JPH04354863A - 真空アーク蒸発源 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、例えば工具鋼の表面
へのＴｉＮなどの耐摩耗性皮膜のコーティングに使用さ
れる、真空アーク蒸着装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】周知のように、真空アーク蒸着装置（真
空アークイオンプレーティング装置とも呼ばれる。）は
、真空チャンバ内にて、皮膜形成材料からなる陰極の蒸
発面からその皮膜形成材料をアーク放電により蒸発させ
イオン化し、負のバイアス電圧が印加された被蒸着物の
表面にイオン化された被膜形成材料を蒸着させるように
したものである。

【０００３】この場合、アーク放電によって、陰極の蒸
発面に皮膜形成材料からなる陰極物質の激しい蒸発・イ
オン化を伴いながらランダムに動き回る陰極点が形成さ
れるので、陰極の蒸発面から非蒸着面（陰極側面など）
への陰極点の転移を防ぐためにシールドが設けられてい
る。従来、陰極点転移防止用のシールドが設けられた陰
極などにより構成されるアーク蒸発源を備え、アーク放
電を利用して陰極物質を蒸発させこれを被蒸着物の表面
に蒸着させる装置としては、例えば、特公昭５２−１４
６９０　号公報に示されたものが知られている。図７は
、従来技術に係る真空アーク金属蒸着装置のアーク蒸発
源の断面構成説明図である。

【０００４】図７において、７１は真空チャンバであり
、この真空チャンバ７１には、軸線Ａを有する円柱状の
通電導体７２が真空チャンバ７１内部にその上面側を突
出した状態でセラミック絶縁体７３を介して取り付けら
れており、通電導体７２の上面に、内部が水冷される導
電性を有する冷却床７４が固定されている。さらに、冷
却床７４の上面には円板状の陰極７５が固定されている
。冷却床７４及び陰極７５は、それぞれの軸線（中心線
）が軸線Ａに一致するように通電導体７２の上に配設さ
れている。

【０００５】陰極７５は皮膜形成用の金属材料からなり
、その上面が蒸発面７５１　となるものである。７６は
、その軸線を陰極７５の軸線Ａに一致させた状態で陰極
７５の側面を２〜３ｍｍ程度の間隙Ｇをあけて取り囲む
ようにした円筒状のシールドであり、このシールド７６
は絶縁体７７を介して真空チャンバ７１に固定されてい
る。

【０００６】上記シールド７６は、その上縁部７６ａの
高さ位置が運転前の蒸発面７５１　と同じ高さになるよ
うに予め設定されている。これは、シールド７６の上縁
部７６ａが蒸発面７５１　より高い位置にある場合には
、蒸発された金属がシールド７６に付着して間隙Ｇを埋
め、陰極点のシールド７６への転移が起こり、上縁部７
６ａが蒸発面７５１よりも低い位置にある場合には、シ
ールド７６によって囲まれていない部分に陰極点が形成
されてこの部分で陰極金属の蒸発が起こり、その結果、
間隙Ｇが短絡されて、やはり陰極点がシールド７６に転
移することになるからである。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】上記のように、アーク
放電を安定に維持するためにはシールドの上縁部と陰極
の蒸発面とを同じ高さに保つ必要がある。ところが、運
転を長時間行うと、陰極の消耗の様子を示す図の図８に
示すように、陰極７５の蒸発面７５１　は、消耗して凹
状に後退し底部と壁部を有する形状となり、蒸発面７５
１　の壁部上面７５１ａは、その高さ位置がシールド７
６の上縁部７６ａよりも図に示す寸法Ｂだけ低くなる。 このため、従来はこのシールド７６の上縁部７６ａと陰
極７５の蒸発面７５１　とを同じ高さに位置調整できる
ようにした手段が講じられていなかったので、蒸発され
た陰極金属がシールド７６の上縁部７６ａ付近の内面に
付着して間隙Ｇを埋め、これによってシールド７６と陰
極７５が短絡され、陰極点がシールド７６に転移するよ
うになる。そして、陰極点がシールド７６に転移したと
き、間隙Ｇを埋めていた陰極物質がアークによって溶融
蒸発され、シールド７６と陰極７５間の短絡が開放され
ることにより、一時的なアーク切れ（アーク放電の消弧
）が間欠的に頻繁に発生するようになってアーク放電が
不安定になるという問題がある。なお、アーク切れが起
こると、図示しないトリガ電極が直ちに作動して、再び
アーク放電が行われるようになっている。

【０００８】実験によると、標準的な条件で約１８時間
運転すると、上記図８に示す寸法Ｂが０．５〜１ｍｍ程
度となり、その結果、アーク放電が一時的に消失する回
数が１時間あたり３０回以上と極端に多くなる。このた
め、陰極点の転移によるアーク切れの原因であるシール
ド上縁部と後退した陰極蒸発面との高さ位置の差をなく
すために、まだ使用可能な陰極を新しいものに代えるこ
とになり、陰極の利用効率が悪いという問題もあった。

【０００９】この発明は、上記問題点を解決するために
なされたものであって、長時間運転により陰極の蒸発面
が後退しても、シールドの上縁部と蒸発面との高さが同
じになるように調整できる手段を設けることにより、ま
た、陰極の側面に加えて陰極における蒸発面側周辺部を
間隔を隔てて覆うシールドを設けることにより、安定し
たアーク放電を維持でき、陰極をその寿命まで使用でき
陰極の利用効率を高めることができる、真空アーク蒸着
装置の提供を目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本願発明は、皮膜形成材
料からなる陰極と、この陰極の側面を間隔を隔てて取り
囲み前記陰極の軸線と一致する軸線を持つとともに、そ
の上縁部側が前記陰極の蒸発面側に位置するように設け
られたシールドとを真空チャンバ内に備え、前記陰極と
真空チャンバ内に設けられた陽極間にアーク放電を発生
させることにより、前記陰極の蒸発面からその皮膜形成
材料を蒸発させイオン化し、真空チャンバ内に前記陰極
の蒸発面側に配置された被蒸着物の表面にイオン化され
た被膜形成材料を蒸着させる真空アーク蒸着装置におい
て、上記の目的を達成するために次の技術的手段を講じ
ている。

【００１１】請求項１の発明による真空アーク蒸着装置
は、シールドをその軸線方向に移動させるシールド移動
機構を備えたことを特徴とするものである。

【００１２】請求項２の発明による真空アーク蒸着装置
は、陰極をその軸線方向に移動させる陰極移動機構を備
えたことを特徴とするものである。

【００１３】さらに、請求項３の発明による真空アーク
蒸着装置は、シールドは、陰極における蒸発面側周辺部
を上方より間隔を隔てて覆う、上縁から内方に突出した
縁部シールドを備えたことを特徴とするものである。

【００１４】

【作用】請求項１の真空アーク蒸着装置では、長時間の
運転により陰極が消耗しその蒸発面が後退した場合、シ
ールドをその軸線方向に移動させるシールド移動機構に
よってシールドを後退させることにより、シールドの上
縁部と陰極の蒸発面との高さが同じになるように位置調
整することができる。

【００１５】請求項２の真空アーク蒸着装置では、長時
間の運転により陰極が消耗しその蒸発面が後退した場合
、陰極をその軸線方向に移動させる陰極移動機構によっ
て陰極を前進させることにより、シールドの上縁部と陰
極の蒸発面との高さが同じになるように位置調整するこ
とができる。

【００１６】また、請求項３の真空アーク蒸着装置では
、シールドによって、陰極の側面に加えて陰極における
蒸発面側周辺部が間隔を隔てて覆われている。これによ
り、陰極における蒸発面側周辺部は陰極点が形成されず
消耗することがないので、長時間運転を行って蒸発面側
周辺部の内方に形成される蒸発面が後退しても、シール
ドと陰極における蒸発面側周辺部との位置関係を一定に
保つことができ、蒸発面とシールドとの高さ位置の調整
を行うことなく、安定したアーク放電を維持することが
できる。

【００１７】

【実施例】以下、実施例に基づいてこの発明を説明する
。図１は請求項１の発明の一実施例による真空アーク蒸
着装置の概略を示す全体構成説明図、図２は図１に示す
真空アーク蒸着装置のアーク蒸発源の断面構成説明図で
ある。図３は図２に示す陰極の消耗の様子を示す図であ
る。

【００１８】図１において、１は真空チャンバであり、
この真空チャンバ１には、アーク放電を維持するための
アルゴンガスを導入するガス導入口２と、内部を真空ポ
ンプ（図示省略）によって真空引きするための排気口３
が設けられている。また、この実施例では真空チャンバ
１の側壁に、陰極点転移防止用のシールドが設けられた
陰極などにより構成される後述するアーク蒸発源Ｓが取
り付けられている。真空チャンバ１内には回転テーブル
４が設置されており、この回転テーブル４上に被蒸着物
５（試料基板）がアーク蒸発源Ｓの後述する陰極の蒸発
面に相対する状態で載置されるようになっている。６は
、アーク蒸発源Ｓの陰極と真空チャンバ１内に設けられ
た陽極（図示省略）との間に陰極側が負となる極性でも
ってアーク放電用の電圧を印加するためのアーク電源、
７は被蒸着物５に負のバイアス電圧を印加するためのバ
イアス電源である。

【００１９】次に、上記のアーク蒸発源Ｓの構成につい
て以下説明する。図２に示すように、真空チャンバ１に
は、軸線Ａを有する円柱状の通電導体８が真空チャンバ
１内部にその上面側を突出した状態でセラミック絶縁体
９を介して取り付けられており、アーク電源６から負の
電圧が印加されるこの通電導体８の上面に、内部が水冷
される導電性を有する冷却床１０が固定されている。冷
却床１０の上面には、皮膜形成材料からなり、図におけ
る上面側が蒸発面１１１となる円板状の陰極１１が固定
されている。冷却床１０及び陰極１１は、それぞれの軸
線（中心線）が軸線Ａに一致するように通電導体８の上
に配設されている。通電導体８、冷却床１０及び陰極１
１により陰極部１２が構成されている。

【００２０】また、真空チャンバ１には、円筒状の下段
シールド１３ａが、陰極１１の軸線Ａとその軸線を一致
させるようにして絶縁体１４を介して固定されている。 １５は、下段シールド１３ａの上縁部（上端周縁）にお
ける円周を６等分したそれぞれの位置に、上方にネジ部
を突出させて埋め込まれた植え込みボルトである。これ
らの植え込みボルト１５に、下段シールド１３ａの上縁
部から所定の距離をあけて高さ調節用下側ナット１６ａ
を嵌め込んだ状態で、図に示すように、陰極１１と同一
の軸線Ａを有し陰極１１の側面を取り囲むための、下段
シールド１３ａと同じ内外径を持ちボルト貫通孔が設け
られた円筒状の上段シールド１３ｂ、及びこの上段シー
ルド１３ｂの内径よりも小さい内径を持ちボルト貫通孔
が設けられた厚みの薄い円環状の上端シールド１３ｃと
が順に差し込まれている。そして、両シールド１３ｂ，
１３ｃは、上端シールド１３ｃが陰極１１の側面に対し
間隔Ｇでもってその上縁部１３ｃｕが陰極１１の蒸発面
１１１　と同じ高さ位置になる状態で、高さ調節用上側
ナット１６ｂを締め付けることにより固定されている。

【００２１】この実施例では、上記の下段シールド１３
ａ、上段シールド１３ｂ及び上端シールド１３ｃにより
シールド１３が構成されるとともに、植え込みボルト１
５及び高さ調節用ナット１６ａ，１６ｂは、上段シール
ド１３ｂ及び上端シールド１３ｃを中心軸線Ａ方向に進
退させ、上端シールド１３ｃの上縁部１３ｃｕと陰極１
１の蒸発面１１１　との高さが同じになるように位置調
整するシールド移動機構１７を構成している。また、１
８は、陰極部１２とシールド１３との間に設けられ、真
空チャンバ１に固定された円筒状の遮蔽板であって、こ
の遮蔽板１８は、植え込みボルト１５を陰極部１２から
遮蔽するためのものである。アーク蒸発源Ｓは、陰極部
１２、シールド１３、シールド移動機構１７、遮蔽板１
８により構成されている。なお、シールド１３は鋼より
なるものである。また、アークを点弧するためのトリガ
電極は図示省略している。

【００２２】上記構成になる真空アーク蒸着装置の動作
を、図１乃至図３を参照しながら、以下に説明する。装
置の運転開始前には、上端シールド１３ｃの上縁部１３
ｃｕは、陰極１１の蒸発面１１１　に対してその高さが
同じになるようにシールド移動機構１７によって高さ調
整されている。この場合、上端シールド１３ｃと陰極１
１の側面との間隔寸法Ｇは、　１００アンペア程度のア
ーク電流を流す通常の運転条件による実験結果によれば
、最もアーク放電が安定して行える値として０．５　ｍ
ｍ程度に設定されるものである。なお、上端シールド１
３ｃの厚みとしては２ｍｍ程度が適当である。このよう
に、上端シールド１３ｃの上縁部１３ｃｕと陰極１１の
蒸発面１１１　との高さが同じになるように設定して、
運転を開始し、真空チャンバ１内にて陰極１１と図示し
ない陽極間にアーク放電を発生させ、陰極１１の蒸発面
１１１　からその皮膜形成材料を蒸発と同時にイオン化
し、被蒸着物５の表面にイオン化された被膜形成材料を
蒸着させる。

【００２３】そして、装置を長時間運転すると、図３に
示すように、陰極１１が消耗することにより、その蒸発
面１１１　は、凹状に後退し、底部と壁部を有する形状
となり、上端シールド１３ｃの上縁部１３ｃｕと蒸発面
１１１　の壁部上面１１１ａとに高さの差Ｃが生じるこ
とになる。この状態でなおも運転を続けると、先に述べ
たように、一時的なアーク切れが頻繁に発生しアーク放
電が不安定となる。

【００２４】そこで、この高さの差Ｃが所定の値、例え
ば　０．５ｍｍを超えると、高さ調節用ナット１６ａ，
１６ｂを緩めて上段シールド１３ｂ及び上端シールド１
３ｃを上記の高さの差Ｃがなくなるまで図における下方
に後退させてから、上記高さ調節用ナット１６ａ，１６
ｂを締め付け、上端シールド１３ｃの上縁部１３ｃｕと
蒸発面１１１　の壁部上面１１１ａとの高さが同じにな
るように高さ位置調整を行う。以後、蒸発面１１１　の
壁部上面１１１ａと上端シールド１３ｃの上縁部１３ｃ
ｕとの高さの差Ｃが所定値を超える都度、上記のような
高さ位置調整が行われることになる。

【００２５】このことにより、アーク切れをおこすこと
なく安定したアーク放電を維持できるとともに、従来行
っていた陰極１１の交換をすることなく、陰極１１をそ
の寿命まで使用することができる。なお、シールド移動
機構１７は、シールドの上縁部と陰極の蒸発面との高さ
が同じになるようにシールドをその軸線方向に移動でき
るようにしたものであればよく、種々の設計変更が可能
である。

【００２６】図４は請求項２の発明の一実施例による真
空アーク蒸着装置のアーク蒸発源の断面構成説明図であ
る。アーク蒸発源の構成が異なる点以外は、請求項１の
構成と同一なので、請求項１のものと実質的に共通する
部分には同一の符号を付してアーク蒸発源の構成につい
てのみ説明する。

【００２７】図４において、２１は真空チャンバ１に設
けられた貫通孔であり、貫通孔２１の軸線から等距離の
部位における真空チャンバ１の周壁面には、図に示すよ
うに、外側にネジ部を突出させて複数本の植え込みボル
ト２２が埋め込まれている。各植え込みボルト２２のネ
ジ部の長さ方向における所定位置には、このネジ部に螺
合された高さ調節用ナット２３を締め付けることにより
、陰極部支持板２４が支持固定されており、この陰極部
支持板２４に、軸線Ａを有する円柱状の通電導体８が真
空チャンバ１内部にその上面側を貫通孔２１から突出し
た状態でセラミック絶縁体９を介して支持固定されてい
る。

【００２８】この通電導体８の上面に、内部が水冷され
る導電性を有する冷却床１０が固定されている。冷却床
１０の上面には、皮膜形成材料からなり、図における上
面側が蒸発面１１１　となる円板状の陰極１１が固定さ
れている。 冷却床１０及び陰極１１は、それぞれの軸線（中心線）
が軸線Ａに一致するように通電導体８の上に配設されて
いる。通電導体８、冷却床１０及び陰極１１により陰極
部１２が構成されている。

【００２９】２５は、一端側が真空チャンバ１の貫通孔
２１の周端部に接続され、他端側が通電導体８を取り囲
むようにして陰極部支持板２３に接続されたベローズで
あり、このベローズ２５によって真空チャンバ１内部の
気密が保たれるようになっている。この実施例では、上
記の植え込みボルト２２、高さ調節用ナット２３、陰極
部支持板２４及びベローズ２５は、陰極１１をその軸線
Ａ方向に移動させるための陰極移動機構２６を構成して
いる。

【００３０】真空チャンバ１には、陰極１１の軸線Ａと
その軸線を一致させた状態で陰極１１の側面を取り囲む
ようにした円筒状の側面部シールド２７ａが、絶縁体１
４を介して固定されている。この側面部シールド２７ａ
の上には、側面部シールド２７ａの内径よりも小さい内
径を持つ厚みの薄い円環状の上端シールド２７ｂが固定
されおり、側面部シールド２７ａ及び上端シールド２７
ｂによりシールド２７が構成されている。陰極部１２、
シールド２７及び陰極移動機構２６は、アーク蒸発源Ｓ
を構成している。

【００３１】このように構成される真空アーク蒸着装置
の動作を、図４を参照しながら、以下に説明する。装置
の運転開始前には、上端シールド２７ｂの上縁部２７ｂ
ｕは、陰極１１の蒸発面１１１　に対してその高さが同
じになるように陰極移動機構２６によって高さ調整され
ている。そして、装置を長時間運転すると、陰極１１が
消耗することにより、その蒸発面１１１　は、凹状に後
退し底部と壁部を有する形状となり、その壁部上面が上
端シールド２７ｂの上縁部２７ｂｕよりも低くなり、シ
ールド上縁部２７ｂｕと蒸発面１１１　壁部上面とに高
さの差が生じる（図３参照）。この状態でなおも運転を
続けると、先に述べたように、一時的なアーク切れが頻
繁に発生しアーク放電が不安定となる。

【００３２】そこで、上記の高さの差が所定値、例えば
　０．５ｍｍを超えると、高さ調節用ナット２３をそれ
ぞれ緩め、陰極部１２が取り付けられた陰極部支持板２
４を図における上方に前進させてから高さ調節用ナット
２３を再度締め付け、上端シールド２７ｂの上縁部２７
ｂｕと蒸発面１１１　の壁部上面との高さが同じになる
ように高さ位置調整を行う。以後、蒸発面１１１　の壁
部上面と上端シールド２７ｂの上縁部２７ｂｕとの高さ
の差が所定値を超える都度、上記のような高さ位置調整
が行われることになる。

【００３３】このことにより、アーク切れをおこすこと
なく安定したアーク放電を維持できるとともに、従来行
っていた陰極１１の交換をすることなく、陰極１１をそ
の寿命まで使用することができる。なお、陰極移動機構
２６は、陰極の蒸発面とシールドの上縁部との高さが同
じになるように陰極をその軸線方向に移動できるように
したものであればよく、種々の設計変更が可能である。

【００３４】図５は請求項３の発明の一実施例による真
空アーク蒸着装置のアーク蒸発源の断面構成説明図であ
る。アーク蒸発源のシールドの構成が異なる点以外は、
請求項１の構成と同一なので、請求項１のものと実質的
に共通する部分には同一の符号を付してその説明を省略
し、シールドの構成についてのみ説明する。

【００３５】図５に示すように、真空チャンバ１には、
陰極１１の軸線Ａとその軸線を一致させた状態で陰極１
１の側面を取り囲むようにした側面部シールド３１ａが
、絶縁体１４を介して固定されている。そして、側面部
シールド３１ａには、その上縁から内方に突出し、陰極
１１の蒸発面側周辺部１１ａを上方より所定間隔Ｄを隔
てて覆う円環状の縁部シールド３１ｂが取り付けられて
おり、この側面部シールド３１ａと縁部シールド３１ｂ
とによりシールド３１が構成されている。この実施例で
は、アーク蒸発源Ｓは、通電導体８、冷却床１０及び陰
極１１によりなる陰極部１２と、上記のシールド３１と
により構成されている。

【００３６】なお、陰極１１の蒸発面側周辺部１１ａと
縁部シールド３１ｂとの間隔寸法Ｄは、１００　アンペ
ア程度のアーク電流を流す通常の運転条件による実験結
果によれば、最もアーク放電が安定して行える値として
０．５　ｍｍ程度に設定されるものである。また、縁部
シールド３１ｂの厚みとしては２ｍｍ程度が適当である
。

【００３７】上記のように構成されるアーク放電型イオ
ンプレーティング装置の動作を、図５に示す陰極の消耗
の様子を示す図の図６を参照しながら、以下に説明する
。装置が運転されると、シールド３１によって陰極１１
の側面及びその蒸発面側周辺部１１ａが間隔を隔てて覆
われているので、蒸発面側周辺部１１ａには陰極点は形
成されず、蒸発面側周辺部１１ａの内側部分が蒸発面１
１１　となる。このことにより、図５に示すように、長
時間運転を行って蒸発面１１１　が後退しても、縁部シ
ールド３１ｂと陰極１１における蒸発面側周辺部１１ａ
との位置関係を一定に保つことができ、蒸発面１１１　
とシールド縁部３１ｂとの高さ位置の調整を行うことな
く、陰極１１の寿命に至るまで、安定したアーク放電を
維持することができる。

【００３８】

【発明の効果】以上述べたように、請求項１の発明によ
る真空アーク蒸着装置は、陰極点転移防止用のシールド
をその軸線方向に移動させるシールド移動機構を備え、
請求項２の発明による真空アーク蒸着装置は、陰極をそ
の軸線方向に移動させる陰極移動機構を備えたものであ
るから、請求項１、２の発明による真空アーク蒸着装置
では、長時間の運転により陰極が消耗しその蒸発面が後
退しても、シールドの上縁部と陰極の蒸発面との高さが
同じになるように高さ位置調整することができ、これに
より、蒸発面からの陰極点の転移を防ぎアーク切れをお
こすことなく安定したアーク放電を維持できるとともに
、蒸発面が後退しただけのまだ使用可能な陰極を新しい
ものに交換することなく、陰極をその寿命まで使用する
ことが可能となり、陰極の利用効率を高めることができ
る。

【００３９】請求項３の発明による真空アーク蒸着装置
は、陰極の側面に加え陰極における蒸発面側周辺部を上
方より間隔を隔てて覆うようにしたシールドを備えてい
る。これにより、陰極における蒸発面側周辺部は陰極点
が形成されず消耗することがないので、長時間運転を行
って蒸発面側周辺部の内方に形成される蒸発面が後退し
ても、シールドと陰極における蒸発面側周辺部との位置
関係を一定に保つことができ、蒸発面とシールドとの高
さ位置の調整を行うことなく、安定したアーク放電を維
持することができるとともに、陰極をその寿命まで使用
できる。すなわち、本発明によれば、安定したアーク放
電を維持できるとともに陰極の利用効率を高めることが
可能な真空アーク蒸着装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】請求項１の発明の一実施例による真空アーク蒸
着装置の概略を示す全体構成説明図である。

【図２】図１に示す真空アーク蒸着装置のアーク蒸発源
の断面構成説明図である。

【図３】図２に示す陰極の消耗の様子を示す図である。

【図４】請求項２の発明の一実施例による真空アーク蒸
着装置のアーク蒸発源の断面構成説明図である。

【図５】図５は請求項３の発明の一実施例による真空ア
ーク蒸着装置のアーク蒸発源の断面構成説明図である。

【図６】図５に示す陰極の消耗の様子を示す図である。

【図７】従来技術に係る真空アーク金属蒸着装置のアー
ク蒸発源の断面構成説明図である。

【図８】図７に示す陰極の消耗の様子を示す図である。

【符号の説明】

１…真空チャンバ　　４…回転テーブル　　５…被蒸着
物　　６…アーク電源　　７…バイアス電源　　８…通
電導体　　１０…冷却床　　１１…陰極　　１１ａ…陰
極の蒸発面側周辺部　　１１１　…蒸発面　　１１１ａ
…蒸発面の壁部上面　　１２…陰極部　　１３…シール
ド　　１３ａ…下段シールド　　１３ｂ…上段シールド
　　１３ｃ…上端シールド　　１３ｃｕ…上縁部１５，
２２…植え込みボルト　　１６ａ…高さ調節用下側ナッ
ト　　１６ｂ…高さ調節用上側ナット　　１７…シール
ド移動機構　　２３…高さ調節用ナット　　２４…陰極
部支持板　　２５…ベローズ　　２６…陰極移動機構　
　２７…シールド　　２７ａ…側面部シールド　　２７
ｂ…上端シールド　　２７ｂｕ…上縁部　　３１…シー
ルド　　３１ａ…側面部シールド　　３１ｂ…縁部シー
ルド　　Ｓ…アーク蒸発源　　Ａ…軸線

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　皮膜形成材料からなる陰極と、この陰
   極の側面を間隔を隔てて取り囲み前記陰極の軸線と一致
   する軸線を持つとともに、その上縁部側が前記陰極の蒸
   発面側に位置するように設けられたシールドとを真空チ
   ャンバ内に備え、前記陰極と真空チャンバ内に設けられ
   た陽極間にアーク放電を発生させることにより、前記陰
   極の蒸発面からその皮膜形成材料を蒸発させイオン化し
   、真空チャンバ内に前記陰極の蒸発面側に配置された被
   蒸着物の表面にイオン化された被膜形成材料を蒸着させ
   る真空アーク蒸着装置において、前記シールドをその軸
   線方向に移動させるシールド移動機構を備えたことを特
   徴とする真空アーク蒸着装置。
2. 【請求項２】　　皮膜形成材料からなる陰極と、この陰
   極の側面を間隔を隔てて取り囲み前記陰極の軸線と一致
   する軸線を持つとともに、その上縁部側が前記陰極の蒸
   発面側に位置するように設けられたシールドとを真空チ
   ャンバ内に備え、前記陰極と真空チャンバ内に設けられ
   た陽極間にアーク放電を発生させることにより、前記陰
   極の蒸発面からその皮膜形成材料を蒸発させイオン化し
   、真空チャンバ内に前記陰極の蒸発面側に配置された被
   蒸着物の表面にイオン化された被膜形成材料を蒸着させ
   る真空アーク蒸着装置において、前記陰極をその軸線方
   向に移動させる陰極移動機構を備えたことを特徴とする
   真空アーク蒸着装置。
3. 【請求項３】　　皮膜形成材料からなる陰極と、この陰
   極の側面を間隔を隔てて取り囲み前記陰極の軸線と一致
   する軸線を持つとともに、その上縁部側が前記陰極の蒸
   発面側に位置するように設けられたシールドとを真空チ
   ャンバ内に備え、前記陰極と真空チャンバ内に設けられ
   た陽極間にアーク放電を発生させることにより、前記陰
   極の蒸発面からその皮膜形成材料を蒸発させイオン化し
   、真空チャンバ内に前記陰極の蒸発面側に配置された被
   蒸着物の表面にイオン化された被膜形成材料を蒸着させ
   る真空アーク蒸着装置において、前記シールドは、前記
   陰極における蒸発面側周辺部を上方より間隔を隔てて覆
   う、上縁から内方に突出した縁部シールドを備えたこと
   を特徴とする真空アーク蒸着装置。