JPH04342722A - ポリジフェン酸アミド - Google Patents
ポリジフェン酸アミドInfo
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- JPH04342722A JPH04342722A JP11445491A JP11445491A JPH04342722A JP H04342722 A JPH04342722 A JP H04342722A JP 11445491 A JP11445491 A JP 11445491A JP 11445491 A JP11445491 A JP 11445491A JP H04342722 A JPH04342722 A JP H04342722A
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Landscapes
- Polyamides (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なポリジフェン酸
アミドに関する。詳しく述べると、N−メチル−2−ピ
ロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルスルホオキサイド、テトラヒドロフラン等
の有機溶剤に可溶な新規なポリジフェン酸アミドに関す
る。
アミドに関する。詳しく述べると、N−メチル−2−ピ
ロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルスルホオキサイド、テトラヒドロフラン等
の有機溶剤に可溶な新規なポリジフェン酸アミドに関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来、ポリ−p−フェニレンテレフタル
アミド(PPTA)に代表される全芳香族ポリアミド樹
脂は、高ガラス転移点を有する高耐熱性でかつ高強度と
いう機械的特性の優れた性質により各種の過酷な環境条
件下で使用される繊維材料、フィルム材料、樹脂複合材
料および樹脂改質材料等の工業材料として広く使用され
ている。
アミド(PPTA)に代表される全芳香族ポリアミド樹
脂は、高ガラス転移点を有する高耐熱性でかつ高強度と
いう機械的特性の優れた性質により各種の過酷な環境条
件下で使用される繊維材料、フィルム材料、樹脂複合材
料および樹脂改質材料等の工業材料として広く使用され
ている。
【0003】全芳香族ポリアミドの優れた性質は、PP
TAの例のように分子構造上結晶性の高いテレフタロイ
ル基とp−フェニレン基よりなる構造を有しており、そ
の結果、高耐熱性で、かつ高強度という優れた性質を発
現している反面、溶解性の点で、硫酸等の極めて限られ
た溶剤にしか溶解しないという欠点があり、加工成型上
の難点がある。
TAの例のように分子構造上結晶性の高いテレフタロイ
ル基とp−フェニレン基よりなる構造を有しており、そ
の結果、高耐熱性で、かつ高強度という優れた性質を発
現している反面、溶解性の点で、硫酸等の極めて限られ
た溶剤にしか溶解しないという欠点があり、加工成型上
の難点がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の
目的は、全芳香族ポリアミド樹脂の高耐熱性で、かつ高
強度という優れた性質を保持し、同時に有機溶剤への溶
解性を改良した新規なポリジフェン酸アミドを提供する
ことにある。
目的は、全芳香族ポリアミド樹脂の高耐熱性で、かつ高
強度という優れた性質を保持し、同時に有機溶剤への溶
解性を改良した新規なポリジフェン酸アミドを提供する
ことにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、本発明の
目的物であるポリジフェン酸アミドの一方の構造単位で
あるジフェノイル基構造の持つ非晶性という特性により
、全芳香族ポリアミド樹脂のもつ高耐熱性で、かつ高強
度という優れた性質を損うことなく種々の有機溶剤に可
溶という相反する要求を解決するに至った。
目的物であるポリジフェン酸アミドの一方の構造単位で
あるジフェノイル基構造の持つ非晶性という特性により
、全芳香族ポリアミド樹脂のもつ高耐熱性で、かつ高強
度という優れた性質を損うことなく種々の有機溶剤に可
溶という相反する要求を解決するに至った。
【0006】すなわち、上記諸目的は、(1)式
【00
07】
07】
【化3】
【0008】(但し、式中、Arは化4(2)〜(6)
【0009】
【化4】
【0010】で示される芳香族残基を表し、化4(2)
〜(6)中、Rは水素、炭素数1〜4のアルキル基また
はアルコキシ基を表し、nは0〜3の整数を表す。)の
繰り返し構造単位で示されるポリジフェン酸アミドによ
り達成される。
〜(6)中、Rは水素、炭素数1〜4のアルキル基また
はアルコキシ基を表し、nは0〜3の整数を表す。)の
繰り返し構造単位で示されるポリジフェン酸アミドによ
り達成される。
【0011】本発明は、N−メチル−2−ピロリドン、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチ
ルスルホオキサイドよりなる群から選ばれた少なくとも
1種の有機溶剤に可溶であることを特徴とするポリジフ
ェン酸アミドである。
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチ
ルスルホオキサイドよりなる群から選ばれた少なくとも
1種の有機溶剤に可溶であることを特徴とするポリジフ
ェン酸アミドである。
【0012】
【作用】本発明は、(1)式の繰り返し構造単位で示さ
れるポリジフェン酸アミドで、式中Arは、化4(2)
〜(6)で示される芳香族残基を表し、該芳香族残基中
のRは水素、炭素数1〜4のアルキル基またはアルコキ
シ基を表し、nは0〜3の整数を表すものであり、好ま
しくは水素、メチル基、メトキシ基であり、例えば、化
5(A)〜(K)で表されるものがあげられる。
れるポリジフェン酸アミドで、式中Arは、化4(2)
〜(6)で示される芳香族残基を表し、該芳香族残基中
のRは水素、炭素数1〜4のアルキル基またはアルコキ
シ基を表し、nは0〜3の整数を表すものであり、好ま
しくは水素、メチル基、メトキシ基であり、例えば、化
5(A)〜(K)で表されるものがあげられる。
【0013】
【化5】
【0014】本発明のポリジフェン酸アミドは、固有粘
度が0.05〜0.5dl/gであり、例えば、(1)
式中の芳香族残基Arが(A)のものは0.08、(B
)のものは0.06、(G)のものは0.26、(H)
のものは0.20、(J)のものは0.06、(K)の
ものは0.06等である。
度が0.05〜0.5dl/gであり、例えば、(1)
式中の芳香族残基Arが(A)のものは0.08、(B
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のものは0.20、(J)のものは0.06、(K)の
ものは0.06等である。
【0015】本発明のポリジフェン酸アミドは、N−メ
チル−2−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、ジメチルスルホオキサイド等の有機溶
剤に可溶であり、その溶解度は、25℃のとき、約5g
/100ml以上で、例えば、(1)式中の芳香族残基
Arが(A)〜(K)のものでは、50〜110g/1
00mlである。殊に芳香族残基Arが、化5(J)ま
たは(K)の場合にはテトラヒドロフランにも可溶であ
り、その溶解度は、25℃のとき、例えば、(1)式中
の芳香族残基Arが(J)のものでは、67.7g/1
00ml、(K)のものでは、68.1g/100ml
である。
チル−2−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、ジメチルスルホオキサイド等の有機溶
剤に可溶であり、その溶解度は、25℃のとき、約5g
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Arが(A)〜(K)のものでは、50〜110g/1
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たは(K)の場合にはテトラヒドロフランにも可溶であ
り、その溶解度は、25℃のとき、例えば、(1)式中
の芳香族残基Arが(J)のものでは、67.7g/1
00ml、(K)のものでは、68.1g/100ml
である。
【0016】本発明のポリジフェン酸アミドのガラス転
移点は、150〜300℃で、例えば、(1)式中の芳
香族残基Arが(A)〜(K)のものでは、180〜2
50℃である。
移点は、150〜300℃で、例えば、(1)式中の芳
香族残基Arが(A)〜(K)のものでは、180〜2
50℃である。
【0017】本発明のポリジフェン酸アミドの分解開始
温度は、250〜420℃で、例えば、(1)式中の芳
香族残基Arが(A)〜(K)のものでは、290〜3
70℃である。
温度は、250〜420℃で、例えば、(1)式中の芳
香族残基Arが(A)〜(K)のものでは、290〜3
70℃である。
【0018】これにより、本発明のポリジフェン酸アミ
ドは、全芳香族ポリアミド樹脂のもつ高耐熱性で、かつ
高強度という優れた性質を損うことなく、上記有機溶剤
を溶媒として用いることができ、PPTAに代表される
全芳香族ポリアミド樹脂が硫酸等の強酸にしか溶解しな
いのに比較して、装置の腐食等がなく優れた操作性が得
られ、例えば、溶媒キャスト法等の方法により繊維材料
、フィルム材料、樹脂複合材料および樹脂改質材料等の
各種工業材料として形成することができる。
ドは、全芳香族ポリアミド樹脂のもつ高耐熱性で、かつ
高強度という優れた性質を損うことなく、上記有機溶剤
を溶媒として用いることができ、PPTAに代表される
全芳香族ポリアミド樹脂が硫酸等の強酸にしか溶解しな
いのに比較して、装置の腐食等がなく優れた操作性が得
られ、例えば、溶媒キャスト法等の方法により繊維材料
、フィルム材料、樹脂複合材料および樹脂改質材料等の
各種工業材料として形成することができる。
【0019】本発明のポリジフェン酸アミドは、通常の
ポリアミド製造方法により製造することができ、例えば
、ジフェン酸ハライドを水に不溶の不活性有機溶媒に溶
解あるいは分散させて、水に溶解あるいは分散させたジ
アミン類と混合し、激しく攪拌する界面重合法や、ヘキ
サメチレンスルホアミド、N−メチル−2−ピロリドン
等の溶媒中で、ジフェン酸ハライドとジアミン類を混合
、攪拌する溶液重合法等により得ることができる。溶液
重合法の場合には、必要によりジフェン酸ハライド、ジ
アミン類および生成した全芳香族ポリアミドであるポリ
ジフェン酸アミドの溶解性を上げるために塩化リチウム
あるいは塩化カルシウム等の無機塩を添加してもよい。
ポリアミド製造方法により製造することができ、例えば
、ジフェン酸ハライドを水に不溶の不活性有機溶媒に溶
解あるいは分散させて、水に溶解あるいは分散させたジ
アミン類と混合し、激しく攪拌する界面重合法や、ヘキ
サメチレンスルホアミド、N−メチル−2−ピロリドン
等の溶媒中で、ジフェン酸ハライドとジアミン類を混合
、攪拌する溶液重合法等により得ることができる。溶液
重合法の場合には、必要によりジフェン酸ハライド、ジ
アミン類および生成した全芳香族ポリアミドであるポリ
ジフェン酸アミドの溶解性を上げるために塩化リチウム
あるいは塩化カルシウム等の無機塩を添加してもよい。
【0020】例えば、溶液重合法により本発明のポリジ
フェン酸アミド製造するには、上記溶媒、好ましくはN
−メチル−2−ピロリドンにジフェン酸ハライド、例え
ば、ジフェン酸クロライド1〜10重量部の範囲で使用
し、ジアミン類は、通常、化学量論量を使用すればよい
が、反応の促進、収率並びに経済性を考慮して、ジフェ
ン酸クロライドに対して、化学量論量の0.5〜1.5
倍量、好ましくは0.9〜1.1倍量の範囲で使用すれ
ばよい。その際温度は、−20℃から室温の範囲で0.
1〜3時間の範囲で反応させ、得られた反応物を有機溶
剤、例えば、メタノール等により洗浄し、減圧下溶媒を
除去して目的のポリジフェン酸アミドを得る。得られた
ポリジフェン酸アミドは上記有機溶媒には可溶であるた
め塩化リチウムあるいは塩化カルシウム等の無機塩の添
加は必ずしも必要ではない。
フェン酸アミド製造するには、上記溶媒、好ましくはN
−メチル−2−ピロリドンにジフェン酸ハライド、例え
ば、ジフェン酸クロライド1〜10重量部の範囲で使用
し、ジアミン類は、通常、化学量論量を使用すればよい
が、反応の促進、収率並びに経済性を考慮して、ジフェ
ン酸クロライドに対して、化学量論量の0.5〜1.5
倍量、好ましくは0.9〜1.1倍量の範囲で使用すれ
ばよい。その際温度は、−20℃から室温の範囲で0.
1〜3時間の範囲で反応させ、得られた反応物を有機溶
剤、例えば、メタノール等により洗浄し、減圧下溶媒を
除去して目的のポリジフェン酸アミドを得る。得られた
ポリジフェン酸アミドは上記有機溶媒には可溶であるた
め塩化リチウムあるいは塩化カルシウム等の無機塩の添
加は必ずしも必要ではない。
【0021】本発明において用いられるジアミン類とし
ては、化4(2)〜(6)のような芳香族残基を与える
もので、例えば、2,5−ジアミノトルエン、2,5−
ジアミノアニソール、3,5−ジアミノトルエン、2,
5−ジアミノアニソール、2,4,6−トリメチル−1
,3−フェニレンジアミン、2,4,6−トリメトキシ
−1,3−フェニレンジアミン、3,3´−ジメチル−
4,4´−ジアミノビフェニル、3,3´−ジメトキシ
−4,4´−ジアミノビフェニル、4,4´−(1−メ
チルエチリデン)ビスアニリン、4,4´−(1−メチ
ルエチリデン)ビス−2,6−キシリジン、4,4´−
[1,4−フェニレンビス(1−メチルエチリデン)]
ビスアニリン、4,4´−[1,4−フェニレンビス(
1−メチルエチリデン)]ビス−2,6−キシリジン等
の芳香族ジアミンがあげられる。
ては、化4(2)〜(6)のような芳香族残基を与える
もので、例えば、2,5−ジアミノトルエン、2,5−
ジアミノアニソール、3,5−ジアミノトルエン、2,
5−ジアミノアニソール、2,4,6−トリメチル−1
,3−フェニレンジアミン、2,4,6−トリメトキシ
−1,3−フェニレンジアミン、3,3´−ジメチル−
4,4´−ジアミノビフェニル、3,3´−ジメトキシ
−4,4´−ジアミノビフェニル、4,4´−(1−メ
チルエチリデン)ビスアニリン、4,4´−(1−メチ
ルエチリデン)ビス−2,6−キシリジン、4,4´−
[1,4−フェニレンビス(1−メチルエチリデン)]
ビスアニリン、4,4´−[1,4−フェニレンビス(
1−メチルエチリデン)]ビス−2,6−キシリジン等
の芳香族ジアミンがあげられる。
【0022】
【実施例】次に、実施例により本発明をより具体的に説
明するが、もとより本発明は、これら限定されるもので
はない。
明するが、もとより本発明は、これら限定されるもので
はない。
【0023】物性の測定方法
(1)固有粘度([η],dl/g)
試料を濃硫酸に溶解し、試料濃度0.5g/100ml
(濃硫酸)、温度30℃でキャノンフェンスケ粘度計に
より測定。
(濃硫酸)、温度30℃でキャノンフェンスケ粘度計に
より測定。
【0024】(2)ガラス転移点(Tg,℃)パーキン
エルマー製DSC装置(7Series Therma
l Analysis System)により窒素気流
中、10℃/分の昇温速度で測定。
エルマー製DSC装置(7Series Therma
l Analysis System)により窒素気流
中、10℃/分の昇温速度で測定。
【0025】(3)分解開始温度および10%重量減少
温度(TdおよびT10,℃) セイコー電子工業株式会社製TG・DTA装置(TG/
DAT300)により窒素気流中、10℃/分の昇温速
度で測定。
温度(TdおよびT10,℃) セイコー電子工業株式会社製TG・DTA装置(TG/
DAT300)により窒素気流中、10℃/分の昇温速
度で測定。
【0026】(4)有機溶剤溶解性
N−メチル−2−ピロリドン(NMP)、ジメチルホル
ムアミド(DMF)、ジメチルアセトアミド(DMAc
)、ジメチルスルホオキサイド(DMSO)、テトラヒ
ドロフラン(THF)に対する25℃の溶解度を示す。
ムアミド(DMF)、ジメチルアセトアミド(DMAc
)、ジメチルスルホオキサイド(DMSO)、テトラヒ
ドロフラン(THF)に対する25℃の溶解度を示す。
【0027】(5)赤外線吸収スペクトル島津制作所赤
外分光光度計(IR−470)によりKBr錠剤法で測
定。
外分光光度計(IR−470)によりKBr錠剤法で測
定。
【0028】実施例1
温度計、凝縮機および電磁攪拌機を装着した容量100
mlのガラス製反応器に3,3´−ジメチル−4,4´
−ジアミノビフェニル20ミリモルおよびN−メチル−
2−ピロリドン40mlを仕込み、内容物の温度を0℃
に維持して激しく攪拌しながらジフェン酸クロリド20
ミリモルを投入して3時間反応を行った。
mlのガラス製反応器に3,3´−ジメチル−4,4´
−ジアミノビフェニル20ミリモルおよびN−メチル−
2−ピロリドン40mlを仕込み、内容物の温度を0℃
に維持して激しく攪拌しながらジフェン酸クロリド20
ミリモルを投入して3時間反応を行った。
【0029】反応終了後、重合溶液を蒸留水3リットル
に投入して析出した固形物を濾別して、次に、メタノー
ル0.5リットルで3回洗浄を繰り返し、減圧下80℃
で1晩乾燥して(1)式のArが(G)の化合物の白色
固形物を得た。
に投入して析出した固形物を濾別して、次に、メタノー
ル0.5リットルで3回洗浄を繰り返し、減圧下80℃
で1晩乾燥して(1)式のArが(G)の化合物の白色
固形物を得た。
【0030】得られた固形物の元素分析値、固有粘度、
分解開始温度、10%重量減少温度、ガラス転移点およ
び有機溶剤溶解性の測定結果を表1および表2に示した
。また、赤外線吸収スペクトルを図1に示した。
分解開始温度、10%重量減少温度、ガラス転移点およ
び有機溶剤溶解性の測定結果を表1および表2に示した
。また、赤外線吸収スペクトルを図1に示した。
【0031】実施例2
実施例1の3,3´−ジメチル−4,4´−ジアミノビ
フェニルに代えて3,3´−ジメトキシ−4,4´−ジ
アミノビフェニルを用いた以外は実施例1と同様に行い
、(1)式のArが(H)の化合物の白色固形物を得た
。
フェニルに代えて3,3´−ジメトキシ−4,4´−ジ
アミノビフェニルを用いた以外は実施例1と同様に行い
、(1)式のArが(H)の化合物の白色固形物を得た
。
【0032】得られた固形物の元素分析値、固有粘度、
分解開始温度、10%重量減少温度、ガラス転移点およ
び有機溶剤溶解性の測定結果を表1および表2に示した
。また、赤外線吸収スペクトルを図2に示した。
分解開始温度、10%重量減少温度、ガラス転移点およ
び有機溶剤溶解性の測定結果を表1および表2に示した
。また、赤外線吸収スペクトルを図2に示した。
【0033】実施例3
実施例1の3,3´−ジメチル−4,4´−ジアミノビ
フェニルに代えて4,4´−[1,4−フェニレンビス
(1−メチルエチリデン)]ビスアニリンを用いた以外
は実施例1と同様に行い、(1)式のArが(K)の化
合物の白色固形物を得た。
フェニルに代えて4,4´−[1,4−フェニレンビス
(1−メチルエチリデン)]ビスアニリンを用いた以外
は実施例1と同様に行い、(1)式のArが(K)の化
合物の白色固形物を得た。
【0034】得られた固形物の元素分析値、固有粘度、
分解開始温度、10%重量減少温度、ガラス転移点およ
び有機溶剤溶解性の測定結果を表1および表2に示した
。また、赤外線吸収スペクトルを図3に示した。
分解開始温度、10%重量減少温度、ガラス転移点およ
び有機溶剤溶解性の測定結果を表1および表2に示した
。また、赤外線吸収スペクトルを図3に示した。
【0035】実施例4
実施例1の3,3´−ジメチル−4,4´−ジアミノビ
フェニルに代えて4,4´−[1,4−フェニレンビス
(1−メチルエチリデン)]ビス−2,6−キシリジン
を用いた以外は実施例1と同様に行い、(1)式のAr
が(L)の化合物の白色固形物を得た。
フェニルに代えて4,4´−[1,4−フェニレンビス
(1−メチルエチリデン)]ビス−2,6−キシリジン
を用いた以外は実施例1と同様に行い、(1)式のAr
が(L)の化合物の白色固形物を得た。
【0036】得られた固形物の元素分析値、固有粘度、
分解開始温度、10%重量減少温度、ガラス転移点およ
び有機溶剤溶解性の測定結果を表1および表2に示した
。また、赤外線吸収スペクトルを図4に示した。
分解開始温度、10%重量減少温度、ガラス転移点およ
び有機溶剤溶解性の測定結果を表1および表2に示した
。また、赤外線吸収スペクトルを図4に示した。
【0037】実施例5
実施例1の3,3´−ジメチル−4,4´−ジアミノビ
フェニルに代えて2,5−ジアミノトルエン・硫酸塩を
用いた以外は実施例1と同様に行い、(1)式のArが
(A)の化合物の白色固形物を得た。
フェニルに代えて2,5−ジアミノトルエン・硫酸塩を
用いた以外は実施例1と同様に行い、(1)式のArが
(A)の化合物の白色固形物を得た。
【0038】得られた固形物の元素分析値、固有粘度、
分解開始温度、10%重量減少温度、ガラス転移点およ
び有機溶剤溶解性の測定結果を表1および表2に示した
。また、赤外線吸収スペクトルを図5に示した。
分解開始温度、10%重量減少温度、ガラス転移点およ
び有機溶剤溶解性の測定結果を表1および表2に示した
。また、赤外線吸収スペクトルを図5に示した。
【0039】実施例6
実施例1の3,3´−ジメチル−4,4´−ジアミノビ
フェニルに代えて2,5−ジアミノアニソール・硫酸塩
を用いた以外は実施例1と同様に行い、(1)式のAr
が(A)の化合物の白色固形物を得た。
フェニルに代えて2,5−ジアミノアニソール・硫酸塩
を用いた以外は実施例1と同様に行い、(1)式のAr
が(A)の化合物の白色固形物を得た。
【0040】得られた固形物の元素分析値、固有粘度、
分解開始温度、10%重量減少温度、ガラス転移点およ
び有機溶剤溶解性の測定結果を表1および表2に示した
。また、赤外線吸収スペクトルを図6に示した。
分解開始温度、10%重量減少温度、ガラス転移点およ
び有機溶剤溶解性の測定結果を表1および表2に示した
。また、赤外線吸収スペクトルを図6に示した。
【0041】
【表1】
【0042】
【表2】
【0043】
【発明の効果】本発明のポリジフェン酸アミドは、N−
メチル−2−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ジメチルスルホオキサイドおよびテ
トラヒドロフランよりなる群から選ばれた少なくとも1
種の有機溶剤に可溶であることを特徴とする新規な全芳
香族ポリアミドであり、高耐熱性、高強度の繊維材料、
フィルム材料、樹脂複合材料および樹脂改質材料として
有用な全芳香族ポリアミドである。
メチル−2−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ジメチルスルホオキサイドおよびテ
トラヒドロフランよりなる群から選ばれた少なくとも1
種の有機溶剤に可溶であることを特徴とする新規な全芳
香族ポリアミドであり、高耐熱性、高強度の繊維材料、
フィルム材料、樹脂複合材料および樹脂改質材料として
有用な全芳香族ポリアミドである。
図1は、実施例1で得られたポリジフェン酸アミドの赤
外線吸収スペクトルを示したものである。 図2は、実施例2で得られたポリジフェン酸アミドの赤
外線吸収スペクトルを示したものである。 図3は、実施例3で得られたポリジフェン酸アミドの赤
外線吸収スペクトルを示したものである。 図4は、実施例4で得られたポリジフェン酸アミドの赤
外線吸収スペクトルを示したものである。 図5は、実施例5で得られたポリジフェン酸アミドの赤
外線吸収スペクトルを示したものである。 図6は、実施例6で得られたポリジフェン酸アミドの赤
外線吸収スペクトルを示したものである。
外線吸収スペクトルを示したものである。 図2は、実施例2で得られたポリジフェン酸アミドの赤
外線吸収スペクトルを示したものである。 図3は、実施例3で得られたポリジフェン酸アミドの赤
外線吸収スペクトルを示したものである。 図4は、実施例4で得られたポリジフェン酸アミドの赤
外線吸収スペクトルを示したものである。 図5は、実施例5で得られたポリジフェン酸アミドの赤
外線吸収スペクトルを示したものである。 図6は、実施例6で得られたポリジフェン酸アミドの赤
外線吸収スペクトルを示したものである。
Claims (2)
- 【請求項1】 (1)式 【化1】 (但し、式中、Arは化2(2)〜(6)【化2】 で示される芳香族残基を表し、化2(2)〜(6)中、
Rは水素、炭素数1〜4のアルキル基またはアルコキシ
基を表し、nは0〜3の整数を表す。)の繰り返し構造
単位で示されるポリジフェン酸アミド。 - 【請求項2】 N−メチル−2−ピロリドン、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスル
ホオキサイドおよびテトラヒドロフランよりなる群から
選ばれた少なくとも1種の有機溶剤に可溶であることを
特徴とする請求項1に記載のポリジフェン酸アミド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11445491A JPH04342722A (ja) | 1991-05-20 | 1991-05-20 | ポリジフェン酸アミド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11445491A JPH04342722A (ja) | 1991-05-20 | 1991-05-20 | ポリジフェン酸アミド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04342722A true JPH04342722A (ja) | 1992-11-30 |
Family
ID=14638139
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11445491A Pending JPH04342722A (ja) | 1991-05-20 | 1991-05-20 | ポリジフェン酸アミド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04342722A (ja) |
-
1991
- 1991-05-20 JP JP11445491A patent/JPH04342722A/ja active Pending
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