JPS585953A - 電子線照射装置 - Google Patents
電子線照射装置Info
- Publication number
- JPS585953A JPS585953A JP10369181A JP10369181A JPS585953A JP S585953 A JPS585953 A JP S585953A JP 10369181 A JP10369181 A JP 10369181A JP 10369181 A JP10369181 A JP 10369181A JP S585953 A JPS585953 A JP S585953A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- scanner
- electron
- deflection
- phase
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K5/00—Irradiation devices
- G21K5/10—Irradiation devices with provision for relative movement of beam source and object to be irradiated
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は１子線照射装置、特に改良されたスキャナーを
備える電子線照射装置に係わるものである。現在その一
例として第１図に概略的に示すようなスキャンニングタ
イプの電子線照射装置が広く使用されている。
備える電子線照射装置に係わるものである。現在その一
例として第１図に概略的に示すようなスキャンニングタ
イプの電子線照射装置が広く使用されている。
図においてｌは加速管であり、２はスキャナーである。
スキャナー２と加速管１は結合され、真空状態に維持さ
れた中で、加速管１により加速された電子ビームは、ス
キャナー２のチャンバー頂部に形成された偏向磁界発生
手段３により偏向を受け、薄状金属板により区画された
照射窓４を通って、この照射窓４の下面に置かれた被照
射体を照射する。
れた中で、加速管１により加速された電子ビームは、ス
キャナー２のチャンバー頂部に形成された偏向磁界発生
手段３により偏向を受け、薄状金属板により区画された
照射窓４を通って、この照射窓４の下面に置かれた被照
射体を照射する。
この場合、電子ビームは前述のように偏向磁界発生装置
３によって、スキャニンクされながら照射窓４に到達す
るから、スキャナー１のチャンバーの形状は、照射窓４
に至る程ひろがる形状とな−〕でいる。
３によって、スキャニンクされながら照射窓４に到達す
るから、スキャナー１のチャンバーの形状は、照射窓４
に至る程ひろがる形状とな−〕でいる。
電子線を十分活用【７、照射作業性を向上させるために
、スキャナー１が電子ビームの偏向に応じ、前述のよう
な底ひろがりの形状を探ることはやむを得ないところで
あるが、このような形状のものにおいては、電子ビーム
衝突により生じるＸ線に対する［７やへいもそれに応じ
て施す必要がある。
、スキャナー１が電子ビームの偏向に応じ、前述のよう
な底ひろがりの形状を探ることはやむを得ないところで
あるが、このような形状のものにおいては、電子ビーム
衝突により生じるＸ線に対する［７やへいもそれに応じ
て施す必要がある。
しかし、スキャナー１の形状を縮少することができるな
ら、それ自体望ましいことであり、これに従−・てしや
へいを施す部分を減少させることができる。
ら、それ自体望ましいことであり、これに従−・てしや
へいを施す部分を減少させることができる。
また、スキャンニングタイプに対し、リニヤ−フィラメ
ントタイプの電子線照射装置が知られている。このタイ
プのものにおいては、広巾のものが製作しにくく、電子
ビームの分布を均一にしにくい面があり、フィラメント
の寿命も短かく、電圧の高いものを作りにくく、現状で
は２５０ＫＶが上限である。
ントタイプの電子線照射装置が知られている。このタイ
プのものにおいては、広巾のものが製作しにくく、電子
ビームの分布を均一にしにくい面があり、フィラメント
の寿命も短かく、電圧の高いものを作りにくく、現状で
は２５０ＫＶが上限である。
本発明は−」二連のような点に鑑み、従来のスキャニン
グタイプの電子ビームの偏向を前記従来のスキャナーに
おけるよりもはるかに大きくとり、結果的には加速管２
を出た電子ビームをその進行方向軸に対し、直角もしく
はこれに近い一定の空間角度をもつように偏向し、しか
も偏向用磁界または電界を前記電子ビーム進行方向軸方
向に移動させるようにし、これに対応して照射窓を電子
ビーム進行方向軸と平行方向に設けたことを特徴とする
電子線照射装置にある。
グタイプの電子ビームの偏向を前記従来のスキャナーに
おけるよりもはるかに大きくとり、結果的には加速管２
を出た電子ビームをその進行方向軸に対し、直角もしく
はこれに近い一定の空間角度をもつように偏向し、しか
も偏向用磁界または電界を前記電子ビーム進行方向軸方
向に移動させるようにし、これに対応して照射窓を電子
ビーム進行方向軸と平行方向に設けたことを特徴とする
電子線照射装置にある。
第２図に本発明電子線照射装置の概略図を示す。
ＩＩは加速管であり、１２はスキャナーである。加速管
１１とスキャナー１２とは結合される。１３ は照射窓
であり、照射窓１３にはスキャナー１２の内外を密封的
に区画する薄状金楓板が固定されている。
１１とスキャナー１２とは結合される。１３ は照射窓
であり、照射窓１３にはスキャナー１２の内外を密封的
に区画する薄状金楓板が固定されている。
捷だ、前記照射窓１３は加速管Ｉ＋、スキャナー１２を
結ぶ軸線と平行してチャンバー１５の壁面に形成されて
おり、所定の長さを有している。
結ぶ軸線と平行してチャンバー１５の壁面に形成されて
おり、所定の長さを有している。
１４は偏向手段によって生じる磁界または電界を示し、
前記磁界または電界は、真空状態に維持された中で、加
速管ＩＩ より出た電子ビームをスキャナー１２にお
いて磁界または電界により一定の空間角度をも−２て偏
向し、かつ前記偏向磁界または電界を双方向矢印で示す
ように”、スキャナー１２の長さ方向に往復移動させる
ことにより、これに対応してほぼ一定の空間角度をもっ
て偏向した電子ビームが、照射窓１３よりその長さ方向
に位置をかえながら外部に投射される。
前記磁界または電界は、真空状態に維持された中で、加
速管ＩＩ より出た電子ビームをスキャナー１２にお
いて磁界または電界により一定の空間角度をも−２て偏
向し、かつ前記偏向磁界または電界を双方向矢印で示す
ように”、スキャナー１２の長さ方向に往復移動させる
ことにより、これに対応してほぼ一定の空間角度をもっ
て偏向した電子ビームが、照射窓１３よりその長さ方向
に位置をかえながら外部に投射される。
前記偏向磁界または電界による偏向角にもとの電子ビー
ムの進行方向軸に対して垂直となることが極めて望まし
いが、必ずしも垂直でなくてもよい。
ムの進行方向軸に対して垂直となることが極めて望まし
いが、必ずしも垂直でなくてもよい。
以上のような構成によれば、スキャナー１２のチャンバ
ー１５は筒状体で済むから、従来のもののように拡がり
はなく、必要なＸ線じゃへい部分もすくなくなる。
ー１５は筒状体で済むから、従来のもののように拡がり
はなく、必要なＸ線じゃへい部分もすくなくなる。
ここで、更に前記偏向手段の具体的構成について説明し
てみると次のとおりである。
てみると次のとおりである。
而に、加速された電子ビームの進行方向軸に清って照射
窓１３を備えることは第２図において説明したものと同
様である。
窓１３を備えることは第２図において説明したものと同
様である。
チャ／バー１５には複数個の偏向電磁石Ｍを取り１１け
る。偏向方向は照射窓１３に電子ビームが向う方向とさ
れ、はぼ一定（直角）の空間角度を持つように偏向され
る。
る。偏向方向は照射窓１３に電子ビームが向う方向とさ
れ、はぼ一定（直角）の空間角度を持つように偏向され
る。
前記電磁６咋は偏向鉄心１６と偏向コイル１７より構成
されている。そしてこれら複数の電磁石を以下説明する
ように、１相、２相、３相または多相電源を位相制御し
て附勢することにより電子ビームを偏向させるのと同時
に、チャンバー１５の長さ方向に重子ビームを移動でき
るように構成される。
されている。そしてこれら複数の電磁石を以下説明する
ように、１相、２相、３相または多相電源を位相制御し
て附勢することにより電子ビームを偏向させるのと同時
に、チャンバー１５の長さ方向に重子ビームを移動でき
るように構成される。
第３図において複数配置された電磁石Ｍを順次附勢すれ
ば、重子ビームは偏向、移動することが理解されよう。
ば、重子ビームは偏向、移動することが理解されよう。
卯、４図に実施例として電磁石Ｍ−１〜Ｍ−５が配置さ
れたものを示す。
れたものを示す。
これについて２相による偏向を説明する。Ｍ−１とＭ−
２に電流０）、Ｍ−２とＭ−３に雷、流■、Ｍ−３とＭ
−４に電流■、・・・・・・と第５図に示すように９０
度位相の遅れた半波電流を流せば、図のＡ時点では電流
（１）が最大で、電流（幻け０である。従って磁石Ｍ−
１１とＭ−２の捷ん中あたりで、等価的に磁石があると
考見られる。
２に電流０）、Ｍ−２とＭ−３に雷、流■、Ｍ−３とＭ
−４に電流■、・・・・・・と第５図に示すように９０
度位相の遅れた半波電流を流せば、図のＡ時点では電流
（１）が最大で、電流（幻け０である。従って磁石Ｍ−
１１とＭ−２の捷ん中あたりで、等価的に磁石があると
考見られる。
ＡよりＣへ変化して行くと、電流■による磁界が−へり
、電Ｒ■による磁界がふえる、従ってＭ−２とＭ−３の
磁界が大きくなり、Ａ時点ではＭ−１とＭ Ｊのまん中
あたりにある等価磁石が電子の方向に進むことになる。
、電Ｒ■による磁界がふえる、従ってＭ−２とＭ−３の
磁界が大きくなり、Ａ時点ではＭ−１とＭ Ｊのまん中
あたりにある等価磁石が電子の方向に進むことになる。
そしてＢ時点では、Ｍ−１とＭ−３の磁界が等しく、Ｍ
−２の磁界が最大となるので、等価磁石はＭ−２の位置
となる。そしてＣ時点では、等価磁石の位置はＭ−２と
Ｍ−３のまん中あたりとなる。
−２の磁界が最大となるので、等価磁石はＭ−２の位置
となる。そしてＣ時点では、等価磁石の位置はＭ−２と
Ｍ−３のまん中あたりとなる。
以後同様にして等価磁石は電子の進行方向に向って進ん
でＭ−４とＭ−５のまん中まで行き、その後は同様な動
作でもとの位置までもどってくる。
でＭ−４とＭ−５のまん中まで行き、その後は同様な動
作でもとの位置までもどってくる。
第６図に実施例として電磁石Ｍ−１〜Ｍ−３が配置され
たものを示す。
たものを示す。
これについて３相による偏向は、本図ならびに第７図に
示す等価磁石移動説明図示すとおりである。
示す等価磁石移動説明図示すとおりである。
この場合、Ｍ−１とＭ−４とＭ−３に電流■を流し、Ｍ
−２とＭ−３とＭ−４に電流■より１２０度遅れ次電流
■を流し、以下順に１２０度遅れた半波電流をＭ−３と
Ｍ−４とＭ−５と磁石を繰下げながら流す。
−２とＭ−３とＭ−４に電流■より１２０度遅れ次電流
■を流し、以下順に１２０度遅れた半波電流をＭ−３と
Ｍ−４とＭ−５と磁石を繰下げながら流す。
３相あるいは多相による偏向は２相によるものと考え方
は同じで、等価磁石が移動することにおいては同一であ
るが、２相によるものに比して等価磁石の移動がなめら
かになり、電子線の分布は良くなるものと期待できる。
は同じで、等価磁石が移動することにおいては同一であ
るが、２相によるものに比して等価磁石の移動がなめら
かになり、電子線の分布は良くなるものと期待できる。
これらの波形の発生方法は、照射窓における精度が良い
分布を考える場合、それぞれの波形を単純な正弦波の半
波波形とするのみではむずかしく、分布が良くなるよう
な波形を順次発生させるような発振器とこれを増巾する
増幅器による走査電源装置が必要であるか、この点は今
後にまつところが大きい。
分布を考える場合、それぞれの波形を単純な正弦波の半
波波形とするのみではむずかしく、分布が良くなるよう
な波形を順次発生させるような発振器とこれを増巾する
増幅器による走査電源装置が必要であるか、この点は今
後にまつところが大きい。
以上説明したところが明らかなように、本発明によれは
、スキャンニングタイプおよびリニヤ−フィラメントタ
イプのものに対して、小形コンパクトな装置となり、し
やへいを要する部分はすくなくなり、広巾のスキャンニ
ング面が得られ、フィラメント寿命が長く、線量分布が
良く、高電圧加速によるものの製作も容易となる。
、スキャンニングタイプおよびリニヤ−フィラメントタ
イプのものに対して、小形コンパクトな装置となり、し
やへいを要する部分はすくなくなり、広巾のスキャンニ
ング面が得られ、フィラメント寿命が長く、線量分布が
良く、高電圧加速によるものの製作も容易となる。
なお、以上実施例は偏向磁石を備える装置について説明
したが、偏向電界を生じるような複数の電極を備え、こ
れに位相制御した偏向電位を印加するような偏向電界型
のものにも適用できる。
したが、偏向電界を生じるような複数の電極を備え、こ
れに位相制御した偏向電位を印加するような偏向電界型
のものにも適用できる。
第１図廿スキャンニングタイプの電子線照射装置の一例
を概略的に示す。 第２図は本発明の電子線照射装置の概略図を示す。 第３図は本発明の一実施例を示す。 第４図は２相による偏向の際のコイル接続図を示す。 第５図は第４図実施例における等価磁石移動の説明図で
ある。 第６図は３相による偏向の際のコイル接続図を示す。 第７図は第６図実施例にお・ける等価磁石移動の説明図
である。 １ 加速管、２・・・・スキャナー、３・・・・偏向
磁界発生手段、４・・・・照射窓、１１・・・・加速管
、１２．・スキャナー、 １３ 照射窓、１４ 偏向
手段、１５・・・電子ビーム、ｉ、・・・・偏向電磁石
、１Ｇ・・・ 偏向鉄心、１７ ・・偏向コイル、１
９・・チャンバー。 ７１図 １３ 芳３図 芳５図 ＢＣ 汀６図 ７７図
を概略的に示す。 第２図は本発明の電子線照射装置の概略図を示す。 第３図は本発明の一実施例を示す。 第４図は２相による偏向の際のコイル接続図を示す。 第５図は第４図実施例における等価磁石移動の説明図で
ある。 第６図は３相による偏向の際のコイル接続図を示す。 第７図は第６図実施例にお・ける等価磁石移動の説明図
である。 １ 加速管、２・・・・スキャナー、３・・・・偏向
磁界発生手段、４・・・・照射窓、１１・・・・加速管
、１２．・スキャナー、 １３ 照射窓、１４ 偏向
手段、１５・・・電子ビーム、ｉ、・・・・偏向電磁石
、１Ｇ・・・ 偏向鉄心、１７ ・・偏向コイル、１
９・・チャンバー。 ７１図 １３ 芳３図 芳５図 ＢＣ 汀６図 ７７図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ｆｉｌ 電子ビームの進行方向軸に対し、前記電子ビ
ーム産はぼ一定の空間角度をもつように偏向し、しかも
偏向された電子ビームを前記電子ビームの進行方向軸に
沿って往復させることができる偏向手段を備えたことを
特徴とする電子線照射装置。 （２）偏向手段はチャンバー上に複数個の偏向磁石を取
り付け、前記偏向磁石のコイルに流す電流は１相、２相
、３相または多相電流とし、各電流位相は偏向された電
子ビームの分布が一様になるように位相制御されること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の電子線照射装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10369181A JPS585953A (ja) | 1981-07-01 | 1981-07-01 | 電子線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10369181A JPS585953A (ja) | 1981-07-01 | 1981-07-01 | 電子線照射装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS585953A true JPS585953A (ja) | 1983-01-13 |
Family
ID=14360798
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10369181A Pending JPS585953A (ja) | 1981-07-01 | 1981-07-01 | 電子線照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS585953A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5595700A (en) * | 1991-05-02 | 1997-01-21 | Mitsubishi Pencil Kabushiki Kaisha | Non-baked color pencil leads and method for preparing same |
-
1981
- 1981-07-01 JP JP10369181A patent/JPS585953A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5595700A (en) * | 1991-05-02 | 1997-01-21 | Mitsubishi Pencil Kabushiki Kaisha | Non-baked color pencil leads and method for preparing same |
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