JPH04328229A - Ｘ線発生装置 - Google Patents
Ｘ線発生装置Info
- Publication number
- JPH04328229A JPH04328229A JP9777091A JP9777091A JPH04328229A JP H04328229 A JPH04328229 A JP H04328229A JP 9777091 A JP9777091 A JP 9777091A JP 9777091 A JP9777091 A JP 9777091A JP H04328229 A JPH04328229 A JP H04328229A
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- Japan
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- target
- ray
- electron beam
- generating device
- ray tube
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- Pending
Links
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- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- NMFHJNAPXOMSRX-PUPDPRJKSA-N [(1r)-3-(3,4-dimethoxyphenyl)-1-[3-(2-morpholin-4-ylethoxy)phenyl]propyl] (2s)-1-[(2s)-2-(3,4,5-trimethoxyphenyl)butanoyl]piperidine-2-carboxylate Chemical compound C([C@@H](OC(=O)[C@@H]1CCCCN1C(=O)[C@@H](CC)C=1C=C(OC)C(OC)=C(OC)C=1)C=1C=C(OCCN2CCOCC2)C=CC=1)CC1=CC=C(OC)C(OC)=C1 NMFHJNAPXOMSRX-PUPDPRJKSA-N 0.000 description 1
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Landscapes
- X-Ray Techniques (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、蛍光Ｘ線分析装置、Ｘ
線回折装置、Ｘ線光電子分析装置等、あらゆるＸ線応用
装置において用いられるＸ線発生装置（発生源）に関す
る。
線回折装置、Ｘ線光電子分析装置等、あらゆるＸ線応用
装置において用いられるＸ線発生装置（発生源）に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】発生するＸ線の強度を大きくする（すな
わち、Ｘ線光子の数を増やす）ためには、陰極電流を増
加し、対陰極（ターゲット）に衝突する電子の数を増や
す必要がある。しかし、図３（ａ）に示すように、大量
の、しかも、高速の電子をターゲットの狭い領域に絞っ
て照射すると、照射箇所は非常に高温となり、短時間の
うちにターゲットが損傷してしまう。このようなターゲ
ットの局部的損傷を避けるための方法の一つに、図３（
ｂ）に示すように、電子を照射する領域を広くし、ター
ゲット上の電流密度を小さくするという方法がある。 しかしこの場合、Ｘ線発生点が広がってしまい、点光源
性を要求する多くのＸ線応用装置において利用すること
が困難となる。また、発生するＸ線の単色化が困難とな
り、回折精度が悪化するという理由からも、利用範囲が
限定されてしまう。ターゲットの局部的損傷を防止する
もう一つの方法として現在広く使われているのが、図３
（ｃ）に示すように、ターゲットを回転するという方法
である（回転陽極Ｘ線管）。
わち、Ｘ線光子の数を増やす）ためには、陰極電流を増
加し、対陰極（ターゲット）に衝突する電子の数を増や
す必要がある。しかし、図３（ａ）に示すように、大量
の、しかも、高速の電子をターゲットの狭い領域に絞っ
て照射すると、照射箇所は非常に高温となり、短時間の
うちにターゲットが損傷してしまう。このようなターゲ
ットの局部的損傷を避けるための方法の一つに、図３（
ｂ）に示すように、電子を照射する領域を広くし、ター
ゲット上の電流密度を小さくするという方法がある。 しかしこの場合、Ｘ線発生点が広がってしまい、点光源
性を要求する多くのＸ線応用装置において利用すること
が困難となる。また、発生するＸ線の単色化が困難とな
り、回折精度が悪化するという理由からも、利用範囲が
限定されてしまう。ターゲットの局部的損傷を防止する
もう一つの方法として現在広く使われているのが、図３
（ｃ）に示すように、ターゲットを回転するという方法
である（回転陽極Ｘ線管）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ターゲットを回転させ
ることにより、電子線照射位置はターゲット上で常に移
動することになり、ターゲットの局部的な温度上昇を防
止することができるが、この方法ではターゲットを回転
させるための空間が必要となり、Ｘ線管が大きくならざ
るを得ないという欠点がある。本発明はこのような課題
を解決するために成されたものであり、その目的とする
ところは、コンパクトであり、かつ、Ｘ線出力を大きく
してもターゲットが損傷しにくいＸ線発生装置を提供す
ることにある。
ることにより、電子線照射位置はターゲット上で常に移
動することになり、ターゲットの局部的な温度上昇を防
止することができるが、この方法ではターゲットを回転
させるための空間が必要となり、Ｘ線管が大きくならざ
るを得ないという欠点がある。本発明はこのような課題
を解決するために成されたものであり、その目的とする
ところは、コンパクトであり、かつ、Ｘ線出力を大きく
してもターゲットが損傷しにくいＸ線発生装置を提供す
ることにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に成された本発明では、加速した電子線を対陰極に照射
することによりＸ線を発生させるＸ線発生装置において
、対陰極を往復運動させる機構を備えることを特徴とす
る。
に成された本発明では、加速した電子線を対陰極に照射
することによりＸ線を発生させるＸ線発生装置において
、対陰極を往復運動させる機構を備えることを特徴とす
る。
【０００５】
【作用】対陰極（ターゲット）が常に往復運動をしてい
るため、電子線が特定の箇所に照射され続けることがな
く、ターゲットが局部的に損傷することがない。このた
め、電子線の照射領域を小さく絞り、Ｘ線発生源をほぼ
点に近くすることができるため、点光源性という多くの
Ｘ線応用装置の要求をも満たすことができる。さらに、
対陰極が大きく回転することがなく、一方向に振動する
だけの空間的余裕を設ければよいため、Ｘ線管を小さく
することができる。
るため、電子線が特定の箇所に照射され続けることがな
く、ターゲットが局部的に損傷することがない。このた
め、電子線の照射領域を小さく絞り、Ｘ線発生源をほぼ
点に近くすることができるため、点光源性という多くの
Ｘ線応用装置の要求をも満たすことができる。さらに、
対陰極が大きく回転することがなく、一方向に振動する
だけの空間的余裕を設ければよいため、Ｘ線管を小さく
することができる。
【０００６】
【実施例】本発明の一実施例であるＸ線管の対陰極（タ
ーゲット）の断面構造を図１に示す。本実施例では、タ
ーゲット１０の左右両側面に永久磁石１１、１２を固定
し、その両側にターゲット１０が振動できるだけの空間
を空けて、電磁石を１３、１４を配置する。両電磁石１
３、１４のコイルは共通の電流源（図示せず）から交流
の励磁電流を受けるが、それらの巻き方向は両者が互い
に逆の極性となるようになっている。ターゲット１０及
び電磁石１３、１４は、窓１６を空けた磁場シールド１
７で覆い、ターゲット１０に照射される電子ビーム１５
の軌道に影響を与えないようにしている。ターゲット１
０の下部にはターゲット冷却用の冷却系１８を設け、タ
ーゲット１０の下面とはベローズ２０で接続する。
ーゲット）の断面構造を図１に示す。本実施例では、タ
ーゲット１０の左右両側面に永久磁石１１、１２を固定
し、その両側にターゲット１０が振動できるだけの空間
を空けて、電磁石を１３、１４を配置する。両電磁石１
３、１４のコイルは共通の電流源（図示せず）から交流
の励磁電流を受けるが、それらの巻き方向は両者が互い
に逆の極性となるようになっている。ターゲット１０及
び電磁石１３、１４は、窓１６を空けた磁場シールド１
７で覆い、ターゲット１０に照射される電子ビーム１５
の軌道に影響を与えないようにしている。ターゲット１
０の下部にはターゲット冷却用の冷却系１８を設け、タ
ーゲット１０の下面とはベローズ２０で接続する。
【０００７】本実施例のＸ線管の作用は次の通りである
。電流源から両側の電磁石１３、１４に交流の励磁電流
を流し、ターゲット１０を左右に振動させる。こうして
ターゲット１０を振動させた状態で、窓１６よりターゲ
ット１０の表面に電子ビーム１５を照射すると、電子ビ
ーム１５が照射された箇所からターゲット１０の物質に
対応したＸ線２２が放出される。Ｘ線２２が発生してい
る間もターゲット１０は振動を続けているため、電子ビ
ーム１５の照射箇所はターゲット上で常に移動しており
、一旦電子ビーム１５に照射され、温度が上昇した箇所
は、ビーム照射箇所が移動した後は冷却水により冷却さ
れる。従って、本実施例のＸ線管ではターゲット１０が
局部的に損傷するということがない。また、ターゲット
１０は左右に振動するのみであるので、ターゲット１０
の移動空間としては比較的小さい空間を設けるだけで十
分であり、Ｘ線管の外形を回転陽極Ｘ線管よりも小さく
することができる。
。電流源から両側の電磁石１３、１４に交流の励磁電流
を流し、ターゲット１０を左右に振動させる。こうして
ターゲット１０を振動させた状態で、窓１６よりターゲ
ット１０の表面に電子ビーム１５を照射すると、電子ビ
ーム１５が照射された箇所からターゲット１０の物質に
対応したＸ線２２が放出される。Ｘ線２２が発生してい
る間もターゲット１０は振動を続けているため、電子ビ
ーム１５の照射箇所はターゲット上で常に移動しており
、一旦電子ビーム１５に照射され、温度が上昇した箇所
は、ビーム照射箇所が移動した後は冷却水により冷却さ
れる。従って、本実施例のＸ線管ではターゲット１０が
局部的に損傷するということがない。また、ターゲット
１０は左右に振動するのみであるので、ターゲット１０
の移動空間としては比較的小さい空間を設けるだけで十
分であり、Ｘ線管の外形を回転陽極Ｘ線管よりも小さく
することができる。
【０００８】本発明の第２の実施例を図２に示す。本実
施例のＸ線発生装置では、永久磁石１１、１２をターゲ
ット１０の下面に配置し、電磁石１３、１４をさらにそ
の下に配置しているため、Ｘ線管の外形をさらに小さく
することができる。
施例のＸ線発生装置では、永久磁石１１、１２をターゲ
ット１０の下面に配置し、電磁石１３、１４をさらにそ
の下に配置しているため、Ｘ線管の外形をさらに小さく
することができる。
【０００９】なお、ターゲット側に固定する磁石は永久
磁石ではなく、電磁石としてもよい。また、ターゲット
１０の材料が強磁性体である場合には、ターゲット側に
永久磁石あるいは電磁石を使用する必要はない。上記両
実施例ではターゲット１０の振動を永久磁石と電磁石の
吸引反発力を利用して行ったが、振動の駆動源は電磁力
に限ることはなく、カム等を利用した機械力により振動
させるようにしてもよい。
磁石ではなく、電磁石としてもよい。また、ターゲット
１０の材料が強磁性体である場合には、ターゲット側に
永久磁石あるいは電磁石を使用する必要はない。上記両
実施例ではターゲット１０の振動を永久磁石と電磁石の
吸引反発力を利用して行ったが、振動の駆動源は電磁力
に限ることはなく、カム等を利用した機械力により振動
させるようにしてもよい。
【００１０】
【発明の効果】本発明に係るＸ線発生装置では、対陰極
が常に振動しているため、電子ビームを細く絞っても対
陰極が局部的に損傷することがない。このため、長時間
、点光源性のよいＸ線源として使用することができる。 また、ターゲットの移動が回転ではなく、単純な振動で
あるため、ターゲットの移動のための周辺空間が小さく
てすむ。このため、Ｘ線発生装置を小型化することがで
きる。
が常に振動しているため、電子ビームを細く絞っても対
陰極が局部的に損傷することがない。このため、長時間
、点光源性のよいＸ線源として使用することができる。 また、ターゲットの移動が回転ではなく、単純な振動で
あるため、ターゲットの移動のための周辺空間が小さく
てすむ。このため、Ｘ線発生装置を小型化することがで
きる。
【図１】 本発明の一実施例であるＸ線管のターゲッ
トの構造を示す断面図。
トの構造を示す断面図。
【図２】 本発明の他の実施例であるＸ線管のターゲ
ットの構造を示す断面図。
ットの構造を示す断面図。
【図３】 Ｘ線発生装置の各種タイプを示す説明図。
１０…ターゲット（対陰極、陽極） １１、１２
…永久磁石 １３、１４…電磁石
１５…電子ビーム １６…電子ビーム照射用窓 １
７…磁場シールド １８…冷却系
２０…ベローズ２２…Ｘ線
…永久磁石 １３、１４…電磁石
１５…電子ビーム １６…電子ビーム照射用窓 １
７…磁場シールド １８…冷却系
２０…ベローズ２２…Ｘ線
Claims (1)
- 【請求項１】 加速した電子線を対陰極に照射するこ
とによりＸ線を発生させるＸ線発生装置において、対陰
極を往復運動させる機構を備えることを特徴とするＸ線
発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9777091A JPH04328229A (ja) | 1991-04-30 | 1991-04-30 | Ｘ線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9777091A JPH04328229A (ja) | 1991-04-30 | 1991-04-30 | Ｘ線発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04328229A true JPH04328229A (ja) | 1992-11-17 |
Family
ID=14201095
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9777091A Pending JPH04328229A (ja) | 1991-04-30 | 1991-04-30 | Ｘ線発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04328229A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004010744A1 (ja) * | 2002-07-19 | 2004-01-29 | Shimadzu Corporation | Ｘ線発生装置 |
| JP2013504365A (ja) * | 2009-09-15 | 2013-02-07 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 分散型ｘ線源及びそれを有するｘ線イメージングシステム |
| JPWO2020084890A1 (ja) * | 2018-10-25 | 2021-09-16 | 株式会社堀場製作所 | Ｘ線分析装置及びｘ線発生ユニット |
-
1991
- 1991-04-30 JP JP9777091A patent/JPH04328229A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004010744A1 (ja) * | 2002-07-19 | 2004-01-29 | Shimadzu Corporation | Ｘ線発生装置 |
| CN1306552C (zh) * | 2002-07-19 | 2007-03-21 | 株式会社岛津制作所 | X射线发生装置 |
| US7305066B2 (en) | 2002-07-19 | 2007-12-04 | Shimadzu Corporation | X-ray generating equipment |
| JP2013504365A (ja) * | 2009-09-15 | 2013-02-07 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 分散型ｘ線源及びそれを有するｘ線イメージングシステム |
| JPWO2020084890A1 (ja) * | 2018-10-25 | 2021-09-16 | 株式会社堀場製作所 | Ｘ線分析装置及びｘ線発生ユニット |
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