JPH0435003A - センダスト系軟磁性人工格子薄膜 - Google Patents
センダスト系軟磁性人工格子薄膜Info
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- JPH0435003A JPH0435003A JP14297690A JP14297690A JPH0435003A JP H0435003 A JPH0435003 A JP H0435003A JP 14297690 A JP14297690 A JP 14297690A JP 14297690 A JP14297690 A JP 14297690A JP H0435003 A JPH0435003 A JP H0435003A
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- Japan
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- soft magnetic
- sendust
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- thin film
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- 229910018125 Al-Si Inorganic materials 0.000 abstract 1
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y25/00—Nanomagnetism, e.g. magnetoimpedance, anisotropic magnetoresistance, giant magnetoresistance or tunneling magnetoresistance
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
- H01F10/32—Spin-exchange-coupled multilayers, e.g. nanostructured superlattices
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明はＶＴＲ等の磁気ヘッド材料として用いる磁性薄
膜に関する。
膜に関する。
（従来の技術）
ＶＴＲ等の磁気ヘッド材料として従来から基板上に、ス
パッタリングにより数千穴乃至数μｍ（１μｍ＝１０’
人）の厚さのセンダスト（Ｆｅ−ＡＩＳｉ）系軟磁性膜
を形成したものが知られている。
パッタリングにより数千穴乃至数μｍ（１μｍ＝１０’
人）の厚さのセンダスト（Ｆｅ−ＡＩＳｉ）系軟磁性膜
を形成したものが知られている。
（発明が解決しようとする課題）
最近では垂直磁気記録方式の研究などにより磁気ヘッド
材料も益々薄くなる傾向がある。
材料も益々薄くなる傾向がある。
一方、磁気ヘッドは刻々と変化する映像や音声信号の記
録に対して、磁化の方向と強弱を忠実に再現しなければ
ならないので、たやすく磁化及び消磁される性質つまり
軟磁性特性を示す材料を用いる必要がある。
録に対して、磁化の方向と強弱を忠実に再現しなければ
ならないので、たやすく磁化及び消磁される性質つまり
軟磁性特性を示す材料を用いる必要がある。
しかしながら、スパッタリング等によって成膜するセン
ダスト系軟磁性薄膜を１μｍ以下まで薄くすると、軟磁
性特性が劣化する。またｃｏ系アモルファス軟磁性薄膜
は１μｍ以下においても良好な軟磁性をしめすものの耐
熱性に問題がある。
ダスト系軟磁性薄膜を１μｍ以下まで薄くすると、軟磁
性特性が劣化する。またｃｏ系アモルファス軟磁性薄膜
は１μｍ以下においても良好な軟磁性をしめすものの耐
熱性に問題がある。
（課題を解決するための手段）
」−記課題を解決すべく本発明は、非磁性または磁性基
板上に厚さ数十穴乃至数百穴のセンダスト（Ｆ ｅ−Ａ
１−３ Ｌ）系軟磁性材料とこのセンタスト系軟磁性
利料よりも薄く厚さ数十穴乃至数百穴の他の材料、例え
ば酸化チタン（ＴｉＯ２）或いはパーマロイ（Ｎ ｉ−
Ｆ ｅ）とを交互に積層した。
板上に厚さ数十穴乃至数百穴のセンダスト（Ｆ ｅ−Ａ
１−３ Ｌ）系軟磁性材料とこのセンタスト系軟磁性
利料よりも薄く厚さ数十穴乃至数百穴の他の材料、例え
ば酸化チタン（ＴｉＯ２）或いはパーマロイ（Ｎ ｉ−
Ｆ ｅ）とを交互に積層した。
（作用）
スパッタリングによりセンダスＩ・系軟磁性祠料を例え
ば数十穴乃至数百穴、他の材料をセンダスト系軟磁性材
料よりも薄い厚さ例えば数人乃至数十穴の厚さで交互に
積層すると、全体の厚みが１μｍ以下でも十分な軟磁性
特性と耐熱性を発揮する。
ば数十穴乃至数百穴、他の材料をセンダスト系軟磁性材
料よりも薄い厚さ例えば数人乃至数十穴の厚さで交互に
積層すると、全体の厚みが１μｍ以下でも十分な軟磁性
特性と耐熱性を発揮する。
（実施例）
以下に本発明の実施例を添付図面に基いて説明する。
第１図は本発明に係る軟磁性人工格子薄膜の断面図であ
り、非磁性または磁性基板１の表面に厚さ１μｍ以下の
磁性薄膜２を形成している。この磁性薄膜２は厚さが例
えば数十穴乃至数百Ａ（数ｎｍ乃至数十ｎｍ）のセンダ
スト（Ｆ ｅ−Ａ ｌ−８ｉ）系軟磁性材料からなる薄
膜３・・・と厚さが数人乃至数十穴の他の磁性材料或い
は酸化物、具体的には酸化チタン（ＴｉＯ□）又はパー
マロイ（Ｎｉ−Ｆｅ）からなる薄膜４・・・をスパッタ
リング、ＣＶＤ等によって積層している。
り、非磁性または磁性基板１の表面に厚さ１μｍ以下の
磁性薄膜２を形成している。この磁性薄膜２は厚さが例
えば数十穴乃至数百Ａ（数ｎｍ乃至数十ｎｍ）のセンダ
スト（Ｆ ｅ−Ａ ｌ−８ｉ）系軟磁性材料からなる薄
膜３・・・と厚さが数人乃至数十穴の他の磁性材料或い
は酸化物、具体的には酸化チタン（ＴｉＯ□）又はパー
マロイ（Ｎｉ−Ｆｅ）からなる薄膜４・・・をスパッタ
リング、ＣＶＤ等によって積層している。
以下の［表］は基板上にセンダスト系軟磁性材料と他の
材料を交互に積層した本発明に係る薄膜と、基板上にセ
ンダスト系軟磁性材料を単層で形成した従来の薄膜とを
各特性について比較したものである。
材料を交互に積層した本発明に係る薄膜と、基板上にセ
ンダスト系軟磁性材料を単層で形成した従来の薄膜とを
各特性について比較したものである。
［表］
（但し、実験に使用したセンダスト材のＢｓは約８５０
０Ｇ０μＩＯＭＨ，についてはフェライトヨーク法で測
定した。） また第２図はセンダスト系膜３の厚さを３００人、Ｔｉ
Ｏ□の厚さを５ＯＡとし、全体の膜厚を７２０ＯＡとし
た場合の軟磁性特性及びヒステリシス曲線を、第３図は
センダスト系膜３の厚さを７００人、パーマロイの厚さ
を５０人とし、全体の膜厚を３５００人とした場合の軟
磁性特性及びヒステリシス曲線を更に第４図は単層のセ
ンダスト系膜の厚さを６５０ＯＡとした場合の軟磁性特
性及びヒステリシス曲線を表わすグラフであり、これら
のグラフからも明らかなように本発明にかかる積層薄膜
は抗磁力が小さく良好な軟磁性特性を示すことが分る。
０Ｇ０μＩＯＭＨ，についてはフェライトヨーク法で測
定した。） また第２図はセンダスト系膜３の厚さを３００人、Ｔｉ
Ｏ□の厚さを５ＯＡとし、全体の膜厚を７２０ＯＡとし
た場合の軟磁性特性及びヒステリシス曲線を、第３図は
センダスト系膜３の厚さを７００人、パーマロイの厚さ
を５０人とし、全体の膜厚を３５００人とした場合の軟
磁性特性及びヒステリシス曲線を更に第４図は単層のセ
ンダスト系膜の厚さを６５０ＯＡとした場合の軟磁性特
性及びヒステリシス曲線を表わすグラフであり、これら
のグラフからも明らかなように本発明にかかる積層薄膜
は抗磁力が小さく良好な軟磁性特性を示すことが分る。
また、ヒステリシス曲線を測定するために供したサンプ
ルには５５０℃で２時間のアニール（加熱処理）を施し
たが、本発明に係る磁性膜は耐熱性にも優れていること
が判明した。
ルには５５０℃で２時間のアニール（加熱処理）を施し
たが、本発明に係る磁性膜は耐熱性にも優れていること
が判明した。
（効果）
以上に説明したように本発明によれば、スパッタリング
等により厚さが数十穴乃至数百穴のセンダスト系軟磁性
材料と厚さが厚さが数十穴乃至数百穴で且つセンダスト
系軟磁性材料よりも薄い酸化チタン或いはパーマロイ等
の他の材料とを交互に積層したので、積層体全体の厚み
が１μｍ以下でも十分な軟磁性特性と耐熱性を発揮する
。
等により厚さが数十穴乃至数百穴のセンダスト系軟磁性
材料と厚さが厚さが数十穴乃至数百穴で且つセンダスト
系軟磁性材料よりも薄い酸化チタン或いはパーマロイ等
の他の材料とを交互に積層したので、積層体全体の厚み
が１μｍ以下でも十分な軟磁性特性と耐熱性を発揮する
。
第１図は本発明に係る軟磁性人工格子薄膜の断面図、第
２図乃至第４図は本発明に係る軟磁性人工格子薄膜と従
来の軟磁性薄膜の軟磁性特性及びヒステリシス曲線を表
わすグラフである。 ｌ・・・基板、２・・・磁性薄膜、３・・・センダスト
系薄膜、４・・・他の材料からなる薄膜。
２図乃至第４図は本発明に係る軟磁性人工格子薄膜と従
来の軟磁性薄膜の軟磁性特性及びヒステリシス曲線を表
わすグラフである。 ｌ・・・基板、２・・・磁性薄膜、３・・・センダスト
系薄膜、４・・・他の材料からなる薄膜。
Claims (1)
- 基板上に厚さ数十Å乃至数百Åのセンダスト系軟磁性
材料とこのセンダスト系軟磁性材料よりも薄く厚さ数十
Å乃至数百Åの他の材料とを交互に積層したことを特徴
とするセンダスト系軟磁性人工格子薄膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14297690A JPH0435003A (ja) | 1990-05-31 | 1990-05-31 | センダスト系軟磁性人工格子薄膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14297690A JPH0435003A (ja) | 1990-05-31 | 1990-05-31 | センダスト系軟磁性人工格子薄膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0435003A true JPH0435003A (ja) | 1992-02-05 |
Family
ID=15328036
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14297690A Pending JPH0435003A (ja) | 1990-05-31 | 1990-05-31 | センダスト系軟磁性人工格子薄膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0435003A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007069638A1 (ja) * | 2005-12-13 | 2007-06-21 | National Institute For Materials Science | 磁性人工超格子とその製造方法 |
-
1990
- 1990-05-31 JP JP14297690A patent/JPH0435003A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007069638A1 (ja) * | 2005-12-13 | 2007-06-21 | National Institute For Materials Science | 磁性人工超格子とその製造方法 |
| JP4831629B2 (ja) * | 2005-12-13 | 2011-12-07 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | 磁性人工超格子とその製造方法 |
| US8313846B2 (en) | 2005-12-13 | 2012-11-20 | National Institute Of Materials Science | Magnetic artificial superlattice and method for producing the same |
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