JPH04356456A - N−アセチルアミノアリールスルホン酸クロライドの製造法 - Google Patents
N−アセチルアミノアリールスルホン酸クロライドの製造法Info
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- C07C303/00—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
- C07C303/02—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of sulfonic acids or halides thereof
- C07C303/22—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of sulfonic acids or halides thereof from sulfonic acids, by reactions not involving the formation of sulfo or halosulfonyl groups; from sulfonic halides by reactions not involving the formation of halosulfonyl groups
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、塩不含のN− アセチ
ルアミノアリールスルホン酸からN− アセチルアミノ
アリールスルホニルクロライドを製造のためのその利用
法に関する。
ルアミノアリールスルホン酸からN− アセチルアミノ
アリールスルホニルクロライドを製造のためのその利用
法に関する。
【0002】
【従来の技術】N− アセチルアミノスルホン酸、特に
ベンゼン及びナフタリンのそれの塩は、一部その対応す
る遊離の酸たとえばN− アセチルスルフアニル酸(p
− アセトアミノベンゼンスルホン酸、p− アセトア
ニリンスルホン酸)及びN− アセチルナフチオン酸(
4− アセトアミノナフタリンスルホン酸− 1)と共
に、古くから知られている。
ベンゼン及びナフタリンのそれの塩は、一部その対応す
る遊離の酸たとえばN− アセチルスルフアニル酸(p
− アセトアミノベンゼンスルホン酸、p− アセトア
ニリンスルホン酸)及びN− アセチルナフチオン酸(
4− アセトアミノナフタリンスルホン酸− 1)と共
に、古くから知られている。
【0003】N− アセチルアミノアリールスルホン酸
の製造のために、一つはN− アセチルアミノアレーン
へのスルホン酸基の導入と、他方ではアミノアリールス
ルホン酸のアミノ基へのアセチル化とは原則として区別
しうる。
の製造のために、一つはN− アセチルアミノアレーン
へのスルホン酸基の導入と、他方ではアミノアリールス
ルホン酸のアミノ基へのアセチル化とは原則として区別
しうる。
【0004】製造方法の前者の群から下記の事が言える
:発煙硫酸へのアセトアニリドの導入及び生じた溶液の
数時間の加熱:N− アセチルアミノベンゼンスルホン
酸の単離は不可能であった(Ber.18(1885)
296参照)。これに対し、発煙硫酸を用いてp− ア
セトアニリンスルホン及び、p− トルイジンの及び1
,4,2− キシリジンのN− アセチル化スルホン酸
を結晶形態で得ることができた(Ber.33(190
0)1364/6)。またN− アセチルスルフアニル
酸は、アセトアニリドから“アセチル硫酸”(濃硫酸と
無水酢酸からの)を用いて得られる(Ber.42(1
909)4539)。動力学的研究に基づいて、70%
の含水硫酸より大なる濃度においてスルホン化がN−
アセチル基の加水分解に勝ることが確認された (Ch
em. & Ind.36(1970)1172,Te
trahedron Letters 1971,21
61/2)。最後に、スルホン酸基の導入のためにアセ
トアニリドの核ハロゲン置換生成物が酸性又は中性亜硫
酸塩と反応させられてN− アセチルアミノベンゼンス
ルホン酸又はその塩を形成する(西独国特許明細書第1
01777号、Friedl. 5 754/6)。
:発煙硫酸へのアセトアニリドの導入及び生じた溶液の
数時間の加熱:N− アセチルアミノベンゼンスルホン
酸の単離は不可能であった(Ber.18(1885)
296参照)。これに対し、発煙硫酸を用いてp− ア
セトアニリンスルホン及び、p− トルイジンの及び1
,4,2− キシリジンのN− アセチル化スルホン酸
を結晶形態で得ることができた(Ber.33(190
0)1364/6)。またN− アセチルスルフアニル
酸は、アセトアニリドから“アセチル硫酸”(濃硫酸と
無水酢酸からの)を用いて得られる(Ber.42(1
909)4539)。動力学的研究に基づいて、70%
の含水硫酸より大なる濃度においてスルホン化がN−
アセチル基の加水分解に勝ることが確認された (Ch
em. & Ind.36(1970)1172,Te
trahedron Letters 1971,21
61/2)。最後に、スルホン酸基の導入のためにアセ
トアニリドの核ハロゲン置換生成物が酸性又は中性亜硫
酸塩と反応させられてN− アセチルアミノベンゼンス
ルホン酸又はその塩を形成する(西独国特許明細書第1
01777号、Friedl. 5 754/6)。
【0005】これらの方法の総てが、工業規模でのN−
アセチルアミノアリールスルホン酸の製造のために適
していない。
アセチルアミノアリールスルホン酸の製造のために適
していない。
【0006】上述の製造法の後者の群からは下記の事が
云える:たとえば水溶液中のスルフエニル酸ナトリウム
のケテンとの反応(西独国特許明細書第453577号
、Friedl. 16 237/9)。ケテンの毒
性及び取扱いのむずかしさの故に、この方法は工業的規
模での実施にあまり適しない。
云える:たとえば水溶液中のスルフエニル酸ナトリウム
のケテンとの反応(西独国特許明細書第453577号
、Friedl. 16 237/9)。ケテンの毒
性及び取扱いのむずかしさの故に、この方法は工業的規
模での実施にあまり適しない。
【0007】ベンゼン及びナフタリンのアミノスルホン
酸の乾いた粉末状のNa− 、K− 、Ba塩と無水酢
酸との反応(Ber.17(1884)707/8、2
1(1888)2579/82、39(1906)15
59/70、58(1925)2287、J. Pra
kt. Chem. (2)63(1901)406/
9)、又はNa塩と氷酢酸との反応(西独国特許明細書
第92796、Friedl. 4 1152)。
酸の乾いた粉末状のNa− 、K− 、Ba塩と無水酢
酸との反応(Ber.17(1884)707/8、2
1(1888)2579/82、39(1906)15
59/70、58(1925)2287、J. Pra
kt. Chem. (2)63(1901)406/
9)、又はNa塩と氷酢酸との反応(西独国特許明細書
第92796、Friedl. 4 1152)。
【0008】水溶液又は懸濁物中のベンゼン及びナフタ
リン系列のアミノスルホン酸の塩と無水酢酸との反応(
西独国特許明細書第129000、Friedl. 6
215/7、Ber.46(1913)777、B
ull. Soc. Chim. France (5
)21(1954)97/8、又は酢酸及び無水酢酸と
の反応(西独国特許明細書段410364、Fried
l, 15 133、Ber.33(1900)41
7、J. Org. Chem 6,25(1941
))。
リン系列のアミノスルホン酸の塩と無水酢酸との反応(
西独国特許明細書第129000、Friedl. 6
215/7、Ber.46(1913)777、B
ull. Soc. Chim. France (5
)21(1954)97/8、又は酢酸及び無水酢酸と
の反応(西独国特許明細書段410364、Fried
l, 15 133、Ber.33(1900)41
7、J. Org. Chem 6,25(1941
))。
【0009】ピリジン中のベンゼン及びナフタリンのア
ミノスルホン酸と無水酢酸との、場合により氷酢酸の添
加下での反応 (J. Soc. Chem.Ind.
46(1927)224T/226T、47(1928
)155T〜157T、J. Soc. Dyers
Colourists 59 (1943 91
44 28、Synthesis 12,1974、
877/8)。
ミノスルホン酸と無水酢酸との、場合により氷酢酸の添
加下での反応 (J. Soc. Chem.Ind.
46(1927)224T/226T、47(1928
)155T〜157T、J. Soc. Dyers
Colourists 59 (1943 91
44 28、Synthesis 12,1974、
877/8)。
【0010】上述の方法においてアセチルアミノアリー
ルスルホン酸の塩(金属又はピリジニウム塩)をもたら
すが、遊離のアミノアリールスルホン酸のアセチル化は
、例外的場合、たとえばo− トルイジンスルホン酸の
場合にのみうまく行く(Ber.17(1884)70
7/8)。o− 、m− 及びp− アミノベンゼンス
ルホン酸は、100〜140℃に10時間加熱しても無
水酢酸と反応しない (Bull. Soc.Chim
.France(5)21(1954)98)。
ルスルホン酸の塩(金属又はピリジニウム塩)をもたら
すが、遊離のアミノアリールスルホン酸のアセチル化は
、例外的場合、たとえばo− トルイジンスルホン酸の
場合にのみうまく行く(Ber.17(1884)70
7/8)。o− 、m− 及びp− アミノベンゼンス
ルホン酸は、100〜140℃に10時間加熱しても無
水酢酸と反応しない (Bull. Soc.Chim
.France(5)21(1954)98)。
【0011】N− アセチルスルフエニル酸のNa塩を
作る好ましい工業的方法は従来、水溶液中のスルフエニ
ル酸ナトリウム(スルフアニル酸と炭酸ナトリウムから
の)と無水酢酸との反応であった (Ullmanns
Encyclopaedie der Techni
schen Chemie、第4版、第8巻、426ペ
ージ、BIOS Final Rept. No 11
49、125/6ページによる)。
作る好ましい工業的方法は従来、水溶液中のスルフエニ
ル酸ナトリウム(スルフアニル酸と炭酸ナトリウムから
の)と無水酢酸との反応であった (Ullmanns
Encyclopaedie der Techni
schen Chemie、第4版、第8巻、426ペ
ージ、BIOS Final Rept. No 11
49、125/6ページによる)。
【0012】遊離のN− アセチルアミノアリールスル
ホン酸は、その塩の水溶液から強酸である鉱酸での処理
によって得られる(西独国特許出願J4736、 F
riedl. 5756、Ber.39(1906)1
559/70)。その際、著しい量の鉱酸の塩を含む酸
が生じ、これはなる程酸の再生を不可能にはしないが、
これに関係するコストを著しく高くする。
ホン酸は、その塩の水溶液から強酸である鉱酸での処理
によって得られる(西独国特許出願J4736、 F
riedl. 5756、Ber.39(1906)1
559/70)。その際、著しい量の鉱酸の塩を含む酸
が生じ、これはなる程酸の再生を不可能にはしないが、
これに関係するコストを著しく高くする。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】コスト及び環境問題の
理由から、遊離の形のアミノアリールスルホン酸をアセ
チル化できる方法に対する差し迫った必要性が存在して
いる。
理由から、遊離の形のアミノアリールスルホン酸をアセ
チル化できる方法に対する差し迫った必要性が存在して
いる。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明者は、アミノアリ
ールスルホン酸が溶媒としての硫酸中で無水酢酸又は塩
化アセチルによってアセチル化されてN− アセチルア
ミノアリールスルホン酸を生じることを見い出した。
ールスルホン酸が溶媒としての硫酸中で無水酢酸又は塩
化アセチルによってアセチル化されてN− アセチルア
ミノアリールスルホン酸を生じることを見い出した。
【0015】本発明者は、無水酢酸又は塩化アセチルで
のアミノアリールスルホン酸のアセチル化によってN−
アセチルアミノアリールスルホン酸を作る方法におい
て、アチル化を溶媒としての硫酸中で行うことを特徴と
する方法を見い出した。
のアミノアリールスルホン酸のアセチル化によってN−
アセチルアミノアリールスルホン酸を作る方法におい
て、アチル化を溶媒としての硫酸中で行うことを特徴と
する方法を見い出した。
【0016】無水酢酸の場合、酢酸が形成され、これは
反応混合物中に残り、塩化アセチルの場合には気体状の
HClが逃げる。
反応混合物中に残り、塩化アセチルの場合には気体状の
HClが逃げる。
【0017】硫酸は好ましくは、少量の水及び/又はジ
メチルホルムアミド及び/又はN−メチルピロリドンを
含むのがよい。有利には、各々硫酸に対して2重量%ま
で、特に1重量%までの水、又は3重量%まで、特に2
.5重量%までのジメチルホルムアミド又はN− メチ
ルピロリドンが用いられる。
メチルホルムアミド及び/又はN−メチルピロリドンを
含むのがよい。有利には、各々硫酸に対して2重量%ま
で、特に1重量%までの水、又は3重量%まで、特に2
.5重量%までのジメチルホルムアミド又はN− メチ
ルピロリドンが用いられる。
【0018】反応混合物を良好に撹拌できるように保つ
ために、硫酸のみが最初に導入される場合に、好ましく
は1モルのアミノアリールスルホン酸当り約4〜5モル
の最少量の硫酸が用いられる。もし硫酸と共にアセチル
化剤つまり無水酢酸又は塩化アセチルも最初に導入され
るのなら、最少硫酸量は1モルのアミノアリールスルホ
ン酸当り約2〜3モルに減少する。
ために、硫酸のみが最初に導入される場合に、好ましく
は1モルのアミノアリールスルホン酸当り約4〜5モル
の最少量の硫酸が用いられる。もし硫酸と共にアセチル
化剤つまり無水酢酸又は塩化アセチルも最初に導入され
るのなら、最少硫酸量は1モルのアミノアリールスルホ
ン酸当り約2〜3モルに減少する。
【0019】アセチル化剤は有利には、アミノアリール
スルホン酸1モル当り約1.25〜約2モルの量で用い
る。
スルホン酸1モル当り約1.25〜約2モルの量で用い
る。
【0020】有利には硫酸又は硫酸とアセチル化剤を最
初に導入し、そして室温(約25℃)で水不含かつ塩不
含の粉末状のアミノアリールスルホン酸及びアセチル化
剤を又はアミノアリールスルホン酸のみを加える。場合
により、この導入の間に反応混合物の撹拌可能性の改善
のために温度を少し高めることが必要である。導入が終
った後に温度を、アセチル化されるべきアミノアリール
スルホン酸に従って約60ないし約90℃に上げる。
初に導入し、そして室温(約25℃)で水不含かつ塩不
含の粉末状のアミノアリールスルホン酸及びアセチル化
剤を又はアミノアリールスルホン酸のみを加える。場合
により、この導入の間に反応混合物の撹拌可能性の改善
のために温度を少し高めることが必要である。導入が終
った後に温度を、アセチル化されるべきアミノアリール
スルホン酸に従って約60ないし約90℃に上げる。
【0021】アセチル化の進行は有利には、なお残って
いるアセチル化されていないアミノスルホン酸の薄膜ク
ロマトグラフによって追跡される。必要な場合には、不
足しているアセチル化剤を供給バルブを通して追加でき
る。
いるアセチル化されていないアミノスルホン酸の薄膜ク
ロマトグラフによって追跡される。必要な場合には、不
足しているアセチル化剤を供給バルブを通して追加でき
る。
【0022】一般に、良好に撹拌できる中程度の粘度の
N− アセチルアミノアリールスルホン酸の溶液又は懸
濁物が得られ、これは対応するスルホン酸クロライドへ
の転化のために直接使用でき、あるいはN− アセチル
アミノアリールスルホン酸の単離のためにまだ熱いまま
撹拌しながら用意した水中に注ぐことができる。
N− アセチルアミノアリールスルホン酸の溶液又は懸
濁物が得られ、これは対応するスルホン酸クロライドへ
の転化のために直接使用でき、あるいはN− アセチル
アミノアリールスルホン酸の単離のためにまだ熱いまま
撹拌しながら用意した水中に注ぐことができる。
【0023】その際、N− アセチルアミノアリールス
ルホン酸の水和物が晶出する。良好な濾過可能性を得る
ために、有利には約30〜約40℃の温度に維持する。 用意する水の量は有利には、少なくとも約30%の硫酸
及び少なくとも約20%の酢酸を含む濾液酸が得られる
ように決められる。
ルホン酸の水和物が晶出する。良好な濾過可能性を得る
ために、有利には約30〜約40℃の温度に維持する。 用意する水の量は有利には、少なくとも約30%の硫酸
及び少なくとも約20%の酢酸を含む濾液酸が得られる
ように決められる。
【0024】濾別したN− アセチルアミノアリールス
ルホン酸は有利には、約20〜30%塩酸の形の約3〜
約6モルのHClで硫酸がなくなるまで洗う。有利には
濾滓を塩酸の一部中に混合撹拌し、濾過し、そして残り
の塩酸で洗う。しかし生成物をフイルターの上に残して
、塩酸の全量で洗うこともできる。
ルホン酸は有利には、約20〜30%塩酸の形の約3〜
約6モルのHClで硫酸がなくなるまで洗う。有利には
濾滓を塩酸の一部中に混合撹拌し、濾過し、そして残り
の塩酸で洗う。しかし生成物をフイルターの上に残して
、塩酸の全量で洗うこともできる。
【0025】洗った際に、なお数パーセントの硫酸及び
また酢酸を含む塩酸が得られる。
また酢酸を含む塩酸が得られる。
【0026】N− アセチルアミノアリールスルホン酸
の良好な水溶性の故に、水による最後の洗いは、多かれ
少なかれかなりの物質の損失を伴う。しかし上述した塩
酸による洗いは、損失を著しく少なくする。硫酸不含の
、塩酸を含む湿った生成物としてN− アセチルアミノ
アリールスルホン酸が得られ、これは有利には耐腐蝕性
の乾燥機たとえばホウロウびきの二重円錐形乾燥機で1
20℃までの温度で、好ましくは減圧下でHCl及び水
を除去されうる。乾燥した生成物は、高々こん跡程度の
アミノアリールスルホン酸及び少量の水を含む。そのよ
うに乾燥した生成物は場合により粉砕される。そしてそ
れは、容易に配量できる。
の良好な水溶性の故に、水による最後の洗いは、多かれ
少なかれかなりの物質の損失を伴う。しかし上述した塩
酸による洗いは、損失を著しく少なくする。硫酸不含の
、塩酸を含む湿った生成物としてN− アセチルアミノ
アリールスルホン酸が得られ、これは有利には耐腐蝕性
の乾燥機たとえばホウロウびきの二重円錐形乾燥機で1
20℃までの温度で、好ましくは減圧下でHCl及び水
を除去されうる。乾燥した生成物は、高々こん跡程度の
アミノアリールスルホン酸及び少量の水を含む。そのよ
うに乾燥した生成物は場合により粉砕される。そしてそ
れは、容易に配量できる。
【0027】収率は理論値の90〜95%である。
【0028】湿った生成物はまた、ホウロウびきした撹
拌槽内で有機物質たとえば高沸点の石油留分(特に11
0〜140℃の沸点のもの)と共に加熱及びその共沸成
分の留去によって水を除きうる。
拌槽内で有機物質たとえば高沸点の石油留分(特に11
0〜140℃の沸点のもの)と共に加熱及びその共沸成
分の留去によって水を除きうる。
【0029】硫酸の洗い落しは出来るだけ完全に行われ
なければならず、それによって高い乾燥温度において、
得られたN− アセチルアミノアリールスルホン酸のス
ルホン化が起きなくなる。
なければならず、それによって高い乾燥温度において、
得られたN− アセチルアミノアリールスルホン酸のス
ルホン化が起きなくなる。
【0030】濾液酸(酢酸を含む硫酸、及び少量の硫酸
と酢酸を含む塩酸)は、公知法で揮発成分(HCl及び
酢酸)を除かれ、濃縮される。この再生は困難でない。 何故なら妨害する塩が含まれていないからである。また
それは、下水に流されるにちがいない残渣を残さない。
と酢酸を含む塩酸)は、公知法で揮発成分(HCl及び
酢酸)を除かれ、濃縮される。この再生は困難でない。 何故なら妨害する塩が含まれていないからである。また
それは、下水に流されるにちがいない残渣を残さない。
【0031】本発明の方法によって、アミノアリールス
ルホン酸、好ましくはベンゼン及びナフタリンのそれ(
これらは核置換、好ましくはアルキル置換、特に好まし
くはメチル化されていることも出来る。)、特にo−
、m− 及びp− アミノベンゼンスルホン酸及びアミ
ノナフタリンスルホン酸−1,4、 −2,6及び −
2,8は、そのN− アセチル誘導体へとアセチル化さ
れる。
ルホン酸、好ましくはベンゼン及びナフタリンのそれ(
これらは核置換、好ましくはアルキル置換、特に好まし
くはメチル化されていることも出来る。)、特にo−
、m− 及びp− アミノベンゼンスルホン酸及びアミ
ノナフタリンスルホン酸−1,4、 −2,6及び −
2,8は、そのN− アセチル誘導体へとアセチル化さ
れる。
【0032】得られたN− アセチルアミノアリールス
ルホン酸は、上述したように、アセチル化反応後に得ら
れた溶液又は懸濁物の形で、又は単離し乾燥した物質と
して、対応するスルホニルクロライドの製造のために用
いられ得る。
ルホン酸は、上述したように、アセチル化反応後に得ら
れた溶液又は懸濁物の形で、又は単離し乾燥した物質と
して、対応するスルホニルクロライドの製造のために用
いられ得る。
【0033】従来技術に従うN− アセチルアミノアリ
ールスルホニルクロライドの製造を以下に挙げる:アセ
トアニリド及びクロルスルホン酸又は発煙硫酸及びクロ
ルスルホン酸から(その際さらに他の酸クロライド特性
の塩素化剤たとえば三塩化リン及び五塩化リンならびに
好ましくは塩化チオニルが用いられる。)(西独国特許
明細書第752572号、Ber.39(1906)1
559/70、46(1913)777、Zh. Pr
ikl. Khin.11(1938)316/27、
C.Z.1939 I4934/6)。
ールスルホニルクロライドの製造を以下に挙げる:アセ
トアニリド及びクロルスルホン酸又は発煙硫酸及びクロ
ルスルホン酸から(その際さらに他の酸クロライド特性
の塩素化剤たとえば三塩化リン及び五塩化リンならびに
好ましくは塩化チオニルが用いられる。)(西独国特許
明細書第752572号、Ber.39(1906)1
559/70、46(1913)777、Zh. Pr
ikl. Khin.11(1938)316/27、
C.Z.1939 I4934/6)。
【0034】N− アセチルアミノアリールスルホン酸
の金属塩とクロルスルホン酸又は五塩化燐との反応(Z
h. Prikl. Khim. 34(1961)1
625/7、J. Appl. Chem. U.S.
S.R. (英文版)34(1961)1549/51
、西独特許明細書第532399号、Friedl,
18 601/4、東独国明細書第30312号、O
rganic Syntheses Collecti
ve Vol. I,ページ8/10、ニューヨーク−
ロンドン、第2版)又はピリジニウム塩とクロルスル
ホン酸との反応 (Syn−thesis 1974
、ページ877/8)又は五塩化リンとの反応 (An
n.380(1911)309)。
の金属塩とクロルスルホン酸又は五塩化燐との反応(Z
h. Prikl. Khim. 34(1961)1
625/7、J. Appl. Chem. U.S.
S.R. (英文版)34(1961)1549/51
、西独特許明細書第532399号、Friedl,
18 601/4、東独国明細書第30312号、O
rganic Syntheses Collecti
ve Vol. I,ページ8/10、ニューヨーク−
ロンドン、第2版)又はピリジニウム塩とクロルスル
ホン酸との反応 (Syn−thesis 1974
、ページ877/8)又は五塩化リンとの反応 (An
n.380(1911)309)。
【0035】アセトアミノ芳香族化合物のスルホクロル
化は少量のアセトアミノアリールスルホニルクロライド
の代表物を与えるに過ぎず、これは不満足な収率であり
、一方N− アセチルアミノアリールスルホン酸の塩を
経由する製造は遊離のN− アセチルアミノアリールス
ルホン酸の製造について記述したのと同じ欠点を伴う:
含まれる金属のイオンによりその再生が強く妨害される
濾液酸の多量の生成。
化は少量のアセトアミノアリールスルホニルクロライド
の代表物を与えるに過ぎず、これは不満足な収率であり
、一方N− アセチルアミノアリールスルホン酸の塩を
経由する製造は遊離のN− アセチルアミノアリールス
ルホン酸の製造について記述したのと同じ欠点を伴う:
含まれる金属のイオンによりその再生が強く妨害される
濾液酸の多量の生成。
【0036】本発明に従い得られた塩不含のN− アセ
チルアミノアリールスルホン酸の使用は、塩を含まない
その塩化物の製造可能性をもたらす。
チルアミノアリールスルホン酸の使用は、塩を含まない
その塩化物の製造可能性をもたらす。
【0037】アセチル化反応後に得られた溶液又は懸濁
物を使用する場合には、好ましい塩素化剤としての塩化
チオニルの過剰量が必要であり、これはN− アセチル
アミノアリールスルホン酸がどれだけの硫酸中に溶解さ
れているかに依存する。硫酸は塩化チオニルと反応して
クロルスルホン酸を生じる。同時にN− アセチルアミ
ノアリールスルホン酸が酸クロライドへと塩素化される
。場合により、、塩化チオニルの添加の前にクロルスル
ホン酸を、N− アセチルアミノアリールスルホン酸の
硫酸中溶液に加えることができる。
物を使用する場合には、好ましい塩素化剤としての塩化
チオニルの過剰量が必要であり、これはN− アセチル
アミノアリールスルホン酸がどれだけの硫酸中に溶解さ
れているかに依存する。硫酸は塩化チオニルと反応して
クロルスルホン酸を生じる。同時にN− アセチルアミ
ノアリールスルホン酸が酸クロライドへと塩素化される
。場合により、、塩化チオニルの添加の前にクロルスル
ホン酸を、N− アセチルアミノアリールスルホン酸の
硫酸中溶液に加えることができる。
【0038】単離し乾燥したN− アセチルアミノアリ
ールスルホン酸を用いるなら、これを有利にはクロルス
ルホン酸に溶解し、そして塩化チオニルによって酸クロ
ライドへと塩素化する。
ールスルホン酸を用いるなら、これを有利にはクロルス
ルホン酸に溶解し、そして塩化チオニルによって酸クロ
ライドへと塩素化する。
【0039】この二つの場合において塩素化剤としての
塩化チオニルのこの好ましい使用の際にSO2 とHC
lが廃ガスとして生じ、これは公知法でガス洗滌のため
の装置中で困難なく分離される。
塩化チオニルのこの好ましい使用の際にSO2 とHC
lが廃ガスとして生じ、これは公知法でガス洗滌のため
の装置中で困難なく分離される。
【0040】第二の場合において、塩化チオニルとの反
応は有利には30〜70℃、好ましくは50〜60℃で
行われる。塩化チオニルの添加の終了後に、同じ温度で
なお暫時撹拌する。
応は有利には30〜70℃、好ましくは50〜60℃で
行われる。塩化チオニルの添加の終了後に、同じ温度で
なお暫時撹拌する。
【0041】塩化チオニルとの反応は、少量のジメチル
ホルムアミドの添加によって促進される (Helv.
Chim. Acta 42(1959)1653
〜1658)。
ホルムアミドの添加によって促進される (Helv.
Chim. Acta 42(1959)1653
〜1658)。
【0042】ガスの発生の終了後に、得られた反応混合
物を氷水に注ぐ。その際にN− アセチルアミノアリー
ルスルホン酸クロライドが析出する。析出した生成物を
吸引濾過し、氷水で洗い、そして湿った形態で更に用い
るか又は有利には乾燥棚で薄い層にして減圧下で約50
℃までの温度で乾いた窒素流を流しながら乾燥する。
物を氷水に注ぐ。その際にN− アセチルアミノアリー
ルスルホン酸クロライドが析出する。析出した生成物を
吸引濾過し、氷水で洗い、そして湿った形態で更に用い
るか又は有利には乾燥棚で薄い層にして減圧下で約50
℃までの温度で乾いた窒素流を流しながら乾燥する。
【0043】N− アセチルアミノアリールスルホン酸
の本発明に従う製造の場合と同様に、その酸塩化物の製
造の際に濾液及び洗滌液が生じ、これは困難なく再生又
は後処理されうる。何故ならそれはこれらのプロセスを
妨害する塩を含まないからである。
の本発明に従う製造の場合と同様に、その酸塩化物の製
造の際に濾液及び洗滌液が生じ、これは困難なく再生又
は後処理されうる。何故ならそれはこれらのプロセスを
妨害する塩を含まないからである。
【0044】明らかにアミノアリールスルホン酸の金属
塩も本発明方法によってアセチル化されうるが、しかし
上述したようにN− アセチルアミノアリールスルホン
酸は塩不含では得られず、そして含まれる塩によって再
生可能性が著しく制限されるところの濾液及び洗滌液が
生じる。
塩も本発明方法によってアセチル化されうるが、しかし
上述したようにN− アセチルアミノアリールスルホン
酸は塩不含では得られず、そして含まれる塩によって再
生可能性が著しく制限されるところの濾液及び洗滌液が
生じる。
【0045】N− アセチルアミノアリールスルホン酸
及びその塩化物はアミノアリールスルホン酸の誘導体(
たとえばその酸塩化物及び酸アミド又はスルホン)の製
造の際の価値ある中間体である。すなわち、個々の反応
の前にアミノ基をアセチル基の導入によって保護するこ
とがしばしば必要である。アセチル基は、適当な後程の
段階で加水分解によって再び脱離される。
及びその塩化物はアミノアリールスルホン酸の誘導体(
たとえばその酸塩化物及び酸アミド又はスルホン)の製
造の際の価値ある中間体である。すなわち、個々の反応
の前にアミノ基をアセチル基の導入によって保護するこ
とがしばしば必要である。アセチル基は、適当な後程の
段階で加水分解によって再び脱離される。
【0046】
【実施例】以下の実施例において、特記なき限り部は常
に重量部を意味する。同様にパーセントは、特記なき限
り重量パーセントを意味する。 実施例1 (a)m− アセトアミノベゼンスルホン酸(N− ア
セチルメタニル酸) 撹拌装置を備えられた三口ガラスフラスコ中で撹拌下に
、約20℃に調節された645部の無水酢酸及び100
5部の99.5%硫酸から成る混合物中に、1時間かけ
てゆっくりと約20℃から約40℃へ温度を上げながら
866部の乾いたメタニル酸を加える。アセチル化の完
結のために約80℃に加熱し、そしてこの温度で更に6
0分の無水酢酸の配量下に更に撹拌する。次に反応混合
物を、開放容器中に用意した約35℃の水1000部中
に加え撹拌する。その際N− アセチルメタニル酸が水
和物の形で晶出する。約15℃で更に撹拌し、吸引濾過
する。約75%純度の生成物(付着する水性硫酸及び酢
酸を含む。)1350部が得られ、これを開放ガラス容
器中に用意した約5℃の26%塩酸1355部中に加え
撹拌する。生じた白い懸濁物を吸引濾過し、そして31
%塩酸580部で洗う。
に重量部を意味する。同様にパーセントは、特記なき限
り重量パーセントを意味する。 実施例1 (a)m− アセトアミノベゼンスルホン酸(N− ア
セチルメタニル酸) 撹拌装置を備えられた三口ガラスフラスコ中で撹拌下に
、約20℃に調節された645部の無水酢酸及び100
5部の99.5%硫酸から成る混合物中に、1時間かけ
てゆっくりと約20℃から約40℃へ温度を上げながら
866部の乾いたメタニル酸を加える。アセチル化の完
結のために約80℃に加熱し、そしてこの温度で更に6
0分の無水酢酸の配量下に更に撹拌する。次に反応混合
物を、開放容器中に用意した約35℃の水1000部中
に加え撹拌する。その際N− アセチルメタニル酸が水
和物の形で晶出する。約15℃で更に撹拌し、吸引濾過
する。約75%純度の生成物(付着する水性硫酸及び酢
酸を含む。)1350部が得られ、これを開放ガラス容
器中に用意した約5℃の26%塩酸1355部中に加え
撹拌する。生じた白い懸濁物を吸引濾過し、そして31
%塩酸580部で洗う。
【0047】硫酸を含まず、約100部の塩化水素含量
を持つ、約73%純度のN− アセチルメタニル酸水和
物1380部が得られる。生成物を窒素流下で約200
ミリバールで約25℃から120℃にゆっくり温度を上
げて乾燥し、続いて粉砕する。
を持つ、約73%純度のN− アセチルメタニル酸水和
物1380部が得られる。生成物を窒素流下で約200
ミリバールで約25℃から120℃にゆっくり温度を上
げて乾燥し、続いて粉砕する。
【0048】215〜220℃の融点を持つ、約99%
純度の粉末としてN−アセチルメタニル酸1020部が
得られ、これは理論値の95%の収率に相当する。
純度の粉末としてN−アセチルメタニル酸1020部が
得られ、これは理論値の95%の収率に相当する。
【0049】更に下記のものが得られる:約430部の
酢酸含量を持つ、塩及び塩酸を含まず再生できる、約4
0%濃度の濾液硫酸2180部、100部の硫酸及び3
5部の酢酸含量を持つ、約22%の濾液塩酸1820部
。 (b)N− アセチルメタニル酸クロライド気密な撹拌
装置、ガス導入及び排出管を備えるガラスフラスコ中に
233部のクロルスルホン酸を入れ、撹拌下に1時間か
けてゆっくり約25℃へ温度を上げながら配量スクリュ
ーを用いて、実施例1(a)に従い得たN− アセチル
メタニル酸215部を加える。その後、約55℃で4時
間かけて238部の塩化チオニルを流入させる。ガス発
生(HCl、SO2 :前者は通常の方法でまず水中に
導くことにより吸収され、続いて後者が苛性ソーダで吸
収される。)の終了後に、反応混合物を、30部の活性
炭粉末を懸濁された1000部の氷水(800部の水と
200部の氷から成る。)に加え撹拌する。析出した生
成物を吸引濾過し、800部の氷水で洗う。洗滌濾液は
、次回のバッチで用いられる。
酢酸含量を持つ、塩及び塩酸を含まず再生できる、約4
0%濃度の濾液硫酸2180部、100部の硫酸及び3
5部の酢酸含量を持つ、約22%の濾液塩酸1820部
。 (b)N− アセチルメタニル酸クロライド気密な撹拌
装置、ガス導入及び排出管を備えるガラスフラスコ中に
233部のクロルスルホン酸を入れ、撹拌下に1時間か
けてゆっくり約25℃へ温度を上げながら配量スクリュ
ーを用いて、実施例1(a)に従い得たN− アセチル
メタニル酸215部を加える。その後、約55℃で4時
間かけて238部の塩化チオニルを流入させる。ガス発
生(HCl、SO2 :前者は通常の方法でまず水中に
導くことにより吸収され、続いて後者が苛性ソーダで吸
収される。)の終了後に、反応混合物を、30部の活性
炭粉末を懸濁された1000部の氷水(800部の水と
200部の氷から成る。)に加え撹拌する。析出した生
成物を吸引濾過し、800部の氷水で洗う。洗滌濾液は
、次回のバッチで用いられる。
【0050】メタニル酸に対して理論値の83%の収率
で、工業用の湿った生成物としてN− アセチルメタニ
ル酸クロライド210部を得る。
で、工業用の湿った生成物としてN− アセチルメタニ
ル酸クロライド210部を得る。
【0051】更に下記のものが得られる:65部の塩化
水素及び17部のメタニル酸含量を持つ、塩を含まない
、再生できる約15%の硫酸1130部、10部の塩化
水素及び15部の硫酸を含む洗滌濾液800部、約20
部のSO2 含量を持つ約23%の(廃ガス洗滌からの
)塩酸300部、ほとんど塩化物不含の、約25%の(
廃ガス洗滌からの)亜硫酸水素ナトリウム溶液200部
。 実施例2〜9 N− アセチルメタニル酸の中間単離なしでのN− ア
セチルメタニル酸クロライド製造 実施例2 実施例1(b)で用いたガラスフラスコに159部の塩
化アセチルを用意し、20℃で撹拌及び外部冷却下に2
00部の水不含の硫酸を滴下する。その後、約45℃で
配量スクリューを用いて173部の乾いたメタニル酸を
加え撹拌する。アセチル化の終了のために約95℃に加
熱する。
水素及び17部のメタニル酸含量を持つ、塩を含まない
、再生できる約15%の硫酸1130部、10部の塩化
水素及び15部の硫酸を含む洗滌濾液800部、約20
部のSO2 含量を持つ約23%の(廃ガス洗滌からの
)塩酸300部、ほとんど塩化物不含の、約25%の(
廃ガス洗滌からの)亜硫酸水素ナトリウム溶液200部
。 実施例2〜9 N− アセチルメタニル酸の中間単離なしでのN− ア
セチルメタニル酸クロライド製造 実施例2 実施例1(b)で用いたガラスフラスコに159部の塩
化アセチルを用意し、20℃で撹拌及び外部冷却下に2
00部の水不含の硫酸を滴下する。その後、約45℃で
配量スクリューを用いて173部の乾いたメタニル酸を
加え撹拌する。アセチル化の終了のために約95℃に加
熱する。
【0052】冷却後に、中間単離することなくN− ア
セチルメタニル酸の得られた溶液を約30℃で233部
のクロルスルホン酸で希釈する。約55℃で約4時間か
けて撹拌下に417部の塩化チオニルを流入させる。ガ
ス発生(SO2 、HCl:その吸収は実施例1(b)
に記載したように常法で行われる。)の終了後に反応混
合物を、30部の活性炭粉末を懸濁した1500部の氷
水(各750部の水と氷)中に加え撹拌する。析出した
生成物を吸引濾過し、1500部の氷水で洗う。洗滌濾
液は次回のために用いうる。
セチルメタニル酸の得られた溶液を約30℃で233部
のクロルスルホン酸で希釈する。約55℃で約4時間か
けて撹拌下に417部の塩化チオニルを流入させる。ガ
ス発生(SO2 、HCl:その吸収は実施例1(b)
に記載したように常法で行われる。)の終了後に反応混
合物を、30部の活性炭粉末を懸濁した1500部の氷
水(各750部の水と氷)中に加え撹拌する。析出した
生成物を吸引濾過し、1500部の氷水で洗う。洗滌濾
液は次回のために用いうる。
【0053】メタニル酸に関して理論値の90%の収率
で、工業用の湿った生成物として210部のN− アセ
チルメタニル酸クロライドを得る。
で、工業用の湿った生成物として210部のN− アセ
チルメタニル酸クロライドを得る。
【0054】更に下記のものを得る:127部の塩化水
素、30部の酢酸及び17部のメタニル酸含量を持つ、
塩を含まない、再生できる約19%の濾液硫酸1763
部、15部の塩化水素及び40部の硫酸含量を持つ洗滌
濾液1546部、60部のSO2 及び30部の酢酸含
量を持つ、約27%の(廃ガス洗滌からの)塩酸771
部、約21%のほぼ塩化物不含の(廃ガス洗滌からの)
亜硫酸水素ナトリウム溶液1008部。 実施例3 実施例1(b)で用いたガラスフラスコ中で撹拌下に約
20℃に調節した645部の無水酢酸及び1000部の
水不含の硫酸より成る混合物に、1時間かけてゆっくり
と約20℃から約40℃に温度を上げながら、865部
の乾いたメタニル酸を配量スクリューで加える。アセチ
ル化の完了のために約85℃に加熱し、この温度で更に
60部の無水酢酸の配量下にさらに撹拌する。
素、30部の酢酸及び17部のメタニル酸含量を持つ、
塩を含まない、再生できる約19%の濾液硫酸1763
部、15部の塩化水素及び40部の硫酸含量を持つ洗滌
濾液1546部、60部のSO2 及び30部の酢酸含
量を持つ、約27%の(廃ガス洗滌からの)塩酸771
部、約21%のほぼ塩化物不含の(廃ガス洗滌からの)
亜硫酸水素ナトリウム溶液1008部。 実施例3 実施例1(b)で用いたガラスフラスコ中で撹拌下に約
20℃に調節した645部の無水酢酸及び1000部の
水不含の硫酸より成る混合物に、1時間かけてゆっくり
と約20℃から約40℃に温度を上げながら、865部
の乾いたメタニル酸を配量スクリューで加える。アセチ
ル化の完了のために約85℃に加熱し、この温度で更に
60部の無水酢酸の配量下にさらに撹拌する。
【0055】約50℃への冷却後に、中間単離すること
なく得たN− アセチルメタニル酸溶液を583部のク
ロルスルホン酸で希釈する。約55℃で約8時間かけて
撹拌下に2678部の塩化チオニルを加える。次に約5
5℃で更に2時間撹拌する。ガス発生(SO2 、HC
l:これの吸収は実施例1(b)と同様に常法で行われ
る。)の終了後に、反応混合物は乾いた窒素流中で残留
ガスを除き、その後5500部の氷水(各2750部の
水と氷)なかに入れ撹拌する。析出した生成物を吸引濾
過し、5500部の氷水で洗う。洗滌濾液は次のバッチ
で用いられる。
なく得たN− アセチルメタニル酸溶液を583部のク
ロルスルホン酸で希釈する。約55℃で約8時間かけて
撹拌下に2678部の塩化チオニルを加える。次に約5
5℃で更に2時間撹拌する。ガス発生(SO2 、HC
l:これの吸収は実施例1(b)と同様に常法で行われ
る。)の終了後に、反応混合物は乾いた窒素流中で残留
ガスを除き、その後5500部の氷水(各2750部の
水と氷)なかに入れ撹拌する。析出した生成物を吸引濾
過し、5500部の氷水で洗う。洗滌濾液は次のバッチ
で用いられる。
【0056】メタニル酸に対して80%の収率で、工業
用の湿った生成物としてN− アセチルメタニル酸クロ
ライド935部を得る。
用の湿った生成物としてN− アセチルメタニル酸クロ
ライド935部を得る。
【0057】析出の開始時に生じるゴム状の粘着性の状
態は、析出の前に5500部の氷水に150部の活性炭
粉末又は先行のバッチからの生成物100部を懸濁する
ことによって避けられうる。
態は、析出の前に5500部の氷水に150部の活性炭
粉末又は先行のバッチからの生成物100部を懸濁する
ことによって避けられうる。
【0058】更に下記のものが得られる:430部の塩
化水素、430部の酢酸及び170部のメタニル酸含量
を持つ、塩不含の、再生できる約19%の濾液硫酸67
00部、80部の塩化水素及び210部の硫酸含量を持
つ洗滌濾液5000部、205部のSO2 及び140
部の酢酸含量を持つ、約25%の(廃ガス洗滌からの)
塩酸4700部、少しの酢酸含量(10部未満)を持つ
約22%の、殆ど塩化物不含の(塩化ナトリウム含量1
%未満)亜硫酸水素ナトリウム溶液(廃ガス洗滌からの
)8200部。 実施例4 2975部の塩化チオニルを10時間かけて加える他は
、実施例3と同様に行う。
化水素、430部の酢酸及び170部のメタニル酸含量
を持つ、塩不含の、再生できる約19%の濾液硫酸67
00部、80部の塩化水素及び210部の硫酸含量を持
つ洗滌濾液5000部、205部のSO2 及び140
部の酢酸含量を持つ、約25%の(廃ガス洗滌からの)
塩酸4700部、少しの酢酸含量(10部未満)を持つ
約22%の、殆ど塩化物不含の(塩化ナトリウム含量1
%未満)亜硫酸水素ナトリウム溶液(廃ガス洗滌からの
)8200部。 実施例4 2975部の塩化チオニルを10時間かけて加える他は
、実施例3と同様に行う。
【0059】935部のN− アセチルメタニル酸クロ
ライドが得られ、これは同じ80%の収率に相当する。 実施例5 塩化チオニルの添加の直前に25部のジメチルホルムア
ミドを反応混合物に入れる他は、実施例3と同様に行う
。
ライドが得られ、これは同じ80%の収率に相当する。 実施例5 塩化チオニルの添加の直前に25部のジメチルホルムア
ミドを反応混合物に入れる他は、実施例3と同様に行う
。
【0060】970部のN− アセチルメタニル酸クロ
ライドが得られ、これは83%の収率に相当する。廃ガ
ス洗滌からの塩酸中に240部の酢酸が存在する。 実施例6 645部の無水酢酸及び1000部の水不含の硫酸より
成る混合物に25部のジメチルホルムアミドが加えられ
る他は、実施例4と同様に行う。
ライドが得られ、これは83%の収率に相当する。廃ガ
ス洗滌からの塩酸中に240部の酢酸が存在する。 実施例6 645部の無水酢酸及び1000部の水不含の硫酸より
成る混合物に25部のジメチルホルムアミドが加えられ
る他は、実施例4と同様に行う。
【0061】1040部のN− アセチルメタニル酸ク
ロライドが得られ、これは89%の収率に相当する。 実施例7 1000部の水不含の硫酸に5部の水を加える他は、実
施例4と同様に行う。
ロライドが得られ、これは89%の収率に相当する。 実施例7 1000部の水不含の硫酸に5部の水を加える他は、実
施例4と同様に行う。
【0062】1017部のN− アセチルメタニル酸ク
ロライドが得られ、これは87%の収率に相当する。 実施例8 10部の水を加える他は、実施例7と同様に行う。
ロライドが得られ、これは87%の収率に相当する。 実施例8 10部の水を加える他は、実施例7と同様に行う。
【0063】やはり1017部のN− アセチルメタニ
ル酸クロライドを得る。 実施例9 実施例7及び5におけると同様に行う。1040部のN
− アセチルメタニル酸クロライドが得られ、これは8
9%の収率に相当する。 実施例10 (a)p− アセトアミノベンゼンスルホン酸(N−
アセチルスルフアニル酸) 実施例1(a)で用いたガラスフラスコ中に、205部
の無水酢酸、5部のジメチルホルムアミド及び300部
の水不含の硫酸から成り、約15℃に調節された混合物
を用意する。
ル酸クロライドを得る。 実施例9 実施例7及び5におけると同様に行う。1040部のN
− アセチルメタニル酸クロライドが得られ、これは8
9%の収率に相当する。 実施例10 (a)p− アセトアミノベンゼンスルホン酸(N−
アセチルスルフアニル酸) 実施例1(a)で用いたガラスフラスコ中に、205部
の無水酢酸、5部のジメチルホルムアミド及び300部
の水不含の硫酸から成り、約15℃に調節された混合物
を用意する。
【0064】ゆっくりと約15℃から約30℃に温度を
上げながら、撹拌下に約1時間かけて173部の乾いた
スルフアニル酸を加える。アセチル化の完了のために約
65℃に加熱し、この温度で更に撹拌を続ける。次に反
応混合物を約35℃の300部の水に加え撹拌し、その
際N− アセチルスルフアニル酸が水和物の形で晶出す
る。結晶化を、さらに約15℃で撹拌して完結させる。 吸引濾過後に293部の約60%純度の生成物が得られ
、これを5℃の26%塩酸500部に加え撹拌する。 生じた白い懸濁物を吸引濾過し、250部の26%冷塩
酸で洗う。
上げながら、撹拌下に約1時間かけて173部の乾いた
スルフアニル酸を加える。アセチル化の完了のために約
65℃に加熱し、この温度で更に撹拌を続ける。次に反
応混合物を約35℃の300部の水に加え撹拌し、その
際N− アセチルスルフアニル酸が水和物の形で晶出す
る。結晶化を、さらに約15℃で撹拌して完結させる。 吸引濾過後に293部の約60%純度の生成物が得られ
、これを5℃の26%塩酸500部に加え撹拌する。 生じた白い懸濁物を吸引濾過し、250部の26%冷塩
酸で洗う。
【0065】硫酸不含の、塩酸を含むN− アセチルス
ルフアニル酸水和物304部が得られる。生成物を約2
5℃から約90℃にゆっくり温度を上げながら窒素流下
で約200ミリバールで乾燥棚で乾燥する。
ルフアニル酸水和物304部が得られる。生成物を約2
5℃から約90℃にゆっくり温度を上げながら窒素流下
で約200ミリバールで乾燥棚で乾燥する。
【0066】243〜246℃の融点を持つ99%純度
の粉末としてN− アセチルスルフアニル酸193部を
得る。これは90%の収率に相当する。
の粉末としてN− アセチルスルフアニル酸193部を
得る。これは90%の収率に相当する。
【0067】更に下記のものが得られる:144部の酢
酸含量を持つ、塩及び塩酸不含の、再生できる約35%
の濾液硫酸733部、25部の硫酸及び10部の酢酸含
量を持つ、約21%濾液塩酸712部。 (b)p− アセトアミノベンゼンスルホニルクロライ
ド(N− アセチルスルフアニル酸クロライド)実施例
1(b)で用いたガラスフラスコに117部のクロルス
ルホン酸を入れ、撹拌下にゆっくりと約25℃から45
℃に温度を上げながら1時間かけて、実施例10(a)
で得たN− アセチルスルフアニル酸114部を加える
。完全に溶解した後に250部のジメチルホルムアミド
を加える。次に約50〜55℃で4時間かけて119部
の塩化チオニルを流入させる。50〜55℃で更に2時
間撹拌する。ガス発生(HCl、SO2 :その吸収は
実施例1(b)と同様に常法で行う。)の終了後に、反
応混合物を乾いた窒素流中で残留ガスを除き、そして5
00部の氷水(各250部の水と氷)に加えて撹拌する
。生じた生成物を吸引濾過し、500部の氷水で洗う。 スルフアニル酸に対して86%の収率で、工業用の湿っ
た生成物として119部のp− アセトアミノベンゼン
スルホニルクロライドが得られる。
酸含量を持つ、塩及び塩酸不含の、再生できる約35%
の濾液硫酸733部、25部の硫酸及び10部の酢酸含
量を持つ、約21%濾液塩酸712部。 (b)p− アセトアミノベンゼンスルホニルクロライ
ド(N− アセチルスルフアニル酸クロライド)実施例
1(b)で用いたガラスフラスコに117部のクロルス
ルホン酸を入れ、撹拌下にゆっくりと約25℃から45
℃に温度を上げながら1時間かけて、実施例10(a)
で得たN− アセチルスルフアニル酸114部を加える
。完全に溶解した後に250部のジメチルホルムアミド
を加える。次に約50〜55℃で4時間かけて119部
の塩化チオニルを流入させる。50〜55℃で更に2時
間撹拌する。ガス発生(HCl、SO2 :その吸収は
実施例1(b)と同様に常法で行う。)の終了後に、反
応混合物を乾いた窒素流中で残留ガスを除き、そして5
00部の氷水(各250部の水と氷)に加えて撹拌する
。生じた生成物を吸引濾過し、500部の氷水で洗う。 スルフアニル酸に対して86%の収率で、工業用の湿っ
た生成物として119部のp− アセトアミノベンゼン
スルホニルクロライドが得られる。
【0068】さらに下記のものが得られる:43部の塩
化水素含量を持つ、塩不含の、再生できる約22%硫酸
640部、6部の塩化水素及び13部の硫酸含量を持つ
洗滌濾液480部、13部のSO2 含量を持つ約20
%の(廃ガス洗滌からの)塩酸140部、約20%の(
廃ガス洗滌からの)亜硫酸水素ナトリウム95部。 実施例11(参考例) o− アセトアミノベンゼンスルホン酸(N− アセチ
ルオルタニル酸) 173部のスルフアニル酸の代りに同量の乾いたオルタ
ニル酸を用いる他は、実施例10(a)と同様に行う。
化水素含量を持つ、塩不含の、再生できる約22%硫酸
640部、6部の塩化水素及び13部の硫酸含量を持つ
洗滌濾液480部、13部のSO2 含量を持つ約20
%の(廃ガス洗滌からの)塩酸140部、約20%の(
廃ガス洗滌からの)亜硫酸水素ナトリウム95部。 実施例11(参考例) o− アセトアミノベンゼンスルホン酸(N− アセチ
ルオルタニル酸) 173部のスルフアニル酸の代りに同量の乾いたオルタ
ニル酸を用いる他は、実施例10(a)と同様に行う。
【0069】228〜230℃の融点を持つ97%純度
の粉末としてN− アセチルオルタニル酸133部が得
られる。収率は62%である。
の粉末としてN− アセチルオルタニル酸133部が得
られる。収率は62%である。
【0070】さらに下記のものが得られる:155部の
酢酸含量を持つ、塩及び塩酸不含の、再生できる約36
%濾液硫酸723部、36部の硫酸及び48部の酢酸含
量を持つ約22%濾液塩酸793部。 実施例12 (a)2− アセトアミノナフタリン −8− スルホ
ン酸実施例1(a)で用いたガラスフラスコに、102
5部の無水酢酸及び1500部の水不含の硫酸より成る
、約15℃に調節した混合物を入れる。ゆっくりと約2
0℃から約45℃へ温度を上げながら撹拌下に約1時間
かけて1117部の乾いた2− アミノナフタリン −
8− スルホン酸を加える。アセチル化の完了のために
約80℃に加熱し、この温度で更に撹拌する。次に反応
混合物を、約35℃の水2500部に加え撹拌する。そ
の際2− アセトアミノナフタリン −8− スルホン
酸が晶出する。結晶化を約15℃でさらに撹拌すること
によって完全にする。吸引濾過後に、約70%純度の生
成物1800部が得られる。これを、1750部の31
%塩酸及び300部の氷から成る混合物に加え撹拌する
。生じた明灰色の懸濁物を約5℃で吸引濾過し、580
部の31%塩酸で洗う。
酢酸含量を持つ、塩及び塩酸不含の、再生できる約36
%濾液硫酸723部、36部の硫酸及び48部の酢酸含
量を持つ約22%濾液塩酸793部。 実施例12 (a)2− アセトアミノナフタリン −8− スルホ
ン酸実施例1(a)で用いたガラスフラスコに、102
5部の無水酢酸及び1500部の水不含の硫酸より成る
、約15℃に調節した混合物を入れる。ゆっくりと約2
0℃から約45℃へ温度を上げながら撹拌下に約1時間
かけて1117部の乾いた2− アミノナフタリン −
8− スルホン酸を加える。アセチル化の完了のために
約80℃に加熱し、この温度で更に撹拌する。次に反応
混合物を、約35℃の水2500部に加え撹拌する。そ
の際2− アセトアミノナフタリン −8− スルホン
酸が晶出する。結晶化を約15℃でさらに撹拌すること
によって完全にする。吸引濾過後に、約70%純度の生
成物1800部が得られる。これを、1750部の31
%塩酸及び300部の氷から成る混合物に加え撹拌する
。生じた明灰色の懸濁物を約5℃で吸引濾過し、580
部の31%塩酸で洗う。
【0071】硫酸不含の、塩酸を含む、75%純度の2
− アセトアミノナフタリン −8− スルホン酸水和
物1670部が得られる。生成物を、乾燥棚で約25℃
から約120℃へとゆっくり温度を上げながら窒素流下
で約200ミリバールで乾燥する。
− アセトアミノナフタリン −8− スルホン酸水和
物1670部が得られる。生成物を、乾燥棚で約25℃
から約120℃へとゆっくり温度を上げながら窒素流下
で約200ミリバールで乾燥する。
【0072】97%純度の粉末として2− アセトアミ
ノナフタリン −8− フルホン酸1260部が得られ
る。これは2− アミノナフタリン −8− スルホン
酸に関して95%の収率に相当する。
ノナフタリン −8− フルホン酸1260部が得られ
る。これは2− アミノナフタリン −8− スルホン
酸に関して95%の収率に相当する。
【0073】更に次のものが得られる:780部の酢酸
含量を持つ、塩及び塩酸不含の、再生できる、約30%
濾液硫酸3800部、185部の硫酸含量を持つ約22
%濾液塩酸2250部。 (b)2− アセトアミノナフタリン −8− スルホ
ン酸クロライド 実施例1(b)で用いたガラスフラスコに466部のク
ロルスルホン酸を入れ、撹拌下に、実施例12(a)で
得た2− アセトアミノナフタリン −8− スルホン
酸265部を2時間かけてゆっくりと約25℃から約5
0℃へ温度を上げながら加える。ガス発生の終了後に、
約45〜50℃で5時間かけて238部の塩化チオニル
を流入させる。ガス発生(SO2 ,HCl;その吸収
は実施例1(b)と同様に常法で行われる。)の終了後
に、反応混合物を、30部の活性炭粉末を懸濁した20
00部の氷水(各1000部の水と氷)中に加えて撹拌
する。析出した生成物を吸引濾過し、1200部の氷水
で洗う。 洗滌濾液は次回のバッチで用いうる。
含量を持つ、塩及び塩酸不含の、再生できる、約30%
濾液硫酸3800部、185部の硫酸含量を持つ約22
%濾液塩酸2250部。 (b)2− アセトアミノナフタリン −8− スルホ
ン酸クロライド 実施例1(b)で用いたガラスフラスコに466部のク
ロルスルホン酸を入れ、撹拌下に、実施例12(a)で
得た2− アセトアミノナフタリン −8− スルホン
酸265部を2時間かけてゆっくりと約25℃から約5
0℃へ温度を上げながら加える。ガス発生の終了後に、
約45〜50℃で5時間かけて238部の塩化チオニル
を流入させる。ガス発生(SO2 ,HCl;その吸収
は実施例1(b)と同様に常法で行われる。)の終了後
に、反応混合物を、30部の活性炭粉末を懸濁した20
00部の氷水(各1000部の水と氷)中に加えて撹拌
する。析出した生成物を吸引濾過し、1200部の氷水
で洗う。 洗滌濾液は次回のバッチで用いうる。
【0074】2− アミノナフタリン −8− スルホ
ン酸に対して95%の収率で、工業用の湿った生成物と
して2− アセトアミノナフタリン −8− スルホン
酸クロライド283部を得る。
ン酸に対して95%の収率で、工業用の湿った生成物と
して2− アセトアミノナフタリン −8− スルホン
酸クロライド283部を得る。
【0075】さらに下記のものが得られる:75部の塩
化水素含量を持つ、塩不含の、再生できる約14%硫酸
1660部、40部の塩化水素及び119部の硫酸含量
を持つ洗滌濾液1150部、10部のSO2 含量を持
つ約30%の(廃カス洗滌からの)塩酸300部、ほと
んど塩化物不含の約24%の(廃ガス洗滌からの)亜硫
酸水素ナトリウム溶液375部。 実施例13 実施例1(b)で用いたガラスフラスコ中で撹拌下に、
205部の無水酢酸、5部のジメチルホルムアミド及び
300部の水不含の硫酸から成る約15℃に調節した混
合物に、1時間かけてゆっくりと温度を約20℃から約
40℃に上昇させながら223部の乾いた2− アミノ
ナフタリン −8− スルホン酸を加える。アセチル化
の完了のために約80℃に加熱し、この温度で3時間撹
拌する。
化水素含量を持つ、塩不含の、再生できる約14%硫酸
1660部、40部の塩化水素及び119部の硫酸含量
を持つ洗滌濾液1150部、10部のSO2 含量を持
つ約30%の(廃カス洗滌からの)塩酸300部、ほと
んど塩化物不含の約24%の(廃ガス洗滌からの)亜硫
酸水素ナトリウム溶液375部。 実施例13 実施例1(b)で用いたガラスフラスコ中で撹拌下に、
205部の無水酢酸、5部のジメチルホルムアミド及び
300部の水不含の硫酸から成る約15℃に調節した混
合物に、1時間かけてゆっくりと温度を約20℃から約
40℃に上昇させながら223部の乾いた2− アミノ
ナフタリン −8− スルホン酸を加える。アセチル化
の完了のために約80℃に加熱し、この温度で3時間撹
拌する。
【0076】約50℃への冷却後に、中間単離すること
なく、得た2− アセトアミノナフタリン −8− ス
ルホン酸の溶液を233部のクロルスルホン酸で希釈し
、約50℃で約8時間かけて撹拌下に833部の塩化チ
オニルを滴下する。次に約50℃でさらに2時間撹拌す
る。ガス発生(SO2 ,HCl;その吸収は実施例1
(b)と同様に常法で行う。)の終了後に、反応混合物
は乾いた窒素流で残留ガスを除き、次に、30部の活性
炭粉末を懸濁させた2000部の氷水(各1000部の
水と氷)に加えて撹拌する。析出した生成物を吸引濾過
し、2000部の氷水で洗う。
なく、得た2− アセトアミノナフタリン −8− ス
ルホン酸の溶液を233部のクロルスルホン酸で希釈し
、約50℃で約8時間かけて撹拌下に833部の塩化チ
オニルを滴下する。次に約50℃でさらに2時間撹拌す
る。ガス発生(SO2 ,HCl;その吸収は実施例1
(b)と同様に常法で行う。)の終了後に、反応混合物
は乾いた窒素流で残留ガスを除き、次に、30部の活性
炭粉末を懸濁させた2000部の氷水(各1000部の
水と氷)に加えて撹拌する。析出した生成物を吸引濾過
し、2000部の氷水で洗う。
【0077】2− アミノナフタリン −8− スルホ
ン酸に対して90%の収率で、工業用の湿った生成物と
してN− アセトアミノナフタリン −8− スルホン
酸クロライド255部が得られる。
ン酸に対して90%の収率で、工業用の湿った生成物と
してN− アセトアミノナフタリン −8− スルホン
酸クロライド255部が得られる。
【0078】さらに下記のものが得られる:145部の
塩化水素及び約145部の酢酸含量を持つ、塩不含の、
再生できる約15%濾液硫酸2000部、61部の塩化
水素及び170部の硫酸含量を持つ洗滌濾液2260部
、33部のSO2 及び5部の酢酸含量を持つ約35%
の(廃ガス洗滌からの)塩酸890部、4部の酢酸含量
を持つ、ほとんど塩化物不含の(塩化ナトリウム含量3
%未満)約11%の亜硫酸水素ナトリウム溶液5100
部。 実施例14 (a)2− アセトアミノナフタリン −6− スルホ
ン酸実施例1(a)で用いたガラスフラスコに、102
5部の無水酢酸及び1515部の99.0%硫酸から成
り、約15℃に調節した混合物を入れる。撹拌下に11
17部の乾いた2− アミノナフタリン −6− スル
ホン酸を約2時間かけて、ゆっくりと約20℃から約7
5℃へ温度を上昇させながら加える。次に約85℃でさ
らに撹拌する。2− アミノナフタリン −6− スル
ホン酸の添加から3時間後に、更に255部の無水酢酸
を加える。アセチル化の終了のために更に2時間約85
℃で撹拌する。次に反応混合物を約35℃の3000部
の水に加え撹拌すると、2− アセトアミノナフタリン
−6− スルホン酸が晶出する。結晶化を、約25℃で
さらに撹拌して完結させる。吸引濾過後に、約35%純
度の生成物3000部が得られる。これを、3500部
の31%塩酸及び1000部の氷から成る混合物に加え
撹拌する。生じた明灰色の懸濁物を約25℃で吸引濾過
し、20%塩酸2750部で洗う。
塩化水素及び約145部の酢酸含量を持つ、塩不含の、
再生できる約15%濾液硫酸2000部、61部の塩化
水素及び170部の硫酸含量を持つ洗滌濾液2260部
、33部のSO2 及び5部の酢酸含量を持つ約35%
の(廃ガス洗滌からの)塩酸890部、4部の酢酸含量
を持つ、ほとんど塩化物不含の(塩化ナトリウム含量3
%未満)約11%の亜硫酸水素ナトリウム溶液5100
部。 実施例14 (a)2− アセトアミノナフタリン −6− スルホ
ン酸実施例1(a)で用いたガラスフラスコに、102
5部の無水酢酸及び1515部の99.0%硫酸から成
り、約15℃に調節した混合物を入れる。撹拌下に11
17部の乾いた2− アミノナフタリン −6− スル
ホン酸を約2時間かけて、ゆっくりと約20℃から約7
5℃へ温度を上昇させながら加える。次に約85℃でさ
らに撹拌する。2− アミノナフタリン −6− スル
ホン酸の添加から3時間後に、更に255部の無水酢酸
を加える。アセチル化の終了のために更に2時間約85
℃で撹拌する。次に反応混合物を約35℃の3000部
の水に加え撹拌すると、2− アセトアミノナフタリン
−6− スルホン酸が晶出する。結晶化を、約25℃で
さらに撹拌して完結させる。吸引濾過後に、約35%純
度の生成物3000部が得られる。これを、3500部
の31%塩酸及び1000部の氷から成る混合物に加え
撹拌する。生じた明灰色の懸濁物を約25℃で吸引濾過
し、20%塩酸2750部で洗う。
【0079】硫酸不含で、塩酸を含む、40%純度の2
− アセトアミノナフタリン −6− スルホン酸水和
物約2600部を得る。生成物を、乾燥棚で約25℃か
ら約90℃にゆっくり温度を上げながら窒素流中で約2
00ミリバールで乾燥する。
− アセトアミノナフタリン −6− スルホン酸水和
物約2600部を得る。生成物を、乾燥棚で約25℃か
ら約90℃にゆっくり温度を上げながら窒素流中で約2
00ミリバールで乾燥する。
【0080】約95%純度の粉末として2− アセトア
ミノナフタリン −6− スルホン酸1140部が得ら
れ、これは2− アミノナフタリン −6− スルホン
酸に対して80%の収率に相当する。
ミノナフタリン −6− スルホン酸1140部が得ら
れ、これは2− アミノナフタリン −6− スルホン
酸に対して80%の収率に相当する。
【0081】更に下記のものが得られる:670部の酢
酸含量を持つ、塩及び塩酸不含の、再生できる、約25
%の濾液硫酸3400部、440部の硫酸及び380部
の酢酸含量を持つ約20%の濾液塩酸7300部。 (b)2− アセトアミノナフタリン −6− スルホ
ン酸クロライド 実施例1(b)で使用したガラスフラスコに、583部
のクロルスルホン酸、15部の無水酢酸及び5部のジメ
チルホルムアミドより成る混合物を入れ、実施例14(
a)で得た2− アセトアミノナフタリン −6− ス
ルホン酸265部を撹拌下に1時間かけて、約20℃か
ら約35℃へゆっくりと温度を上昇させながら加える。 次に約55℃で5時間かけて238部の塩化チオニルを
流入させる。さらに約2時間約55℃で撹拌する。ガス
発生(SO2 ,HCl;その吸収は実施例1(b)と
同様に常法で行われる。)の終了後に、反応混合物に窒
素を吹き込み、そしてフラスコ内容物を、30部の活性
炭粉末を懸濁した2200部の氷水(500部の水と1
700部の氷)に加え1時間撹拌する。析出した生成物
を吸引濾過し、1500部の氷水で洗う。洗滌液は次回
のバッチで使用できる。
酸含量を持つ、塩及び塩酸不含の、再生できる、約25
%の濾液硫酸3400部、440部の硫酸及び380部
の酢酸含量を持つ約20%の濾液塩酸7300部。 (b)2− アセトアミノナフタリン −6− スルホ
ン酸クロライド 実施例1(b)で使用したガラスフラスコに、583部
のクロルスルホン酸、15部の無水酢酸及び5部のジメ
チルホルムアミドより成る混合物を入れ、実施例14(
a)で得た2− アセトアミノナフタリン −6− ス
ルホン酸265部を撹拌下に1時間かけて、約20℃か
ら約35℃へゆっくりと温度を上昇させながら加える。 次に約55℃で5時間かけて238部の塩化チオニルを
流入させる。さらに約2時間約55℃で撹拌する。ガス
発生(SO2 ,HCl;その吸収は実施例1(b)と
同様に常法で行われる。)の終了後に、反応混合物に窒
素を吹き込み、そしてフラスコ内容物を、30部の活性
炭粉末を懸濁した2200部の氷水(500部の水と1
700部の氷)に加え1時間撹拌する。析出した生成物
を吸引濾過し、1500部の氷水で洗う。洗滌液は次回
のバッチで使用できる。
【0082】2− アミノナフタリン −6− スルホ
ン酸に対して80%の収率で、工業用の湿った生成物と
して2− アセトアミノナフタリン −6− スルホン
酸クロライド283部が得られる。
ン酸に対して80%の収率で、工業用の湿った生成物と
して2− アセトアミノナフタリン −6− スルホン
酸クロライド283部が得られる。
【0083】さらに下記のものが得られる:135部の
塩化水素含量ならびに少量の酢酸及びジメチルホルムア
ミドを含む、塩不含の再生できる約15%純度の廃硫酸
2330部、40部の塩化水素及び100部の硫酸を含
む洗滌濾液1620部、20部のSO2 含量を持つ約
23%の(廃ガス洗滌からの)塩酸300部、約12%
の、殆ど塩化物を含まない(塩化ナトリウム含量1%未
満)廃ガス洗滌からの亜硫酸水素ナトリウム溶液700
部。 実施例15 実施例1(b)で用いたガラスフラスコで撹拌下に、2
05部の無水酢酸、5部のジメチルホルムアミド及び3
00部の水不含の硫酸より成る約15℃に調節された混
合物に、223部の乾いた2− アミノナフタリン −
6− スルホン酸を2時間かけてゆっくりと約20℃か
ら約70〜85℃に温度を上昇させながら加える。アセ
チル化の終了のために約85℃で3時間さらに撹拌する
。次に更に51部の無水酢酸を約50℃で加え、更に2
時間約85℃で撹拌を続ける。
塩化水素含量ならびに少量の酢酸及びジメチルホルムア
ミドを含む、塩不含の再生できる約15%純度の廃硫酸
2330部、40部の塩化水素及び100部の硫酸を含
む洗滌濾液1620部、20部のSO2 含量を持つ約
23%の(廃ガス洗滌からの)塩酸300部、約12%
の、殆ど塩化物を含まない(塩化ナトリウム含量1%未
満)廃ガス洗滌からの亜硫酸水素ナトリウム溶液700
部。 実施例15 実施例1(b)で用いたガラスフラスコで撹拌下に、2
05部の無水酢酸、5部のジメチルホルムアミド及び3
00部の水不含の硫酸より成る約15℃に調節された混
合物に、223部の乾いた2− アミノナフタリン −
6− スルホン酸を2時間かけてゆっくりと約20℃か
ら約70〜85℃に温度を上昇させながら加える。アセ
チル化の終了のために約85℃で3時間さらに撹拌する
。次に更に51部の無水酢酸を約50℃で加え、更に2
時間約85℃で撹拌を続ける。
【0084】約50℃に冷却後に、得られた2− アセ
トアミノナフタリン −6− スルホン酸溶液を中間単
離することなく、233部のクロルスルホン酸で希釈し
、約50℃でガス発生が終るまで撹拌する。約50℃で
約8時間かけて833部の塩化チオニルを撹拌下に滴下
する。 次に約50℃で更に2時間撹拌する。ガス発生(SO2
、HCl;これの吸収は実施例1(b)と同様に常法
で行われる。)の終了後に、反応混合物は乾いた窒素流
中で残留ガスを除き、次に30部の活性炭粉末を加えた
2000部の氷水(各1000部の水と氷)に加えて撹
拌する。析出した生成物を吸引濾過し、2000部の氷
水で洗う。
トアミノナフタリン −6− スルホン酸溶液を中間単
離することなく、233部のクロルスルホン酸で希釈し
、約50℃でガス発生が終るまで撹拌する。約50℃で
約8時間かけて833部の塩化チオニルを撹拌下に滴下
する。 次に約50℃で更に2時間撹拌する。ガス発生(SO2
、HCl;これの吸収は実施例1(b)と同様に常法
で行われる。)の終了後に、反応混合物は乾いた窒素流
中で残留ガスを除き、次に30部の活性炭粉末を加えた
2000部の氷水(各1000部の水と氷)に加えて撹
拌する。析出した生成物を吸引濾過し、2000部の氷
水で洗う。
【0085】2− アミノナフタリン −6− スルホ
ン酸に対して89%の収率で、工業用の湿った生成物と
して251部の2− アセトアミノナフタリン −6−
スルホン酸クロライドが得られる。
ン酸に対して89%の収率で、工業用の湿った生成物と
して251部の2− アセトアミノナフタリン −6−
スルホン酸クロライドが得られる。
【0086】さらに次のものが得られる:117部の塩
化水素と92部の酢酸含量を持つ、塩不含の、再生でき
る約15%の濾液硫酸2370部、31部の塩化水素及
び83部の硫酸を含む洗滌濾液2110部、36部のS
O2 及び81部の酢酸含量を持つ約35%の(廃ガス
洗滌からの)塩酸887部、41部の酢酸含量を持つ、
約11%の、殆ど塩化物を含まない(塩化ナトリウム含
量3%未満)(廃ガス洗滌からの)亜硫酸水素ナトリウ
ム溶液5260部。 実施例16(比較例) (a)実施例1(a)で用いたガラスフラスコ中で30
0部の水中の173部のメタニル酸(水で湿った物とし
ての)を、化学量論の苛性ソーダを加えてナトリウム塩
へと中和する。続いて約80℃で141部の無水酢酸を
流入させる。アセチル化の終了のために、約80℃でさ
らに撹拌し、その際pHは約7から約2に下る。次に水
及び酢酸(72部)を留去する。乾燥棚で120℃、約
200ミリバールで乾燥後に、97%純度の生成物とし
て237部のN− アセチルメタニル酸ナトリウムが得
られる。 (b)実施例1(b)で用いたガラスフラスコに525
部のクロルスルホン酸を入れ、実施例16(a)で得た
N− アセチルメタニル酸ナトリウム237部を、撹拌
下に約1時間かけてゆっくりと約25℃から約55℃へ
温度を上昇させながら加える。次に約55℃で5時間か
けて238部の塩化チオニルを撹拌下に流入させる。ガ
ス発生(SO2 ,HCl;その吸収は実施例1(b)
と同様に常法で行われる。)の終了後に、反応混合物を
、30部の活性炭粉末を懸濁した1700部の氷水(1
200部の水と500部の氷)に加え撹拌する。析出し
た生成物を吸引濾過し、1100部の氷水で洗う。洗滌
濾液は次回のバッチで使用できる。 メタニル酸に関
して90%の収率で、工業用の湿った生成物として21
0部のN− アセチルメタニル酸クロライドが得られる
。
化水素と92部の酢酸含量を持つ、塩不含の、再生でき
る約15%の濾液硫酸2370部、31部の塩化水素及
び83部の硫酸を含む洗滌濾液2110部、36部のS
O2 及び81部の酢酸含量を持つ約35%の(廃ガス
洗滌からの)塩酸887部、41部の酢酸含量を持つ、
約11%の、殆ど塩化物を含まない(塩化ナトリウム含
量3%未満)(廃ガス洗滌からの)亜硫酸水素ナトリウ
ム溶液5260部。 実施例16(比較例) (a)実施例1(a)で用いたガラスフラスコ中で30
0部の水中の173部のメタニル酸(水で湿った物とし
ての)を、化学量論の苛性ソーダを加えてナトリウム塩
へと中和する。続いて約80℃で141部の無水酢酸を
流入させる。アセチル化の終了のために、約80℃でさ
らに撹拌し、その際pHは約7から約2に下る。次に水
及び酢酸(72部)を留去する。乾燥棚で120℃、約
200ミリバールで乾燥後に、97%純度の生成物とし
て237部のN− アセチルメタニル酸ナトリウムが得
られる。 (b)実施例1(b)で用いたガラスフラスコに525
部のクロルスルホン酸を入れ、実施例16(a)で得た
N− アセチルメタニル酸ナトリウム237部を、撹拌
下に約1時間かけてゆっくりと約25℃から約55℃へ
温度を上昇させながら加える。次に約55℃で5時間か
けて238部の塩化チオニルを撹拌下に流入させる。ガ
ス発生(SO2 ,HCl;その吸収は実施例1(b)
と同様に常法で行われる。)の終了後に、反応混合物を
、30部の活性炭粉末を懸濁した1700部の氷水(1
200部の水と500部の氷)に加え撹拌する。析出し
た生成物を吸引濾過し、1100部の氷水で洗う。洗滌
濾液は次回のバッチで使用できる。 メタニル酸に関
して90%の収率で、工業用の湿った生成物として21
0部のN− アセチルメタニル酸クロライドが得られる
。
【0087】さらに下記のものが得られる:塩(120
部のNaHSO4 )を含む約20%の廃硫酸2100
部:これの再生は塩含量の故に著しく妨害される。これ
は更に190部の塩化水素及び17部のメタニル酸を含
む。
部のNaHSO4 )を含む約20%の廃硫酸2100
部:これの再生は塩含量の故に著しく妨害される。これ
は更に190部の塩化水素及び17部のメタニル酸を含
む。
【0088】36部の塩化水素及び40部の硫酸を含む
洗滌濾液1000部、20部のSO2 含量を持つ約2
7%の(廃ガス洗滌よりの)塩酸300部、約18%の
酢酸(実施例16(a)からの)400部、約27%亜
硫酸水素ナトリウム溶液250部。 実施例17(比較例) メタニル酸の中和のために必要な化学量論量の苛性ソー
ダの添加を行わない他は、実施例16(a)と同様に行
う。メタニル酸はアセチル化されない。
洗滌濾液1000部、20部のSO2 含量を持つ約2
7%の(廃ガス洗滌よりの)塩酸300部、約18%の
酢酸(実施例16(a)からの)400部、約27%亜
硫酸水素ナトリウム溶液250部。 実施例17(比較例) メタニル酸の中和のために必要な化学量論量の苛性ソー
ダの添加を行わない他は、実施例16(a)と同様に行
う。メタニル酸はアセチル化されない。
Claims (1)
- 【請求項1】 アミノアリールスルホン酸を、溶媒と
しての硫酸の存在下で無水酢酸又は塩化アセチルでアセ
チル化することによりN− アセチルアミノアリールス
ルホン酸を作り、これを硫酸中の溶液の形態で又は固体
の乾燥形態で酸クロライドの製造のために用いるN−
アセチルアミノアリールスルホン酸クロライドの製造法
。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE32196512 | 1982-05-26 | ||
DE19823219651 DE3219651A1 (de) | 1982-05-26 | 1982-05-26 | Verfahren zur herstellung von n-acetylaminoarylsulfonsaeuren |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58090859A Division JPS58216152A (ja) | 1982-05-26 | 1983-05-25 | N−アセチルアミノアリ−ルスルホン酸の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04356456A true JPH04356456A (ja) | 1992-12-10 |
Family
ID=6164459
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58090859A Granted JPS58216152A (ja) | 1982-05-26 | 1983-05-25 | N−アセチルアミノアリ−ルスルホン酸の製造法 |
JP3233173A Pending JPH04356455A (ja) | 1982-05-26 | 1991-09-12 | 固形で、遊離形態で無水形のn−アセチルメタニル酸 |
JP3233172A Pending JPH04356456A (ja) | 1982-05-26 | 1991-09-12 | N−アセチルアミノアリールスルホン酸クロライドの製造法 |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58090859A Granted JPS58216152A (ja) | 1982-05-26 | 1983-05-25 | N−アセチルアミノアリ−ルスルホン酸の製造法 |
JP3233173A Pending JPH04356455A (ja) | 1982-05-26 | 1991-09-12 | 固形で、遊離形態で無水形のn−アセチルメタニル酸 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4487725A (ja) |
EP (1) | EP0095177B1 (ja) |
JP (3) | JPS58216152A (ja) |
DE (2) | DE3219651A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4749523A (en) * | 1984-06-29 | 1988-06-07 | Hoechst Celanese Corporation | Solid phase acylation of aminosulfonic acids |
EP0218005B1 (de) * | 1985-10-09 | 1988-11-23 | Hoechst Aktiengesellschaft | Eintopfverfahren zur Herstellung von 2-Acetaminonaphthalin-6-sulfonsäure hoher Reinheit |
US5602277A (en) * | 1995-03-30 | 1997-02-11 | Biocryst Pharmaceuticals, Inc. | Substituted benzene derivatives useful as neuraminidase inhibitors |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE92796C (ja) * | ||||
DE2702584C2 (de) * | 1977-01-22 | 1982-10-14 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Konzentrierte wäßrige oder wäßrig-organische Lösungen von Acetoacetylaminoarylsulfonsäuresalzen, Verfahren zu deren Herstellung und Verfahren zur Herstellung von konzentrierten Lösungen sulfonsäuregruppenhaltiger Azofarbstoffe aus den vorgenannten Lösungen |
-
1982
- 1982-05-26 DE DE19823219651 patent/DE3219651A1/de not_active Withdrawn
-
1983
- 1983-05-17 US US06/495,510 patent/US4487725A/en not_active Expired - Fee Related
- 1983-05-21 DE DE8383105085T patent/DE3360436D1/de not_active Expired
- 1983-05-21 EP EP83105085A patent/EP0095177B1/de not_active Expired
- 1983-05-25 JP JP58090859A patent/JPS58216152A/ja active Granted
-
1991
- 1991-09-12 JP JP3233173A patent/JPH04356455A/ja active Pending
- 1991-09-12 JP JP3233172A patent/JPH04356456A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0095177B1 (de) | 1985-07-24 |
JPH0480901B2 (ja) | 1992-12-21 |
JPS58216152A (ja) | 1983-12-15 |
JPH04356455A (ja) | 1992-12-10 |
DE3360436D1 (en) | 1985-08-29 |
EP0095177A1 (de) | 1983-11-30 |
US4487725A (en) | 1984-12-11 |
DE3219651A1 (de) | 1983-12-01 |
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