JPH04332740A - 耐放射線性ポリプロピレン樹脂組成物 - Google Patents
耐放射線性ポリプロピレン樹脂組成物Info
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- JPH04332740A JPH04332740A JP10300391A JP10300391A JPH04332740A JP H04332740 A JPH04332740 A JP H04332740A JP 10300391 A JP10300391 A JP 10300391A JP 10300391 A JP10300391 A JP 10300391A JP H04332740 A JPH04332740 A JP H04332740A
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Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は放射線を照射した時に物
性の劣化が起こりにくいポリプロピレン樹脂組成物に関
する。
性の劣化が起こりにくいポリプロピレン樹脂組成物に関
する。
【0002】
【従来の技術】ポリプロピレンは安価でしかも物性のバ
ランスが比較的良好であることから食品用、医療用に用
いられている。これらの用途では滅菌することが必要で
あり、そのために放射線を照射することが行われる。放
射線による滅菌は簡便であるがポリマーの分子量が低下
し物性が低下する。
ランスが比較的良好であることから食品用、医療用に用
いられている。これらの用途では滅菌することが必要で
あり、そのために放射線を照射することが行われる。放
射線による滅菌は簡便であるがポリマーの分子量が低下
し物性が低下する。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】滅菌の必要な用途が延
びてきており、放射線の照射に対して物性の低下が比較
的生じにくい物性バランスに優れたポリプロピレンの開
発が望まれている。
びてきており、放射線の照射に対して物性の低下が比較
的生じにくい物性バランスに優れたポリプロピレンの開
発が望まれている。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記問題を
解決して耐放射線性に優れ、物性バランスに優れたポリ
プロピレンについて鋭意探索し本発明を完成した。
解決して耐放射線性に優れ、物性バランスに優れたポリ
プロピレンについて鋭意探索し本発明を完成した。
【0005】即ち本発明は、1,2,4−トリクロロベ
ンゼン溶液で測定した13C−NMR でテトラメチル
シランを基準として約20.2ppm に観測されるピ
ークの強度がプロピレン単位のメチル基に帰属されるピ
ークの強度の総和の0.5 以上である実質的にシンジ
オタクチック構造のポリプロピレンとチオエーテルエス
テル系のヒドロパーオキシド分解剤からなる耐放射線性
ポリプロピレン樹脂組成物である。
ンゼン溶液で測定した13C−NMR でテトラメチル
シランを基準として約20.2ppm に観測されるピ
ークの強度がプロピレン単位のメチル基に帰属されるピ
ークの強度の総和の0.5 以上である実質的にシンジ
オタクチック構造のポリプロピレンとチオエーテルエス
テル系のヒドロパーオキシド分解剤からなる耐放射線性
ポリプロピレン樹脂組成物である。
【0006】本発明において用いるポリプロピレンとし
てはシンジオタクチック構造のポリプロピレンが利用さ
れる。シンジオタクチックポリプロピレンを製造するに
用いる触媒としては、J.A.EWENらによるJ.A
m.Chem.Soc.,1988,110,6255
− 6256に記載された化合物が例示できるが、異な
る構造の触媒であっても、プロピレンの単独重合をおこ
なったとき得られるポリプロピレンのシンジオタクチッ
クペンタッド分率が0.7 以上のポリプロピレンを製
造することができるようなものであれば利用できる。
てはシンジオタクチック構造のポリプロピレンが利用さ
れる。シンジオタクチックポリプロピレンを製造するに
用いる触媒としては、J.A.EWENらによるJ.A
m.Chem.Soc.,1988,110,6255
− 6256に記載された化合物が例示できるが、異な
る構造の触媒であっても、プロピレンの単独重合をおこ
なったとき得られるポリプロピレンのシンジオタクチッ
クペンタッド分率が0.7 以上のポリプロピレンを製
造することができるようなものであれば利用できる。
【0007】非対称な配位子を有する遷移金属化合物と
しては上記文献に記載されたイソプロピル(シクロペン
タジエニル−1− フルオレニル) ハフニウムジクロ
リド、あるいはイソプロピル(シクロペンタジエニル−
1− フルオレニル) ジルコニウムジクロリドなどが
例示される。 またアルミノキサンとしては、下記の2種類の化1、化
2の構造(式中、Rは炭素数1〜3の炭化水素残基、n
は1〜50の整数。)のものが知られており、これらは
いずれでも使用でき、特にRがメチル基であるメチルア
ルミノキサンでnが5以上、好ましくは10以上のもの
が利用される。
しては上記文献に記載されたイソプロピル(シクロペン
タジエニル−1− フルオレニル) ハフニウムジクロ
リド、あるいはイソプロピル(シクロペンタジエニル−
1− フルオレニル) ジルコニウムジクロリドなどが
例示される。 またアルミノキサンとしては、下記の2種類の化1、化
2の構造(式中、Rは炭素数1〜3の炭化水素残基、n
は1〜50の整数。)のものが知られており、これらは
いずれでも使用でき、特にRがメチル基であるメチルア
ルミノキサンでnが5以上、好ましくは10以上のもの
が利用される。
【0008】
【化1】
【0009】
【化2】
上記遷移金属化合物に対するアルミノキサンの使用割合
としては10〜1000000モル倍、通常50〜50
00モル倍である。
としては10〜1000000モル倍、通常50〜50
00モル倍である。
【0010】また重合条件については特に制限はなく不
活性媒体を用いる溶媒重合法、或いは実質的に不活性媒
体の存在しない塊状重合法、気相重合法も利用できる。
活性媒体を用いる溶媒重合法、或いは実質的に不活性媒
体の存在しない塊状重合法、気相重合法も利用できる。
【0011】重合温度としては−100 〜200 ℃
、重合圧力としては常圧〜100 kg/cm2 で行
うのが一般的である。好ましくは−100 〜100
℃、常圧〜50kg/cm2である。
、重合圧力としては常圧〜100 kg/cm2 で行
うのが一般的である。好ましくは−100 〜100
℃、常圧〜50kg/cm2である。
【0012】好ましい分子量としては、135 ℃テト
ラリン溶液で測定した極限粘度として0.1 〜3.0
程度であるのが一般的である。
ラリン溶液で測定した極限粘度として0.1 〜3.0
程度であるのが一般的である。
【0013】またタクティシティーとしてはプロピレン
の単独重合体では、シンジオタクチックペンタッド分率
(1,2,4−トリクロロベンゼン溶液で測定した13
C−NMRスペクトルにおいてテトラメチルシランを基
準として約20.2ppm に観測されるシンジオタク
チックペンタッドに帰属されるピークの強度のプロピレ
ンの全メチル基に帰属されるピークの強度の総和に対す
る割合。以下、同様) として0.7 以上好ましくは
0.8 以上である。0.7 より小さいものでは、結
晶性のポリプロピレンとしての特性が充分でなく物性が
不良であり好ましくない。
の単独重合体では、シンジオタクチックペンタッド分率
(1,2,4−トリクロロベンゼン溶液で測定した13
C−NMRスペクトルにおいてテトラメチルシランを基
準として約20.2ppm に観測されるシンジオタク
チックペンタッドに帰属されるピークの強度のプロピレ
ンの全メチル基に帰属されるピークの強度の総和に対す
る割合。以下、同様) として0.7 以上好ましくは
0.8 以上である。0.7 より小さいものでは、結
晶性のポリプロピレンとしての特性が充分でなく物性が
不良であり好ましくない。
【0014】またエチレン、あるいは炭素数4〜20の
α−オレフィンを共重合して用いることももちろん可能
であり、この場合には1,2,4−トリクロロベンゼン
溶液で測定した13C−NMR でテトラメチルシラン
を基準として約20.2ppm に観測されるピークの
強度がプロピレン単位のメチル基に帰属されるピークの
強度の総和の0.5以上であるような高度にシンジオタ
クチック構造のものが利用される。ここで他のオレフィ
ンの割合としては20wt%以下であるのが剛性の点か
ら好ましい。
α−オレフィンを共重合して用いることももちろん可能
であり、この場合には1,2,4−トリクロロベンゼン
溶液で測定した13C−NMR でテトラメチルシラン
を基準として約20.2ppm に観測されるピークの
強度がプロピレン単位のメチル基に帰属されるピークの
強度の総和の0.5以上であるような高度にシンジオタ
クチック構造のものが利用される。ここで他のオレフィ
ンの割合としては20wt%以下であるのが剛性の点か
ら好ましい。
【0015】本発明において用いるチオエーテルエステ
ル系のヒドロパーオキシド分解剤としては種々の構造の
ものが知られているがジチオアセティックアシッド、ジ
チオプロピオニックアシッド、ジチオブテニックアシッ
ドなどのチオエーテルカルボン酸と炭素数5〜25程度
の高級アルコール、例えばラウリルアルコール、トリデ
シルアルコール、パルミティルアルコール、ステアリル
アルコールのジエステルが好ましく例示される。具体的
にはジラウリル−3,3’−チオジプロピオネート、ジ
トリデシル−3,3’−チオジプロピオネート、ジミリ
スティル−3,3’−チオジプロピオネート、ジステア
リル−3,3’−チオジプロピオネートなどが例示され
る。
ル系のヒドロパーオキシド分解剤としては種々の構造の
ものが知られているがジチオアセティックアシッド、ジ
チオプロピオニックアシッド、ジチオブテニックアシッ
ドなどのチオエーテルカルボン酸と炭素数5〜25程度
の高級アルコール、例えばラウリルアルコール、トリデ
シルアルコール、パルミティルアルコール、ステアリル
アルコールのジエステルが好ましく例示される。具体的
にはジラウリル−3,3’−チオジプロピオネート、ジ
トリデシル−3,3’−チオジプロピオネート、ジミリ
スティル−3,3’−チオジプロピオネート、ジステア
リル−3,3’−チオジプロピオネートなどが例示され
る。
【0016】本発明においてポリプロピロピレンに対す
るチオエーテルエステル系のヒドロパーオキシド分解剤
の使用割合としてはポリプロピロピレン100 部に対
し1〜0.0001好ましくは0.5 〜0.001
程度である。
るチオエーテルエステル系のヒドロパーオキシド分解剤
の使用割合としてはポリプロピロピレン100 部に対
し1〜0.0001好ましくは0.5 〜0.001
程度である。
【0017】本発明においては成形時の熱分解などを避
けるためさらに、リン系の酸化防止剤としてトリアルキ
ルホスファイト(イソデシル、トリデシル等)、フェニ
ルジアルキルホスファイト(イソデシル、イソオクチル
等)、ジフェニルアルキルホスファイト(イソデシル、
イソオクチル等)、トリフェニルホスファイト、置換ト
リフェニルホスファイト、ホスファラスアシド(1,1
−ビフェニル−4,4’−ジイルビステトラキス(2,
4−ビス(1,1’−ジメチルエチル)フェニル))エ
ステル、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベン
ジルホスフェイト−ジエチルエステル、9,10−ジヒ
ドロ−9−キサ−10−ホスフォペナントレン−10−
オキシド、ソジウムビス(4−t−ブチルフェニル)ホ
スフェイト、ソジウム−2,2’−メチレン−ビス(4
,6−ジ−t−ブチルフェニル)−ホスフェイト、1,
3−ビス(ジフェノキシホスフォニルオキシ)−ベンゼ
ンあるいは、アミン系の酸化防止剤として、アルキル置
換ジフェニルアミン、ジアリル−p−フェニレンジアミ
ンあるいはその置換体、6−エトキシ2,2’,4−ト
リメチル−1,2−ジヒドロキノリンなどの置換キノリ
ン、2,2’,6,6’−テトラアルキルピペリジンな
どの置換ピペリジンあるいは高級カルボン酸の金属塩と
して、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステ
アリン酸などの酸のカルシウム、亜鉛、アルミニウムな
どの金属塩などを併用することができる。
けるためさらに、リン系の酸化防止剤としてトリアルキ
ルホスファイト(イソデシル、トリデシル等)、フェニ
ルジアルキルホスファイト(イソデシル、イソオクチル
等)、ジフェニルアルキルホスファイト(イソデシル、
イソオクチル等)、トリフェニルホスファイト、置換ト
リフェニルホスファイト、ホスファラスアシド(1,1
−ビフェニル−4,4’−ジイルビステトラキス(2,
4−ビス(1,1’−ジメチルエチル)フェニル))エ
ステル、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベン
ジルホスフェイト−ジエチルエステル、9,10−ジヒ
ドロ−9−キサ−10−ホスフォペナントレン−10−
オキシド、ソジウムビス(4−t−ブチルフェニル)ホ
スフェイト、ソジウム−2,2’−メチレン−ビス(4
,6−ジ−t−ブチルフェニル)−ホスフェイト、1,
3−ビス(ジフェノキシホスフォニルオキシ)−ベンゼ
ンあるいは、アミン系の酸化防止剤として、アルキル置
換ジフェニルアミン、ジアリル−p−フェニレンジアミ
ンあるいはその置換体、6−エトキシ2,2’,4−ト
リメチル−1,2−ジヒドロキノリンなどの置換キノリ
ン、2,2’,6,6’−テトラアルキルピペリジンな
どの置換ピペリジンあるいは高級カルボン酸の金属塩と
して、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステ
アリン酸などの酸のカルシウム、亜鉛、アルミニウムな
どの金属塩などを併用することができる。
【0018】これらの使用割合としてはポリプロピロピ
レン100 部に対し1〜0.0001好ましくは0.
5 〜0.001 程度である。
レン100 部に対し1〜0.0001好ましくは0.
5 〜0.001 程度である。
【0019】この組成物の利用方法については特に制限
はなく通常の方法で成形して利用される。
はなく通常の方法で成形して利用される。
【0020】
【実施例】以下に実施例を示しさらに本発明を説明する
。
。
【0021】実施例1
常法にしたがって合成したイソプロピルシクロペンタジ
エニル−1− フルオレンをリチウム化し、四塩化ジル
コニウムと反応し再結晶することで得たイソプロピル(
シクロペンタジエニル−1− フルオレニル) ジルコ
ニウムジクロリド0.2gと東ソー・アクゾ(株)製メ
チルアルミノキサン(重合度16.1)30g を用い
、内容積200 リッターのオートクレーブでプロピレ
ンを装入して20℃で重合圧力3kg/cm2−G と
なる様にプロピレンを追加しながら、20℃で2時間重
合し、ついでメタノールとアセト酢酸メチルで脱灰処理
し塩酸水溶液で洗浄し、ついで濾過して5.6kgのシ
ンジオタクチックポリプロピレンを得た。
エニル−1− フルオレンをリチウム化し、四塩化ジル
コニウムと反応し再結晶することで得たイソプロピル(
シクロペンタジエニル−1− フルオレニル) ジルコ
ニウムジクロリド0.2gと東ソー・アクゾ(株)製メ
チルアルミノキサン(重合度16.1)30g を用い
、内容積200 リッターのオートクレーブでプロピレ
ンを装入して20℃で重合圧力3kg/cm2−G と
なる様にプロピレンを追加しながら、20℃で2時間重
合し、ついでメタノールとアセト酢酸メチルで脱灰処理
し塩酸水溶液で洗浄し、ついで濾過して5.6kgのシ
ンジオタクチックポリプロピレンを得た。
【0022】このポリプロピレンは13C−NMR に
よればシンジオタクチックペンタッド分率は0.935
であり、135 ℃テトラリン溶液で測定した極限粘
度(以下、ηと略記)は1.45、1,2,4−トリク
ロロベンゼンで測定したMW/MN は2.2 であっ
た。
よればシンジオタクチックペンタッド分率は0.935
であり、135 ℃テトラリン溶液で測定した極限粘
度(以下、ηと略記)は1.45、1,2,4−トリク
ロロベンゼンで測定したMW/MN は2.2 であっ
た。
【0023】このポリプロピレンにステアリン酸カルシ
ウム0.1wt %、ジステアリル−3,3’−チオジ
プロピオネートを0.1 wt%加えて造粒し、厚さ2
mm のシートとし1Mrad/hr でγ線を3Mr
ad 照射し前後の以下の物性を測定した。 曲げ剛性度: kg/cm2 ASTM D−
747(23 ℃)引張降伏強さ: kg/cm2
ASTM D−638(23℃)破断時伸び:
% ASTM D−638(23 ℃)
アイゾット( ノッチ付) 衝撃強度:kg・cm/c
m ASTM D−638(23℃、−10℃) 照射前の曲げ剛性度、引張降伏強さ、破断時伸び、アイ
ゾット衝撃強度 (23℃、−10℃) はそれぞれ6
100、250 、680 、48、3.8 であり、
照射後はそれぞれ6100、255 、680 、48
、3.8 であり照射後も物性は全く変化しなかった。
ウム0.1wt %、ジステアリル−3,3’−チオジ
プロピオネートを0.1 wt%加えて造粒し、厚さ2
mm のシートとし1Mrad/hr でγ線を3Mr
ad 照射し前後の以下の物性を測定した。 曲げ剛性度: kg/cm2 ASTM D−
747(23 ℃)引張降伏強さ: kg/cm2
ASTM D−638(23℃)破断時伸び:
% ASTM D−638(23 ℃)
アイゾット( ノッチ付) 衝撃強度:kg・cm/c
m ASTM D−638(23℃、−10℃) 照射前の曲げ剛性度、引張降伏強さ、破断時伸び、アイ
ゾット衝撃強度 (23℃、−10℃) はそれぞれ6
100、250 、680 、48、3.8 であり、
照射後はそれぞれ6100、255 、680 、48
、3.8 であり照射後も物性は全く変化しなかった。
【0024】比較例1
添加剤としてトリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル
)フォスファイトを0.1 wt%、コハク酸ジメチル
−1−(2−ヒドロキシエチル)−4−ヒドロキシ−2
,2’,6,6’−テトラメチルピペリジン重縮合物0
.01wt%をステアリン酸カルシウム0.1wt %
、ジステアリル−3,3’−チオジプロピオネート0.
1 wt%にかえて用いた他は実施例1 と同様にした
ところ、照射前の曲げ剛性度、引張降伏強さ、破断時伸
び、アイゾット衝撃強度 (23℃、−10℃) はそ
れぞれ6200、260 、550 、45、3.6
であり、照射後はそれぞれ6100、265 、390
、38、3.4であった。
)フォスファイトを0.1 wt%、コハク酸ジメチル
−1−(2−ヒドロキシエチル)−4−ヒドロキシ−2
,2’,6,6’−テトラメチルピペリジン重縮合物0
.01wt%をステアリン酸カルシウム0.1wt %
、ジステアリル−3,3’−チオジプロピオネート0.
1 wt%にかえて用いた他は実施例1 と同様にした
ところ、照射前の曲げ剛性度、引張降伏強さ、破断時伸
び、アイゾット衝撃強度 (23℃、−10℃) はそ
れぞれ6200、260 、550 、45、3.6
であり、照射後はそれぞれ6100、265 、390
、38、3.4であった。
【0025】
【発明の効果】本発明の組成物は耐放射線性に優れ、し
かも極めて物性バランスに優れており、工業的に極めて
価値がある。
かも極めて物性バランスに優れており、工業的に極めて
価値がある。
Claims (1)
- 【請求項1】 1,2,4−トリクロロベンゼン溶液
で測定した13C−NMR でテトラメチルシランを基
準として約20.2ppm に観測されるピークの強度
がプロピレン単位のメチル基に帰属されるピークの強度
の総和の0.5 以上である実質的にシンジオタクチッ
ク構造のポリプロピレンとチオエーテルエステル系のヒ
ドロパーオキシド分解剤からなる耐放射線性ポリプロピ
レン樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP03103003A JP3135276B2 (ja) | 1991-05-09 | 1991-05-09 | 耐放射線性ポリプロピレン樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP03103003A JP3135276B2 (ja) | 1991-05-09 | 1991-05-09 | 耐放射線性ポリプロピレン樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04332740A true JPH04332740A (ja) | 1992-11-19 |
JP3135276B2 JP3135276B2 (ja) | 2001-02-13 |
Family
ID=14342492
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP03103003A Expired - Fee Related JP3135276B2 (ja) | 1991-05-09 | 1991-05-09 | 耐放射線性ポリプロピレン樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3135276B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6231936B1 (en) | 1995-08-29 | 2001-05-15 | Exxon Chemical Patents, Inc. | Radiation tolerant polypropylene and its useful articles |
WO2008059895A1 (fr) * | 2006-11-17 | 2008-05-22 | Mitsui Chemicals, Inc. | Film en résine de polypropylène et son utilisation |
JP2010189475A (ja) * | 2009-02-16 | 2010-09-02 | Mitsui Chemicals Inc | 放射線滅菌された成形体 |
JP2013209666A (ja) * | 2006-11-17 | 2013-10-10 | Mitsui Chemicals Inc | ポリプロピレン系樹脂フィルムおよびその用途 |
US9382356B2 (en) | 2005-05-18 | 2016-07-05 | Mitsui Chemicals, Inc. | Catalyst for olefin polymerization, method for producing olefin polymer, method for producing propylene-based copolymer, propylene polymer, propylene-based polymer composition, and use of those |
-
1991
- 1991-05-09 JP JP03103003A patent/JP3135276B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6231936B1 (en) | 1995-08-29 | 2001-05-15 | Exxon Chemical Patents, Inc. | Radiation tolerant polypropylene and its useful articles |
US9382356B2 (en) | 2005-05-18 | 2016-07-05 | Mitsui Chemicals, Inc. | Catalyst for olefin polymerization, method for producing olefin polymer, method for producing propylene-based copolymer, propylene polymer, propylene-based polymer composition, and use of those |
WO2008059895A1 (fr) * | 2006-11-17 | 2008-05-22 | Mitsui Chemicals, Inc. | Film en résine de polypropylène et son utilisation |
JP2008143919A (ja) * | 2006-11-17 | 2008-06-26 | Mitsui Chemicals Inc | ポリプロピレン系樹脂フィルムおよびその用途 |
JP2013209666A (ja) * | 2006-11-17 | 2013-10-10 | Mitsui Chemicals Inc | ポリプロピレン系樹脂フィルムおよびその用途 |
JP2010189475A (ja) * | 2009-02-16 | 2010-09-02 | Mitsui Chemicals Inc | 放射線滅菌された成形体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3135276B2 (ja) | 2001-02-13 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |