JPH04354668A - 非球面加工方法 - Google Patents
非球面加工方法Info
- Publication number
- JPH04354668A JPH04354668A JP12764291A JP12764291A JPH04354668A JP H04354668 A JPH04354668 A JP H04354668A JP 12764291 A JP12764291 A JP 12764291A JP 12764291 A JP12764291 A JP 12764291A JP H04354668 A JPH04354668 A JP H04354668A
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- Japan
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- polished
- aspherical surface
- amount
- polishing
- aspherical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
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- 238000003754 machining Methods 0.000 title 1
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- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ガラス材等の被研磨部
材を研磨して非球面形状を得るための加工方法に関する
。
材を研磨して非球面形状を得るための加工方法に関する
。
【０００２】
【従来の技術】従来よりこの種の加工方法として幾つか
の方法が提案されており、その一つにシュミット方式が
ある。これは、研磨ガラス板の周辺を支持した上で支持
部分の内側を陰圧とすることによって研磨ガラス板にた
わみ量を与え、このたわんだ板の表面を研磨し、その後
陰圧を除去することで、研磨面にたわみ量に応じた非球
面量が与えられるようにしたものである。また、他の方
法として例えば特開昭５１−９９５４２号公報に開示さ
れている如く、研磨ガラス板に与えるたわみ量よりも大
きな非球面量が与えられた基板を製作し、研磨時にこの
基板を通じて研磨ガラス板に陰圧を加えて研磨ガラス板
を基板に密着させ、研磨ガラス板の表面を前記方法と同
様に研磨し、その後陰圧を除去し、研磨面に基板のたわ
み量に応じた非球面量を形成する方法がある。
の方法が提案されており、その一つにシュミット方式が
ある。これは、研磨ガラス板の周辺を支持した上で支持
部分の内側を陰圧とすることによって研磨ガラス板にた
わみ量を与え、このたわんだ板の表面を研磨し、その後
陰圧を除去することで、研磨面にたわみ量に応じた非球
面量が与えられるようにしたものである。また、他の方
法として例えば特開昭５１−９９５４２号公報に開示さ
れている如く、研磨ガラス板に与えるたわみ量よりも大
きな非球面量が与えられた基板を製作し、研磨時にこの
基板を通じて研磨ガラス板に陰圧を加えて研磨ガラス板
を基板に密着させ、研磨ガラス板の表面を前記方法と同
様に研磨し、その後陰圧を除去し、研磨面に基板のたわ
み量に応じた非球面量を形成する方法がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、これら従来
の方法では、研磨装置に研磨ガラス板の表面に陰圧を与
えるための気密機構が必要となり、被研磨部材を支持す
る研磨皿の構造が複雑となるばかりか、肉厚の大きい被
研磨部材には十分なたわみ量を与えることが難しく、適
正な非球面量を得ることが出来ないという問題があった
。
の方法では、研磨装置に研磨ガラス板の表面に陰圧を与
えるための気密機構が必要となり、被研磨部材を支持す
る研磨皿の構造が複雑となるばかりか、肉厚の大きい被
研磨部材には十分なたわみ量を与えることが難しく、適
正な非球面量を得ることが出来ないという問題があった
。
【０００４】本考案は、従来の技術の有するこのような
問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とすると
ころは、構造が簡単な研磨装置を用いて、薄い被研磨部
材はもとより厚い部材にも適正な非球面量を与えること
ができる、非球面加工方法を提供しようとするものであ
る。
問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とすると
ころは、構造が簡単な研磨装置を用いて、薄い被研磨部
材はもとより厚い部材にも適正な非球面量を与えること
ができる、非球面加工方法を提供しようとするものであ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段及び作用】上記目的を達成
するために本発明は、被研磨部材を高圧下に配置してた
わみ量を与え、その状態で該被研磨部材の一面又は両面
を平面又は球面に研磨し、その後、該被研磨部材を常圧
下に戻すことによって研磨時に与えられたたわみ量に応
じた非球面量が研磨面に形成されるようにしたものであ
る。
するために本発明は、被研磨部材を高圧下に配置してた
わみ量を与え、その状態で該被研磨部材の一面又は両面
を平面又は球面に研磨し、その後、該被研磨部材を常圧
下に戻すことによって研磨時に与えられたたわみ量に応
じた非球面量が研磨面に形成されるようにしたものであ
る。
【０００６】
【実施例】実施例について図面を参照して説明する。図
１は、１０気圧の高圧状態に保たれた加圧室内に気密機
構を備えていない従来の研磨装置を設置し、該研磨装置
を用いて球面が研磨された被研磨部材の形状を示してい
る。本実施例では、被研磨部材として、波長２０〜４０
Åの軟Ｘ線顕微鏡用多層膜凹面反射鏡に使用されるガラ
ス基板を用いた。この凹面鏡を通常の大気圧下に戻すこ
とによって得られる非球面量を図２に示す。図中、ｘ軸
は凹面鏡の中心点Ｏからの距離を、ｙ軸は研磨面に与え
られる非球面量を示しており、ｘ軸上のＸ１，Ｘ２は図
１に示した凹面鏡表面上の点Ｘ１，Ｘ２に対応している
。尚、Ｘ１，Ｘ２間の距離は数ｍｍである。図２から明
らかなように、本実施例により、最大７０ｎｍの非球面
量を得ることができる。これは、軟Ｘ線領域では十数λ
に相当し、効果的な非球面量である。尚、上記研磨装置
は、高圧下において確実に稼働するよう必要に応じて調
整されるが、被研磨部材が高圧下に配置された状態に加
圧されるよう加圧装置を備えた研磨装置を用いても同様
の効用が得られる。
１は、１０気圧の高圧状態に保たれた加圧室内に気密機
構を備えていない従来の研磨装置を設置し、該研磨装置
を用いて球面が研磨された被研磨部材の形状を示してい
る。本実施例では、被研磨部材として、波長２０〜４０
Åの軟Ｘ線顕微鏡用多層膜凹面反射鏡に使用されるガラ
ス基板を用いた。この凹面鏡を通常の大気圧下に戻すこ
とによって得られる非球面量を図２に示す。図中、ｘ軸
は凹面鏡の中心点Ｏからの距離を、ｙ軸は研磨面に与え
られる非球面量を示しており、ｘ軸上のＸ１，Ｘ２は図
１に示した凹面鏡表面上の点Ｘ１，Ｘ２に対応している
。尚、Ｘ１，Ｘ２間の距離は数ｍｍである。図２から明
らかなように、本実施例により、最大７０ｎｍの非球面
量を得ることができる。これは、軟Ｘ線領域では十数λ
に相当し、効果的な非球面量である。尚、上記研磨装置
は、高圧下において確実に稼働するよう必要に応じて調
整されるが、被研磨部材が高圧下に配置された状態に加
圧されるよう加圧装置を備えた研磨装置を用いても同様
の効用が得られる。
【０００７】又、上述の実施例では、被研磨部材として
ガラス材を用いているが、これに限ることなく、樹脂，
金属等を用いても良い。特に、ヤング率，ポアソン比が
大きい部材であれば、本発明の効果は顕著である。
ガラス材を用いているが、これに限ることなく、樹脂，
金属等を用いても良い。特に、ヤング率，ポアソン比が
大きい部材であれば、本発明の効果は顕著である。
【０００８】更に、上述の実施例では、光学部品を研磨
する手段として本発明を用いたが、成形レンズを製作す
るために、成形基板の表面を非球面に形成する手段とし
て用いても良い。又更に、被研磨部材の裏面をあらかじ
め研削等で曲率をもたせた後に本発明の方法により表面
を研磨すれば、さらに複雑な非球面量を得ることが容易
に可能である。
する手段として本発明を用いたが、成形レンズを製作す
るために、成形基板の表面を非球面に形成する手段とし
て用いても良い。又更に、被研磨部材の裏面をあらかじ
め研削等で曲率をもたせた後に本発明の方法により表面
を研磨すれば、さらに複雑な非球面量を得ることが容易
に可能である。
【０００９】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、研磨装置
に気密機構を必要としないから装置の構造が簡単になる
ばかりか、被研磨部材の厚さに関わらずに適正な非球面
量を確実に得ることができ極めて有効である。
に気密機構を必要としないから装置の構造が簡単になる
ばかりか、被研磨部材の厚さに関わらずに適正な非球面
量を確実に得ることができ極めて有効である。
【図１】（Ａ）は本発明の実施例に被研磨部材として用
いたガラス基板の平面図である。（Ｂ）は図１（Ａ）の
ＩＩ−ＩＩ線に沿う断面図である。
いたガラス基板の平面図である。（Ｂ）は図１（Ａ）の
ＩＩ−ＩＩ線に沿う断面図である。
【図２】本発明の実施例により得られる非球面量を示し
た図である。
た図である。
Claims (1)
- 【請求項１】 被研磨部材を高圧下に配置した状態で
該被研磨部材の一面又は両面を平面又は球面に研磨し、
該被研磨部材を常圧下に戻すことによって研磨面に非球
面形状を得る非球面加工方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12764291A JPH04354668A (ja) | 1991-05-30 | 1991-05-30 | 非球面加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12764291A JPH04354668A (ja) | 1991-05-30 | 1991-05-30 | 非球面加工方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04354668A true JPH04354668A (ja) | 1992-12-09 |
Family
ID=14965144
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12764291A Withdrawn JPH04354668A (ja) | 1991-05-30 | 1991-05-30 | 非球面加工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04354668A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5887048A (en) * | 1996-04-30 | 1999-03-23 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | X-ray reflecting device |
| CN111546135A (zh) * | 2020-04-08 | 2020-08-18 | 上海现代先进超精密制造中心有限公司 | 一种离轴非球面反射镜铣磨模型建立方法 |
-
1991
- 1991-05-30 JP JP12764291A patent/JPH04354668A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5887048A (en) * | 1996-04-30 | 1999-03-23 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | X-ray reflecting device |
| CN111546135A (zh) * | 2020-04-08 | 2020-08-18 | 上海现代先进超精密制造中心有限公司 | 一种离轴非球面反射镜铣磨模型建立方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980806 |