JPH04359731A - 雰囲気作成装置 - Google Patents
雰囲気作成装置Info
- Publication number
- JPH04359731A JPH04359731A JP13609591A JP13609591A JPH04359731A JP H04359731 A JPH04359731 A JP H04359731A JP 13609591 A JP13609591 A JP 13609591A JP 13609591 A JP13609591 A JP 13609591A JP H04359731 A JPH04359731 A JP H04359731A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- atmosphere
- cover body
- product
- clean air
- air
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 14
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置等のクリー
ンな雰囲気で製造する必要のある雰囲気を容易に作るこ
とができるようにした雰囲気作成装置に関するものであ
る。
ンな雰囲気で製造する必要のある雰囲気を容易に作るこ
とができるようにした雰囲気作成装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】クリーンな雰囲気を得るために、従来は
作業室全体をクリーンルームとしたり、クリーンブース
等を設けていた。また、あるガスによる雰囲気を得るた
めには、Ａｒ等の不活性ガスや、Ｈ等の還元性ガスを必
要な個所へ供給していた。
作業室全体をクリーンルームとしたり、クリーンブース
等を設けていた。また、あるガスによる雰囲気を得るた
めには、Ａｒ等の不活性ガスや、Ｈ等の還元性ガスを必
要な個所へ供給していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来のこの種の雰囲気
作りでは、例えばクリーンルームとした場合、装置から
の発塵だけでなく、周囲の治工具や、作業者の影響によ
り目的としたクリーン度が得にくく、装置のレイアウト
により気流が乱れ、クリーン度が必要である場所に異物
が舞い上がる等の問題点があった。また、ガスで雰囲気
作りをする場合、ガスの比重等によって目的とするガス
が完全に必要な個所へ行き渡らない等の問題点があった
。
作りでは、例えばクリーンルームとした場合、装置から
の発塵だけでなく、周囲の治工具や、作業者の影響によ
り目的としたクリーン度が得にくく、装置のレイアウト
により気流が乱れ、クリーン度が必要である場所に異物
が舞い上がる等の問題点があった。また、ガスで雰囲気
作りをする場合、ガスの比重等によって目的とするガス
が完全に必要な個所へ行き渡らない等の問題点があった
。
【０００４】本発明は、上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、クリーンな雰囲気を得られると
ともに、必要に応じて様々な雰囲気作りが実現できる雰
囲気作成装置を得ることを目的とする。
ためになされたもので、クリーンな雰囲気を得られると
ともに、必要に応じて様々な雰囲気作りが実現できる雰
囲気作成装置を得ることを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明に係る雰囲気作成
装置は、雰囲気作りをしたい個所をカバー本体で覆い、
このカバー本体の任意の個所から除塵フィルタを通った
クリーンエアーまたは所要のガスを供給するとともに、
カバー本体の他方から排気して、前記クリーンエアーま
たはガスに一定の流れを持たせたものである。
装置は、雰囲気作りをしたい個所をカバー本体で覆い、
このカバー本体の任意の個所から除塵フィルタを通った
クリーンエアーまたは所要のガスを供給するとともに、
カバー本体の他方から排気して、前記クリーンエアーま
たはガスに一定の流れを持たせたものである。
【０００６】
【作用】本発明においては、雰囲気作りが必要な個所を
カバー本体で覆うことにより、周囲の影響を受けず、逆
に周囲へも影響を与えにくくし、クリーンなエアーの流
れまたは所要のガスの流れを作ることで必要な雰囲気が
得られる。
カバー本体で覆うことにより、周囲の影響を受けず、逆
に周囲へも影響を与えにくくし、クリーンなエアーの流
れまたは所要のガスの流れを作ることで必要な雰囲気が
得られる。
【０００７】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図について説明す
る。図１は本発明の一実施例を示す雰囲気作成装置の構
成を示す外観斜視図で、１は製品である、例えば半導体
装置を作成する装置の雰囲気作りをしたい個所を覆うカ
バー本体、２はこのカバー本体１の上部に取り付けられ
たクリーンフィルタを備えたフィルタユニット、３は同
じく排気ファンである。
る。図１は本発明の一実施例を示す雰囲気作成装置の構
成を示す外観斜視図で、１は製品である、例えば半導体
装置を作成する装置の雰囲気作りをしたい個所を覆うカ
バー本体、２はこのカバー本体１の上部に取り付けられ
たクリーンフィルタを備えたフィルタユニット、３は同
じく排気ファンである。
【０００８】この動作は、まずカバー本体１で製造装置
、つまり半導体装置等の製品を作成する装置の全体また
は一部の雰囲気作りの必要な部分を覆い周囲と隔離する
ことにより、フィルタユニット２を通ったクリーンエア
ーが、カバー本体１で囲われた内部、すなわち製造装置
の周囲に満たされる。そこで、排気ファン３によりフィ
ルタユニット２からのクリーンエアーを排気することに
より、カバー本体１の内部でクリーンなエアーの流れが
得られる。
、つまり半導体装置等の製品を作成する装置の全体また
は一部の雰囲気作りの必要な部分を覆い周囲と隔離する
ことにより、フィルタユニット２を通ったクリーンエア
ーが、カバー本体１で囲われた内部、すなわち製造装置
の周囲に満たされる。そこで、排気ファン３によりフィ
ルタユニット２からのクリーンエアーを排気することに
より、カバー本体１の内部でクリーンなエアーの流れが
得られる。
【０００９】図２は本発明の他の実施例を示す図で、１
〜３は図１と同一構成部分を示し、４は排気ダンパ、５
は装置外へ排気するための排気ダクト、６は前記カバー
本体１へエアーをリターンするためのリターンダクト、
７はダクトボックス、８はリターンのみでは不足するエ
アーを補うための供給ダクトである。これにより、カバ
ー本体１内の製造装置付近にクリーンな雰囲気のエアー
の流れが得られる。
〜３は図１と同一構成部分を示し、４は排気ダンパ、５
は装置外へ排気するための排気ダクト、６は前記カバー
本体１へエアーをリターンするためのリターンダクト、
７はダクトボックス、８はリターンのみでは不足するエ
アーを補うための供給ダクトである。これにより、カバ
ー本体１内の製造装置付近にクリーンな雰囲気のエアー
の流れが得られる。
【００１０】また、排気ダンパ４を設けたことにより、
再利用できないエアーは排気ダクト５から排気し、再利
用可能なエアーをリターンすることにより、クリーンル
ーム内のような空調を行っている作業室の室圧バランス
への影響を小さくできる。
再利用できないエアーは排気ダクト５から排気し、再利
用可能なエアーをリターンすることにより、クリーンル
ーム内のような空調を行っている作業室の室圧バランス
への影響を小さくできる。
【００１１】なお、上記図１の実施例ではクリーンな空
気の流れを得たが、空気の代りに必要とする雰囲気ガス
を用いてもよい。ガスを完全に棄てる場合は排気ダンパ
４で調整し、補給用の供給ダクト８から必要分のエアー
を供給する。また、ガスを再利用できる場合はリターン
することにより、コストが安く、しかも流れがあるクリ
ーンな雰囲気が得られる。
気の流れを得たが、空気の代りに必要とする雰囲気ガス
を用いてもよい。ガスを完全に棄てる場合は排気ダンパ
４で調整し、補給用の供給ダクト８から必要分のエアー
を供給する。また、ガスを再利用できる場合はリターン
することにより、コストが安く、しかも流れがあるクリ
ーンな雰囲気が得られる。
【００１２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、半導体
装置等を製造する製造装置の全体または必要部分をカバ
ー本体で覆い、このカバー本体の内部にクリーンエアー
または必要なガスを供給し、このクリーンエアーまたは
ガスを任意の個所より排気することにより、前記カバー
本体内部にクリーンエアーまたは所要のガスの流れを形
成するようにしたので、製品にとって最適な雰囲気が得
られる効果がある。
装置等を製造する製造装置の全体または必要部分をカバ
ー本体で覆い、このカバー本体の内部にクリーンエアー
または必要なガスを供給し、このクリーンエアーまたは
ガスを任意の個所より排気することにより、前記カバー
本体内部にクリーンエアーまたは所要のガスの流れを形
成するようにしたので、製品にとって最適な雰囲気が得
られる効果がある。
【図１】本発明の雰囲気作成装置の一実施例を示す外観
斜視図である。
斜視図である。
【図２】本発明の他の実施例を示す外観斜視図である。
１ カバー本体
２ フィルタユニット
３ 排気ファン
４ 排気ダンパ
５ 排気ダクト
６ リターンダクト
７ ダクトボックス
８ 供給ダクト
Claims (1)
- 【請求項１】クリーンなエアー雰囲気または所要のガス
雰囲気を必要とする個所を、カバー本体で覆い、前記カ
バー本体内にこのカバー本体の任意の方向からクリーン
エアーまたは所要のガスを供給し、前記カバー本体の他
方向から排気することにより、前記カバー本体内に方向
性をもったクリーンエアー流または所要のガス流を形成
することを特徴とする雰囲気作成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13609591A JPH04359731A (ja) | 1991-06-07 | 1991-06-07 | 雰囲気作成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13609591A JPH04359731A (ja) | 1991-06-07 | 1991-06-07 | 雰囲気作成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04359731A true JPH04359731A (ja) | 1992-12-14 |
Family
ID=15167147
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13609591A Pending JPH04359731A (ja) | 1991-06-07 | 1991-06-07 | 雰囲気作成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04359731A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009127981A (ja) * | 2007-11-27 | 2009-06-11 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | クリーンルーム、成膜方法、および半導体装置の作製方法 |
-
1991
- 1991-06-07 JP JP13609591A patent/JPH04359731A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009127981A (ja) * | 2007-11-27 | 2009-06-11 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | クリーンルーム、成膜方法、および半導体装置の作製方法 |
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