JPH04338122A - 無水合成石英ガラスの製造方法 - Google Patents
無水合成石英ガラスの製造方法Info
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
造方法、特には無水、無泡であることから耐熱光学用な
どとして有用とされる無水合成石英ガラスを量産性よく
製造する方法に関するものである。
ては、1)酸素プラズマ中に四塩化けい素などのけい素
源を投入し、酸化分解させながら堆積させるプラズマ法
、2)酸水素火炎中で四塩化けい素を火炎加水分解させ
、発生したシリカ粉を集積し、Cl2 −Heガス中で
焼結するス−ト法、3)アルコキシシランの加水分解で
得たシリカをバインダ−で成形し、真空中で処理するか
、He−Cl2 ガス中で焼結する、ゾル−ゲル法が公
知とされている。
石英ガラス中にClが大量に含有されるし、量産性に劣
ること、また石英ガラスが強い脈理をもつものになると
いう不利があり、2) ス−ト法にはス−ト強度に難点
があるためにハンドリングに注意が必要であるし、製品
のカサ比重が0.2 〜0.5 程度であるために大型
品の製造が難しいという欠点がある。また、この3)ゾ
ル−ゲル法には大型品を作ると割れの問題が生じるし、
コスト的に商業ベ−スにのらないという不利がある。
−ゲル法による合成石英ガラスの製造方法について実際
に試作を行ない、ゾル−ゲル法によって得られたシリカ
粉を真空中で焼結すればClなどの不純物を含まない、
無水、無泡の合成石英ガラスを得ることができることを
確認している(特開平3−5329号公報参照)が、こ
れについては大型品を作るときの設備コストが非常に高
くなるという問題点があり、特に真空ホットプレスを使
用する方法には高真空、高温、加圧、広い均熱帯などの
諸条件を全て満たす必要があるために装置上に問題があ
り、これがコストを押上げる要因となっている。
を解決した無水合成石英ガラスの製造方法に関するもの
であり、これはアルキルシリケ−トを加水分解して得た
シリカ粉を耐熱容器中において一軸プレスしながらヘリ
ウムガス中で熱処理してカサ比重が1.0 〜1.5の
焼結体としたのち、炉中において1×10−2ト−ル以
上の減圧下に加熱してカサ比重が2.2 以上のものと
し、ついで常圧下に1,750 ℃以上の温度で熱処理
することを特徴とするものである。
に無水合成石英ガラスを製造する方法について種々検討
した結果、シリカ粉はゾル−ゲル法によって製造し、こ
のシリカ粉を耐熱容器で熱処理してカサ比重が1.0
〜1.5 の焼結体とする工程、この焼結体を炉内、例
えばタングステンヒ−タ−炉内において真空下に加熱し
てカサ比重が2.2 以上のものとしてから、常圧下に
1,750 ℃以上の温度で、熱処理すれば目的とする
無水の合成石英ガラスを容易に、しかも簡単な装置で得
ることができることを見出し、ここに使用する耐熱容器
、タングステンヒ−タ−炉の構成、熱処理条件などにつ
いての研究を進めて本発明を完成させた。以下にこれを
さらに詳述する。
のであり、これは公知のゲル−ゾル法でシリカ粉を作り
、これを耐熱容器中において一軸プレスしながらヘリウ
ム中で熱処理してカサ比重が1.0 〜1.5 の焼結
体としたのち、炉内で真空下に熱処理してカサ比重が2
.2 以上のものとし、ついで常圧下に1,750 ℃
以上で熱処理することを要旨とするものである。
はゾル−ゲル法で製造されたものとされる。したがって
、これはアルキルシリケ−ト、例えばメチルシリケ−ト
をアンモニア水中で加水分解することによって得られた
ものとすればよいが、このシリカ粉は一昼夜デカンテ−
ションしたのち遠心脱水器でろ過し、超純水で洗浄し、
石英ルツボ中で1,000 ℃に加熱して脱炭し、つい
で150 〜200 メッシュに篩別したものとするこ
とがよいが、このものは通常カサ比重が0.62程度の
ものとされる。
器で熱処理されて焼結体とされるのであるが、この耐熱
容器は従来常用されている高価な黒鉛型とする必要はな
く、これは例えば石英ガラス、アルミナ、ムライト、炭
化けい素、シリコンなどで作られたものとすればよいし
、この場合には黒鉛のように焼結体に混入し、泡を発生
させる原因となることもない。
気中において最高1,300 ℃で加熱されるのである
が、この加熱は例えば常圧ホットプレス炉で行えばよい
。この常圧ホットプレス炉に入れられた耐熱容器中のシ
リカ粉は一軸プレスされ、ヘリウムガス雰囲気中での加
熱によりカサ比重の増加した焼結体とされるのであるが
、このカサ比重はそれが1.0 未満では完全にガラス
になるカサ比重2.2 までの収縮率が大きく、つぎの
操作でクラックが発生し、1.5 より大きくすると焼
結体のところどころが閉孔化して泡が閉じこめられ、無
泡のものにならないので、これは1.0 〜1.5 の
範囲とすることが必要とされる。
空下の加熱でさらにカサ比重を上げたのち、常圧下での
1,750 ℃以上の加熱で合成石英ガラスとされるの
であるが、この焼結体はカサ比重が1.0 〜1.5
とされているので、ハンドリングで破壊されることはな
い。この焼結体の加熱をタングステンヒ−タ−炉内で行
なった場合は、このタングステンヒ−タ−炉は断熱材と
して数層のタングステン筒を使用するもので、ガスを吸
着することがないので真空度を簡単に上げることができ
、また昇温にも十分な能力をもつものである。
高真空下で行なって焼結体のカサ比重をそれが完全にガ
ラス化される2.2 以上にまで上昇させるのであるが
、この真空度は1×10−2ト−ル以下では微細な泡が
若干焼結体中に残るので1×10−2ト−ル以上、好ま
しくは1×10−3以上とすることが必要とされるし、
この加熱温度は焼結体の気孔径により変化させる必要が
あるが、例えば気孔径が50μm 程度であれば気孔径
を収縮させて減じるように1,400 〜1,500
℃程度に加熱し、気孔径10μm 以下であれば一気に
1,650 ℃程度で加熱してもよい。
上昇された焼結体は、ついで同じタングステンヒ−タ−
炉内で常圧下に加熱することによって完全に透明な無水
合成石英ガラスとされるのであるが、この加熱温度は1
,750 ℃が一般にガラス安定化領域であり、高温処
理で一部構造が結晶化される場合でも1,750 ℃以
上に加熱すれば完全なガラスとすることができるので、
1,750 ℃以上とすればよい。
20.5重量%のアンモニア水を140ml/分の速度
で同時に滴下し、連続的に球径が700nm である球
状シリカ粒子を作り、これを一昼夜デカンテ−ションし
たのち遠心脱水器でろ過し、超純水で洗浄したのち、石
英ルツボに入れて1,000 ℃まで10時間かけて昇
温して脱炭し、150〜200 メッシュに篩別した。
φ×500mm のカ−ボン製の容器に入れ、この容
器を常圧ホットプレス炉に設置し、上下方向に300k
g の圧力を加え、ヘリウムガス雰囲気で1,200℃
に3時間保持したのち、冷却後取り出して型から離した
ところ、300mm φ×257mm の焼結体が得ら
れ、このものはカサ比重が0.62から1.10に上昇
していた。
炉に設置し、炉内を1×10−6ト−ルに減圧してから
1,200 ℃に2時間保持し、5分で1,650 ℃
まで昇温し、減圧度を1×10−3ト−ルとして1時間
保持したのち、炉内に水素ガスを導入して炉内を常圧に
し、1,750 ℃に30分間加熱したところ、380
mmφ×72mmの透明な合成石英ガラスインゴット
体が得られた。このインゴット体は目視では無泡であり
、顕微鏡検査によっても10μm 以上の泡は検出され
ず、また赤外線吸収スペクトルによるOH含有量検査で
もピ−クが観察されないので無水のものであることが証
明されたし、このものには脈理、粒状構造も認められな
かった。
120 mmφ、長さ250mm の黒鉛型に2kg仕
込み、上下方向から300kg の荷重をかけ、ヘリウ
ムガス雰囲気中で1,200 ℃に3時間保持したとこ
ろ、カサ比重が0.69から1.15になった。
に減圧して1,200 ℃に2時間加熱したのち、6×
10−1ト−ルの減圧下に1,650 ℃で1時間保持
し、アルゴンガスを導入して常圧にもどし、1,750
℃で30分間加熱し、放冷後取り出したところ、石英
ガラスと黒鉛型が密着しており、黒鉛型は一部破損して
いた。なお、このようにして得られた合成石英ガラスイ
ンゴット体は120 mmφ×80mmのもので透明体
であったが、インゴット体の周囲には200 μm 程
度の泡が見られ、OH基含有量はフリ−であったが、2
45nm の紫外線による励起では周囲に緑色のケイ光
が発生した。
に関するものであり、これは前記したよにアルキルシリ
ケ−トの加水分解で得たシリカ粉を耐熱容器中において
一軸プレスしたがらヘリウムガス中で熱処理してカサ比
重が1.0 〜1.5 の焼結体としたのち、炉内にお
いて1×10−2ト−ル以上の減圧下に加熱してカサ比
重が2.2 以上のものとし、ついで常圧下に1,75
0 ℃以上の温度で熱処理することを特徴とするもので
あるが、ここに使用される耐熱容器は石英ガラス、アル
ミナ、ムライト、炭化けい素などで作られる安価なもの
でよく、ここに使用される常圧ホットプレス器も安価な
もので、ヒ−タ−もタングステンヒ−タ−のような簡単
な構造のものでよいので、これによれば目的とする無水
合成石英ガラスを簡単な装置で、容易にしたがって安価
に得ることができるという有利性が与えられる。
Claims (1)
- 【請求項1】アルキルシリケ−トの加水分解で得たシリ
カ粉を耐熱容器中において一軸プレスしながらヘリウム
ガス中で熱処理してカサ比重が1.0 〜1.5 の焼
結体としたのち、炉中において1×10−2ト−ル以上
の減圧下に加熱してカサ比重が2.2 以上のものとし
、ついで常圧下に1.750 ℃以上の温度で熱処理す
ることを特徴とする無水合成石英ガラスの製造方法。
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Cited By (2)
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-
1991
- 1991-05-15 JP JP3139609A patent/JPH0729790B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
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JP2008189547A (ja) * | 2008-04-10 | 2008-08-21 | Asahi Glass Co Ltd | 合成石英ガラスおよびその製造方法 |
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JPH0729790B2 (ja) | 1995-04-05 |
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