従い
各処理装置12乃至17の処理状況をチェックして、搬
送処理を行う。尚、ウェーハ処理終了後、搬送装置は再
びウェーハ収納装置11へウェーハを搬送する。ウェー
ハ収納装置11はウェーハを収納し、ウェーハ処理装置
は一連のウェーハ処理を終了する。
【0028】上記構成により、各処理装置の処理順序を
任意に組み合わせることが出来るので、一度処理を指定
したウェーハ処理装置でも再び指定する即ち、ウェーハ
搬送処理順序の中に再び指定出来る。
【0029】尚、上記実施例では、搬送装置18は、矢
印1a(ウェーハ搬送装置移動方向)のような一方向に
しか移動が出来ないが図5に示すように、搬送装置59
が中心にあるようなウェーハ処理システムにおいては、
左右両方向の移動が可能であり、図1に示す実施例と同
様の搬送処理方法が可能である。以下、図5に示すウェ
ーハ処理システムについて説明する。図5は、ウェーハ
搬送装置59が各処理装置の中心にあるウェーハ処理シ
ステムを示す図である。
【0030】図5の符号51はウェーハ収納装置であり
、符号52乃至58がウェーハ処理装置である。符号5
9は搬送装置である。ウェーハ収納装置51とウェーハ
処理装置52乃至58の各装置は、搬送装置59を取り
囲むように円形状に配置されている。
【0031】矢印5aはウェーハ搬送装置の移動方向を
示しており、ウェーハ収納装置51に対してウェーハ搬
送装置59が時計方向及び反時計方向に回転移動可能な
ことを示している。
【0032】ウェーハ収納装置51ととウェーハ処理装
置52乃至58とウェーハ搬送装置59には、制御部5
0が接続されている。また、制御部50には操作パネル
5dが接続されている。
【0033】尚、図5に示すウェーハ処理システムは、
図1に示すウェーハ処理装置と同様の動作をする。よっ
て、ここでは図5のウェーハ処理システムの動作の詳細
な説明は省略する。
【0034】
【発明の効果】上記構成により、ウェーハの搬送順序を
任意に設定、変更することが出来るので、必要な処理装
置のみの処理を行うことが出来る。よって、処理を行わ
ない装置へウェーハを搬送しなくてすみ、ウェーハの余
分な処理や、時間のロスを無くし、ウェーハ処理時間の
短縮が図れる。また、一度処理を行った装置やウェーハ
をパスした装置に対して再度処理を行うことが出来るの
で、特別な処理条件を組むことが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例に係る半導体基板処理システム
を示す図である。
【図2】本発明の実施例に係る半導体基板処理システム
のブロック図である。
【図3】本発明の実施例に係る半導体基板処理のフロー
チャートである。
【図4】本発明の実施例に係る半導体基板の処理順序を
示す図である。
【図5】本発明の他の実施例に係る半導体基板処理シス
テムを示す図である。
【図6】従来の半導体基板処理システムを示す図である
【符号の説明】
11,51…ウェーハ収納装置、12〜17,52〜5
8…ウェーハ処理装置、18,59…ウェーハ搬送装置
、19,50…制御部、1a…ウェーハ搬送装置移動方
向、1b…ウェーハ搬送装置のウェーハ受取り方向、1
c,5c…制御部・ウェーハ処理装置通信ケーブル、1
d,5d…操作パネル、21…メインCPU、22…H
DD(ハードディスクドライブ)、23…FDD(フロ
ッピーディスクドライブ)、24…メモリ、251〜2
57…サブCPU、261〜268…センサ。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  半導体基板を処理する複数の処理手段
    と、前記各処理手段に前記半導体基板を搬送する搬送手
    段と、前記処理手段と前記搬送手段を制御する制御手段
    とを具備し、前記制御手段が各前記処理手段への前記半
    導体基板の搬送順序を任意に設定することを特徴とする
    半導体基板処理システム。
  2. 【請求項2】  前記制御手段は、同一の前記処理手段
    で少なくとも2回以上の処理を行なうように前記半導体
    基板の搬送順序を設定することを特徴とする請求項1記
    載の半導体基板処理システム。
  3. 【請求項3】  前記搬送手段は、直線方向に移動して
    前記半導体基板を処理することを特徴とする請求項1記
    載の半導体基板処理システム。
  4. 【請求項4】  前記搬送手段は、時計方向及び反時計
    方向に回転移動して前記半導体基板を搬送することを特
    徴とする請求項1記載の半導体基板処理システム。
JP14022091A 1991-06-12 1991-06-12 半導体基板処理システム Pending JPH04364752A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14022091A JPH04364752A (ja) 1991-06-12 1991-06-12 半導体基板処理システム

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14022091A JPH04364752A (ja) 1991-06-12 1991-06-12 半導体基板処理システム

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04364752A true JPH04364752A (ja) 1992-12-17

Family

ID=15263705

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14022091A Pending JPH04364752A (ja) 1991-06-12 1991-06-12 半導体基板処理システム

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04364752A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1300874A1 (en) * 2000-07-07 2003-04-09 Tokyo Electron Limited Method for maintaining processor, method of automatically inspecting processor and method of automatically resetting processor, method for self-diagnosing software for driving processor
CN102007366A (zh) * 2007-06-27 2011-04-06 布鲁克斯自动化公司 多维位置传感器
US9752615B2 (en) 2007-06-27 2017-09-05 Brooks Automation, Inc. Reduced-complexity self-bearing brushless DC motor
US11002566B2 (en) 2007-06-27 2021-05-11 Brooks Automation, Inc. Position feedback for self bearing motor

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1300874A1 (en) * 2000-07-07 2003-04-09 Tokyo Electron Limited Method for maintaining processor, method of automatically inspecting processor and method of automatically resetting processor, method for self-diagnosing software for driving processor
US7386423B2 (en) 2000-07-07 2008-06-10 Hisato Tanaka Methods of self-diagnosing software for driving processing apparatus
EP1300874A4 (en) * 2000-07-07 2008-06-18 Tokyo Electron Ltd PROCESSOR MAINTENANCE METHOD, AUTOMATIC PROCESSOR INSPECTION METHOD AND AUTOMATIC PROCESSOR RESET AND SELF-DIAGNOSTIC SOFTWARE METHOD FOR PILOTTING THE PROCESSOR
EP2031638A2 (en) 2000-07-07 2009-03-04 Tokyo Electron Limited A method of automatically resetting a processing apparatus
EP2031639A2 (en) 2000-07-07 2009-03-04 Tokyo Electron Limited A method of self-diagnosing software used to drive a processing apparatus
US7555406B2 (en) 2000-07-07 2009-06-30 Tokyo Electron Limited Method of maintaining and automatically inspecting processing apparatus
CN102007366A (zh) * 2007-06-27 2011-04-06 布鲁克斯自动化公司 多维位置传感器
JP2011517766A (ja) * 2007-06-27 2011-06-16 ブルックス オートメーション インコーポレイテッド 多次元位置センサ
US9752615B2 (en) 2007-06-27 2017-09-05 Brooks Automation, Inc. Reduced-complexity self-bearing brushless DC motor
US11002566B2 (en) 2007-06-27 2021-05-11 Brooks Automation, Inc. Position feedback for self bearing motor

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4957426B2 (ja) 塗布、現像装置及び塗布、現像装置の運転方法並びに記憶媒体
JPH0950948A (ja) 半導体製造装置の障害対処システム
JP3319993B2 (ja) 被処理体のデッドロック判定方法、被処理体のデッドロック回避方法及び処理装置
JPH04364752A (ja) 半導体基板処理システム
JP2007287909A (ja) 塗布、現像装置及び塗布、現像装置の制御方法並びに記憶媒体
JP2006339662A (ja) 半導体製造装置の障害対処システム
JPS61152354A (ja) 製造システム
US6000900A (en) Wafer cassette conveying system
JP3957445B2 (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JPH10178083A (ja) 基板搬送装置
JPH05308042A (ja) マルチリアクタタイプのプロセス設備制御装置
JP2000236008A (ja) ウエハ自動搬送システムにおける搬送制御方法
JP2008098670A (ja) 半導体製造装置の障害対処システム
JPS58145144A (ja) ウエハ−ス搬送装置
JP3924014B2 (ja) 半導体製造装置の制御装置
JPH01217938A (ja) ウエハキャリアの自動搬送スシテム
JP3128854B2 (ja) 半導体製造装置制御システム
JPH10107112A (ja) 半導体製造ラインの計測システム
JPS61208340A (ja) ポ−リング方式
EP1039507A2 (en) Production line for semiconductor devices
JPH0440501A (ja) 搬送・処理装置
JPH0750333A (ja) プロセス設備のシーケンス制御装置
JPH01243538A (ja) ウエハ移載装置の制御方法
JP2648758B2 (ja) 熱処理装置
JP2626243B2 (ja) ストレージシステム

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20000815