JPH04325916A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は磁気記録媒体、特に磁性
層が１．０μ以下の非常に薄層な磁気記録媒体に関し、
更に、詳しくは非常に電磁変換特性に優れ、かつ歩留り
が良好な生産性の優れた磁気記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ビデオテープ、オーディオテープ
、磁気ディスク等の磁気記録媒体としては、強磁性酸化
鉄、Ｃｏ変成酸化鉄、ＣｒＯ２　、強磁性合金粉末等を
結合剤中に分散した磁性層を非磁性支持体に塗設したも
のが広く用いられている。近年、記録の高密度化と共に
記録波長が短くなる傾向があり、磁性層の厚さが厚いと
出力が低下する等の記録再生時の厚み損失の問題が大き
くなっている。このため磁性層を薄くすることが行われ
ているが、磁性層を約２μｍ以下に薄くすると磁性層表
面に支持体の表面性の影響が現れ易くなり、電磁変換特
性が悪化する傾向があった。そのため、非磁性支持体表
面に非磁性の厚い下層を設けてから磁性層を上層に設け
ることにより、前記した支持体の表面粗さによる問題を
解消すると共に磁性層を薄層とすることによって、厚み
減磁を減らし高出力を達成しようとする試みが提案され
た。例えば、特開昭６２−１５４２２５号公報では磁性
層の厚さを０．５μｍ以下にするとともに磁性層の表面
電気抵抗が高くなるのを防止するため、磁性層と基体と
の間に導電性微粉末を含む厚さが磁性層の厚さ以上の下
塗り層を設けた磁気記録媒体が提案されている。又、特
開昭６２−２２２４２７号公報には支持体と支持体上に
設けられ、平均粒径が０．５〜３μｍの研磨剤を含有す
る下塗り層と、下塗り層の上に設けられた強磁性粉末を
含有した膜厚１μｍ以下の磁性層を具備した磁気記録媒
体が提案されているが、これは下塗り層中の研磨剤の一
部分が磁性層に突き出しているので、磁気記録媒体の磁
気ヘッドクリーニング作用を併せ持つようにしたもので
ある。このように磁性層を薄くして高密度記録を達成し
、同時に下層非磁性層に帯電防止を図るため、カーボン
ブラックを含めたり、クリニーング特性や耐久性を向上
するために研磨材を添加したりしている。しかしながら
、従来の技術は、非磁性支持体に先ず下層非磁性層を塗
布し、乾燥してから場合によって、カレンダー処理をし
てから上層磁性層を設けているため、製造工程が煩雑で
あると共に以下のような問題があった。即ち、磁性層を
薄層化するためには、塗布量を減らすことかもしくは磁
性塗布液に溶剤を多量に加えて濃度を薄くすることが考
えられる。前者を取る場合、塗布量を減らすと塗布後に
十分なレベリングの時間がなく、乾燥が始まるために、
塗布欠陥、例えばスジや刻印のパターンが残るといった
問題が発生し、歩留まりが非常に悪くなる。後者の方法
を取った場合、磁性塗布液の濃度が希薄であると、でき
あがった塗膜に空隙が多く、十分な強磁性粉末の充填度
が得られないこと、また、空隙が多いために塗膜の強度
が不十分であること等、種々の弊害をもたらす。これら
の問題を解決する一つの手段に、特開昭６３−１９１３
１５号公報に記載されているように、同時重層塗布方式
を用いて下層に非磁性の層を設け、濃度の高い磁性塗布
液を薄く塗布する方法が提案された。この同時重層塗布
方式又は逐次湿潤塗布方式による場合、即ち下層が湿潤
状態にある間に上層を同時又は逐次に塗布するいわゆる
Ｗｅｔ　　ｏｎ　　Ｗｅｔ塗布方式の場合は、すでに重
層の磁性層では様々な検討が為されている。しかしなが
ら下層非磁性層にこの技術を応用しても同じように良好
な結果が得られなかった。つまり、Ｗｅｔ　　ｏｎ　　
Ｗｅｔにより下層非磁性層と上層磁性層を設けると、こ
れら両者の界面において乱れが生じ、ピンホールが生じ
たり、磁性層のハジキを生じたりした。そこで、本発明
者らは、これら下層非磁性層の組成とＷｅｔ　　ｏｎ　
　Ｗｅｔの塗布方式との関係について鋭意検討した結果
、下層非磁性層の非磁性粉末と上層磁性層の強磁性粉末
の間に一定の関係をもたせることにより、これらの欠点
が改良できることを見出し本発明に至った。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、配向
によるスジやピンホールが発生しないため歩留りよくか
つ出力、Ｃ／Ｎ比等の電磁変換特性の優れた薄層磁気記
録媒体を提供することである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、非
磁性支持体上に非磁性粉末を結合剤中に分散させた分散
液を塗設して下層非磁性層を設け、その上に前記下層非
磁性層が湿潤状態のうちに同時又は逐次に、強磁性粉末
を結合剤中に分散させた磁性塗料を塗設して上層磁性層
を設けた磁気記録媒体において、前記上層磁性層の乾燥
厚みが１．０μｍ以下で、前記非磁性粉末の比重は、前
記上層磁性層の強磁性粉末の比重よりその差が０．５以
上大きく、かつ前記下層非磁性層厚みは上層磁性層厚み
の１．５倍以上であることを特徴とする磁気記録媒体に
より達成できる。

【０００５】即ち、本発明は、上層磁性層（以下、単に
上層と言う場合もある）を薄膜化するために、磁性塗布
液塗布量を減らす場合、歩留りをよくするために、同時
重層を採用できると共に下層非磁性層含有非磁性粉末と
上層磁性層含有強磁性粉末との物性、即ち比重および各
層厚を規定したことを最大の特徴とするものである。従
来、下層非磁性層（以下、単に下層と言う場合もある）
の厚みが上層磁性層厚みの１．５倍より厚くなると同時
重層塗布した後に配向処理を行うと激しいスジが発生し
た。この原因は配向時に強磁性粉末が回転運動を起こし
て強磁性粉末同士が動いて凝集しようとするのであるが
、下層が非磁性であるため配向時に強磁性粉末が動きや
すく、そのため凝集しやすいと考えられる。これを改良
するために、下層が湿潤状態でもなるべく動きにくい構
成が望ましい。下層が湿潤状態で動き難くするためには
以下の方法が考えられる。

【０００６】■下層に添加する非磁性粉末の粒子径を大
きくする。 ■下層に添加する非磁性粉末濃度を濃くして粘度を高く
する。 ■下層に添加する非磁性粉末の比重を大きくする。 以上３つの方法はそれぞれ配向スジを少なくすることに
は効果があるが、■の方法は表面性が悪くなる。■の方
法はスジはでないが、液のハンドリングが困難になり、
また、別の塗布欠陥が出やすい。■の方法のみが、弊害
なく、配向スジを減らすことができた。

【０００７】なお、上層磁性層厚みの１．５倍より下層
非磁性層が薄いとこれも湿潤状態で磁性層が動くことが
できず、この場合は配向スジは問題にならない。しかし
、上層磁性層を安定して塗布欠陥なく塗布するためには
、上層磁性層厚みの１．５倍程度の下層厚みが必要であ
る。

【０００８】得られる磁気記録媒体の表面粗さを低くす
るためには、非磁性粉末の平均粒子径は微小である必要
があり、特に０．１μｍ以下に規定することがより好ま
しい。また、微粒子の非磁性粉末を使用することにより
適度のレオロジー特性を得ることができる。

【０００９】本発明に使用できる非磁性粉末は、上層に
用いられる強磁性粉末の比重より０．５以上大きい非金
属粉末である。具体的には金属酸化物、金属炭酸塩、金
属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物、等の
無機質化合物粉末が挙げられる。強磁性粉末にＣｏ変成
γ−酸化鉄やバリウムフェライトを用いる場合は、γ−
酸化鉄の比重が約５であり、バリウムフェライトも同等
なので、５．５以上の非磁性粉末を挙げることができる
。例えば、酸化セリウム、酸化スズ、酸化タングステン
、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化銅、炭化タングス
テン、酸化銀などが単独または組み合わせて使用される
。また、上層磁性層にＦｅ−Ｎｉ合金強磁性粉末を用い
る場合は、合金強磁性粉末の表面酸化層を考慮すると比
重は約６であるので、比重６．５以上の非金属粉末、酸
化セリウム、酸化スズ、酸化タングステン、酸化銀、タ
ングステンカーバイトなどを用いることができる。これ
ら非磁性粉末の粒子サイズは０．０１〜０．１μｍが好
ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁性粉末
を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広
くして同様の効果をもたせることもできる。非磁性粉末
としては、次のものが好ましい。タップ密度は０．０５
〜２ｇ／ｃｃ、好ましくは０．２〜１．５ｇ／ｃｃ。 含水率は０．１〜５％、好ましくは０．２〜３％。ｐＨ
は２〜１１。比表面積は１〜１００ｍ２　／ｇ、好まし
くは３〜５０ｍ２　／ｇ、更に好ましくは５〜４０ｍ２
　／ｇである。結晶子サイズは０．０１μ〜２μが好ま
しい。 ＤＢＰを用いた吸油量は５〜１００ｍｌ／１００ｇ、好
ましくは１０〜８０ｍｌ／１００ｇ、更に好ましくは２
０〜６０ｍｌ／１００ｇである。形状は針状、球状、サ
イコロ状、のいずれでも良い。上記の非磁性粉末は必ず
しも１００％純粋である必要はなく、目的に応じて表面
を他の化合物で処理してもよい。その際、純度は７０％
以上であれば効果を減ずることにはならない。例えば、
酸化チタンを用いる場合、表面をアルミナで処理するこ
とが一般的に用いられている。強熱減量は２０％以下で
あることが好ましい。

【００１０】これらの非磁性粉末は結合剤に対して重量
比率で２０〜０．１、体積比率で１０〜０．２の範囲で
用いられる。特開昭５９−１４２７４１号、同６１−２
１４１２７号、同６３−１４０４２０号には下塗り層に
ＳｎＯ２　を含むことを規定している。これらは上層磁
性層に酸化鉄、もしくはＢａＦｅを用いており、ＳｎＯ
２　より比重は小さいものであるが、いずれも上層磁性
層の下塗処方であり、その厚みは上層磁性層に比べては
るかに薄いものであり、本発明とは別の発明である。

【００１１】本発明の上層磁性層に使用する強磁性粉末
としてはγ−ＦｅＯｘ（ｘ＝１．３３〜１．５）、Ｃｏ
変性γ−ＦｅＯｘ（ｘ＝１．３３〜１．５）、Ｆｅまた
はＮｉまたはＣｏを主成分（７５％以上）とする強磁性
合金微粉末、バリウムフエライト、ストロンチウムフエ
ライトなど公知の強磁性粉末が使用できる。これらの強
磁性粉末には所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、
Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、
Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ
、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍ
ｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわ
ない。これらの強磁性微粉末にはあとで述べる分散剤、
潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前にあらか
じめ処理を行ってもかまわない。具体的には、特公昭４
４−１４０９０号、特公昭４５−１８３７２号、特公昭
４７−２２０６２号、特公昭４７−２２５１３号、特公
昭４６−２８４６６号、特公昭４６−３８７５５号、特
公昭４７−４２８６号、特公昭４７−１２４２２号、特
公昭４７−１７２８４号、特公昭４７−１８５０９号、
特公昭４７−１８５７３号、特公昭３９−１０３０７号
、特公昭４８−３９６３９号、米国特許第３０２６２１
５号、同３０３１３４１号、同３１００１９４号、同３
２４２００５号、同３３８９０１４号などに記載されて
いる。

【００１２】上記強磁性粉末の中で強磁性合金微粉末に
ついては少量の水酸化物、または酸化物を含んでもよい
。強磁性合金微粉末の公知の製造方法により得られたも
のを用いることができ、下記の方法をあげることができ
る。複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水素などの
還元性気体で還元する方法、酸化鉄を水素などの還元性
気体で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る
方法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁性
金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸塩
あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方
法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を得
る方法などである。このようにして得られた強磁性合金
粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に浸漬した
のち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含有
ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したのち乾燥させ
る方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分圧
を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを施
したものでも用いることができる。

【００１３】本発明の上層磁性層の強磁性粉末をＢＥＴ
法による比表面積で表せば２５〜８０ｍ２　／ｇであり
、好ましくは３５〜６０ｍ２　／ｇである。２５以下で
はノイズが高くなり、８０以上では表面性が得にくく好
ましくない。本発明の上層磁性層の強磁性粉末の結晶子
サイズは４５０〜１００オングストロームであり、好ま
しくは３５０〜１５０オングストロームである。酸化鉄
磁性粉末のσＳ　は５０ｅｍｕ／ｇ以上、好ましくは７
０ｅｍｕ／ｇ以上であり、強磁性金属微粉末の場合は１
００ｅｍｕ／ｇ以上が好ましい。

【００１４】強磁性粉末のｒ１５００は１．５以下であ
ることが好ましい。さらに好ましくはｒ１５００は１．
０以下である。ｒ１５００とは磁気記録媒体を飽和磁化
したのち反対の向きに１５００Ｏｅの磁場をかけたとき
反転せずに残っている磁化量の％を示すものである。

【００１５】強磁性粉末の含水率は０．０１〜２％とす
るのが好ましい。結合剤の種類によって強磁性粉末の含
水率は最適化するのが好ましい。γ酸化鉄のタップ密度
は０．５ｇ／ｃｃ以上が好ましく、０．８ｇ／ｃｃ以上
がさらに好ましい。

【００１６】γ酸化鉄を用いる場合、２価の鉄の３価の
鉄に対する比は好ましくは０〜２０％であり、さらに好
ましくは５〜１０％である。また鉄原子に対するコバル
ト原子の量は０〜１５％、好ましくは２〜８％である。

【００１７】強磁性粉末のｐＨは用いる結合剤との組合
せにより最適化することが好ましい。その範囲は４〜１
２であるが、好ましくは６〜１０である。強磁性粉末は
必要に応じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸化物など
で表面処理を施してもかまわない。その量は強磁性粉末
に対し０．１〜１０％であり表面処理を施すと脂肪酸な
どの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ２　以下になり好ま
しい。強磁性粉末には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ
、Ｓｒなどの無機イオンを含む場合があるが、５００ｐ
ｐｍ以下であれば特に特性に影響を与えない。

【００１８】また、本発明に用いられる強磁性粉末は空
孔が少ないほうが好ましくその値は２０容量％以下、さ
らに好ましくは５容量％以下である。また形状について
は先に示した粒子サイズについての特性を満足すれば針
状、粒状、米粒状、板状いずれでもかまわない。強磁性
粉末のＳＦＤ０．６以下を達成するためには、強磁性粉
末のＨｃの分布を小さくする必要がある。そのためには
、ゲータイトの粒度分布をよくする、γ−ヘマタイトの
焼結を防止する、コバルト変性の酸化鉄についてはコバ
ルトの被着速度を従来より遅くするなどの方法がある。

【００１９】本発明にはまた、板状六方晶フエライトと
してバリウムフエライト、ストロンチウムフエライト、
六方晶Ｃｏ粉末が使用できる。バリウムフエライトを用
いる場合、その粒子サイズは０．００１〜１μの直径で
厚みが直径の１／２〜１／２０である。比重は４〜６ｇ
／ｃｃで、比表面積は１〜６０ｍ２／ｇである。

【００２０】本発明に使用される結合剤としては従来公
知の熱可塑系樹脂、熱硬化系樹脂、反応型樹脂やこれら
の混合物が使用される。熱可塑系樹脂としては、ガラス
転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１００
０〜２０００００、好ましくは１００００〜１００００
０、重合度が約５０〜１０００程度のものである。この
ような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルア
ルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステ
ル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸
、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチ
レン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニルエ
ーテル、等を構成単位として含む重合体または共重合体
、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、熱
硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフエノール樹脂、
エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メ
ラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホル
ムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ−ポリア
ミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリ
マーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシア
ネートの混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートの
混合物等があげられる。

【００２１】これらの樹脂については朝倉書店発行の「
プラスチックハンドブック」に詳細に記載されている。 また、公知の電子線硬化型樹脂を下層、または上層に使
用することも可能である。これらの例とその製造方法に
ついては特開昭６２−２５６２１９号に詳細に記載され
ている。以上の樹脂は単独または組合せて使用できるが
、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸
ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール樹
脂、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体の群
から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の組合
せ、またはこれらにポリイソシアネートを組合せたもの
があげられる。

【００２２】ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポ
リウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテル
ポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレ
タン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポ
リカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用で
きる。ここに示したすべての結合剤について、より優れ
た分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、ＣＯＯＭ
、ＳＯ３　Ｍ、ＯＳＯ３　Ｍ、Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）２　、Ｏ
−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）２　、（以上につきＭは水素原子、ま
たはアルカリ金属塩基）、ＯＨ、ＮＲ２　、Ｎ＋　Ｒ３
　、Ｒは炭化水素基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、など
から選ばれる少なくとも一つ以上の極性基を共重合また
は付加反応で導入したものを用いることが好ましい。こ
のような極性基の量は１０−１〜１０−８モル／ｇであ
り、好ましくは１０−２〜１０−６モル／ｇである。

【００２３】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカーバイト社製：ＶＡＧＨ、Ｖ
ＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、Ｖ
ＹＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、Ｐ
ＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業
社製：ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡＬ
、ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、Ｍ
ＰＲ−ＴＭ、電気化学社製：１０００Ｗ、ＤＸ８０、Ｄ
Ｘ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、日本ゼオン社製：ＭＲ１
１０、ＭＲ１００、４００Ｘ１１０Ａ、日本ポリウレタ
ン社製：ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０
４、大日本インキ社製：パンデックスＴ−５１０５、Ｔ
−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バーノックＤ−４００、
Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９、７２０９、東
洋紡社製：バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＲＶ
５３０、ＲＶ２８０、大日精化社製：ダイフエラミン４
０２０、５０２０、５１００、５３００、９０２０、９
０２２、７０２０、三菱化成社製：ＭＸ５００４、三洋
化成社製：サンプレンＳＰ−１５０、旭化成社製：サラ
ンＦ３１０、Ｆ２１０などがあげられる。

【００２４】本発明の上層磁性層に用いられる結合剤は
強磁性粉末に対し、５〜５０重量％の範囲、好ましくは
１０〜３０重量％の範囲で用いられる。塩化ビニル系樹
脂を用いる場合は、５〜３０重量％、ポリウレタン樹脂
合を用いる場合は２〜２０重量％、ポリイソシアネート
は２〜２０重量％の範囲でこれらを組合せて用いるのが
好ましい。

【００２５】本発明において、ポリウレタン樹脂を用い
る場合はガラス転移温度が−５０〜１００℃、破断伸び
が１００〜２０００％、破断応力は０．０５〜１０Ｋｇ
／ｃｍ２　、降伏点は０．０５〜１０Ｋｇ／ｃｍ２　が
好ましい。本発明の磁気記録媒体は二層からなる。従っ
て、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系樹脂、ポ
リウレタン樹脂、ポリイソシアネート、あるいはそれ以
外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分子量、極性
基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性などを必要に
応じ下層と上層磁性層とで変えることはもちろん可能で
ある。

【００２６】本発明に用いるポリイソシアネートとして
は、トリレンジイソシアネート、４−４′−ジフエニル
メタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，
５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジイソシアネート、
イソホロンジイソシアネート、トリフエニルメタントリ
イソシアネート等のイソシアネート類、また、これらの
イソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、
イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシア
ネート等を使用することができる。これらのイソシアネ
ート類の市販されている商品名としては、日本ポリウレ
タン社製：コロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート
２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミ
リオネートＭＴＬ、武田薬品社製：タケネートＤ−１０
２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、
タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製：デスモジュ
ールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デス
モジュールＨＬ等があり、これらを単独または硬化反応
性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せで下層
非磁性層、上層磁性層ともに用いることができる。

【００２７】本発明の上層磁性層に使用されるカーボン
ブラックはゴム用フアーネス、ゴム用サーマル、カラー
用ブラック、アセチレンブラック、等を用いることがで
きる。比表面積は５〜５００ｍ２　／ｇ、ＤＢＰ吸油量
は１０〜４００ｍｌ／１００ｇ、粒子径は５ｍμ〜３０
０ｍμ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タ
ップ密度は０．１〜１ｇ／ｃｃが好ましい。本発明に用
いられるカーボンブラックの具体的な例としてはキャボ
ット社製：ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ　　２０００、１３
００、１０００、９００、８００、７００、ＶＵＬＣＡ
Ｎ　　ＸＣ−７２、旭カーボン社製：♯８０、♯６０、
♯５５、♯５０、♯３５、三菱化成工業社製：♯２４０
０Ｂ、♯２３００、♯９００、♯１０００、♯３０、♯
４０、♯１０Ｂ、コンロンビアカーボン社製：ＣＯＮＤ
ＵＣＴＥＸ　　ＳＣ、ＲＡＶＥＮ　　１５０、５０，４
０，１５などがあげられる。カーボンブラックを分散剤
などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用して
も、表面の一部をグラフアイト化したものを使用しても
かまわない。また、カーボンブラックを磁性塗料に添加
する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。こ
れらのカーボンブラックは単独、または組合せで使用す
ることができる。カーボンブラックを使用する場合は強
磁性粉末に対する量の０．１〜３０％で用いることが好
ましい。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係
数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、こ
れらは用いるカーボンブラックにより異なる。従って本
発明に使用されるこれらのカーボンブラックは下層、上
層でその種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油量
、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目的に
応じて使い分けることはもちろん可能である。例えば、
下層に導電性の高いカーボンブラックを用いることによ
り帯電を防止し、上層に粒子径の大きいカーボンブラッ
クを用い摩擦係数を下げるなどがあげられる。本発明の
上層で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボン
ブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にす
ることができる。

【００２８】本発明の上層磁性層に用いられる研磨剤と
してはα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ
、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄
、コランダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素
チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ
素、など主としてモース硬度６以上の公知の材料が単独
または組合せで使用される。また、これらの研磨剤どう
しの複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）
を使用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外の化
合物または元素が含まれる場合もあるが主成分が９０％
以上であれば効果にかわりはない。これら研磨剤の粒子
サイズは０．０１〜２μｍが好ましいが、必要に応じて
粒子サイズの異なる研磨剤を組合せたり、単独の研磨剤
でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもで
きる。タップ密度は０．３〜２ｇ／ｃｃ、含水率は０．
１〜５％、ｐＨは２〜１１、比表面積は１〜３０ｍ２　
／ｇ、が好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状は
針状、球状、サイコロ状、のいずれでも良いが、形状の
一部に角を有するものが研磨性が高く好ましい。

【００２９】本発明に用いられる研磨剤の具体的な例と
しては、住友化学社製：ＡＫＰ−２０，ＡＫＰ−３０，
ＡＫＰ−５０，ＨＩＴ−５０、日本化学工業社製：Ｇ５
，Ｇ７，Ｓ−１、戸田工業社製：１００ＥＤ，１４０Ｅ
Ｄ、などがあげられる。本発明に用いられる研磨剤は下
層、上層で種類、量および組合せを変え、目的に応じて
使い分けることはもちろん可能である。これらの研磨剤
はあらかじめ結合剤で分散処理したのち磁性塗料中に添
加してもかまわない。本発明の磁気記録媒体の上層磁性
層表面および上層磁性層端面に存在する研磨剤は５個／
１００μｍ２　以上が好ましい。

【００３０】本発明に使用される、添加剤としては潤滑
効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果、などをもつ
ものが使用される。二硫化モリブデン、二硫化タングス
テングラフアイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコー
ンオイル、極性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリコ
ーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、
フッ素含有エステル、ポリオレフイン、ポリグリコール
、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ア
ルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ポリフ
エニルエーテル、フッ素含有アルキル硫酸エステルおよ
びそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の一塩基性脂
肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかま
わない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，
Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一価、二価、三
価、四価、五価、六価アルコール（不飽和結合を含んで
も、また分岐していてもかまわない）、炭素数１２〜２
２のアルコキシアルコール、炭素数１０〜２４の一塩基
性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していても
かまわない）と炭素数２〜１２の一価、二価、三価、四
価、五価、六価アルコールのいずれか一つ（不飽和結合
を含んでも、また分岐していてもかまわない）とからな
るモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステルまたはト
リ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物のモノア
ルキルエーテルの脂肪酸エステル、炭素数８〜２２の脂
肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミン、などが使
用できる。これらの具体例としてはラウリン酸、ミリス
チン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ステ
アリン酸ブチル、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸
、エライジン酸、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸
アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オク
チル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソルビ
タンモノステアレート、アンヒドロソルビタンジステア
レート、アンヒドロソルビタントリステアレート、オレ
イルアルコール、ラウリルアルコール、があげられる。

【００３１】また、アルキレンオキサイド系、グリセリ
ン系、グリシドール系、アルキルフエノールエチレンオ
キサイド付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン
、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダント
イン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウ
ム類、等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフ
ォン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、など
の酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミ
ノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エ
ステル類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等
も使用できる。これらの界面活性剤については、「界面
活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載さ
れている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１
００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、
副反応物、分解物、酸化物、等の不純分が含まれてもか
まわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さ
らに好ましくは１０％以下である。

【００３２】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は下層非磁性層、上層磁性層でその種類、量を必
要に応じ使い分けることができる。例えば、下層非磁性
層、上層磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面へのに
じみ出しを制御する、沸点や極性の異なるエステル類を
用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性剤量を調
節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑剤の添加
量を下層非磁性層で多くして潤滑効果を向上させるなど
が考えられ、無論ここに示した例のみに限られるもので
はない。

【００３３】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、磁性塗料製造のどの工程で添加しても
かまわない、例えば、混練工程前に強磁性粉末と混合す
る場合、強磁性粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添
加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加す
る場合、塗布直前に添加する場合などがある。本発明で
使用されるこれら潤滑剤の商品例としては、日本油脂社
製：ＮＡＡ−１０２，ＮＡＡ−４１５，ＮＡＡ−３１２
，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１８０，ＮＡＡ−１７４，
ＮＡＡ−１７５，ＮＡＡ−２２２，ＮＡＡ−３４，ＮＡ
Ａ−３５，ＮＡＡ−１７１，ＮＡＡ−１２２，ＮＡＡ−
１４２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１７３Ｋ，ヒマシ硬
化脂肪酸，ＮＡＡ−４２，ＮＡＡ−４４，カチオンＳＡ
，カチオンＭＡ，カチオンＡＢ，カチオンＢＢ，ナイミ
ーンＬ−２０１，ナイミーンＬ−２０２，ナイミーンＳ
−２０２，ノニオンＥ−２０８，ノニオンＰ−２０８，
ノニオンＳ−２０７，ノニオンＫ−２０４，ノニオンＮ
Ｓ−２０２，ノニオンＮＳ−２１０，ノニオンＨＳ−２
０６，ノニオンＬ−２，ノニオンＳ−２，ノニオンＳ−
４，ノニオンＯ−２，ノニオンＬＰ−２０Ｒ，ノニオン
ＰＰ−４０Ｒ，ノニオンＳＰ−６０Ｒ，ノニオンＯＰ−
８０Ｒ，ノニオンＯＰ−８５Ｒ，ノニオンＬＴ−２２１
，ノニオンＳＴ−２２１，ノニオンＯＴ−２２１，モノ
グリＭＢ，ノニオンＤＳ−６０，アノンＢＦ，アノンＬ
Ｇ，ブチルステアレート，ブチルラウレート，エルカ酸
、関東化学社製：オレイン酸、竹本油脂社製：ＦＡＬ−
２０５，ＦＡＬ−１２３、新日本理化社製：エヌジエル
ブＬＯ，エヌジョルブＩＰＭ，サンソサイザーＥ４０３
０、信越化学社製：ＴＡ−３，ＫＦ−９６，ＫＦ−９６
Ｌ，ＫＦ−９６Ｈ，ＫＦ４１０，ＫＦ４２０，ＫＦ９６
５，ＫＦ５４，ＫＦ５０，ＫＦ５６，ＫＦ−９０７，Ｋ
Ｆ−８５１，Ｘ−２２−８１９，Ｘ−２２−８２２，Ｋ
Ｆ−９０５，ＫＦ−７００，ＫＦ−３９３，ＫＦ−８５
７，ＫＦ−８６０，ＫＦ−８６５，Ｘ−２２−９８０，
ＫＦ−１０１，ＫＦ−１０２，ＫＦ−１０３，Ｘ−２２
−３７１０，Ｘ−２２−３７１５，ＫＦ−９１０，ＫＦ
−３９３５、ライオンアーマー社製：アーマイドＰ，ア
ーマイドＣ，アーモスリップＣＰ、ライオン油脂社製：
デュオミンＴＤＯ、日清製油社製：ＢＡ−４１Ｇ、三洋
化成社製：プロフアン２０１２Ｅ，ニューポールＰＥ６
１，イオネットＭＳ−４００，イオネットＭＯ−２００
，イオネットＤＬ−２００，イオネットＤＳ−３００，
イオネットＤＳ−１０００，イオネットＤＯ−２００な
どがあげられる。

【００３４】本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率
でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホ
ロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノール
、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチル
アルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘ
キサノール、などのアルコール類、酢酸メチル、酢酸ブ
チル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル
、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチル
エーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン
、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、
キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳香族
炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド
、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン
、ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用できる
。これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではなく、主
成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化
物、水分等の不純分がふくまれてもかまわない。これら
の不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１
０％以下である。本発明で用いる有機溶媒は必要ならば
上層と下層でその種類、量を変えてもかまわない。下層
に揮発性の高い溶媒を用い表面性を向上させる、上層に
表面張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサンな
ど）を用い塗布の安定性をあげる、上層の溶解性パラメ
ータの高い溶媒を用い充填度を上げるなどがその例とし
てあげられるがこれらの例に限られたものではないこと
は無論である。

【００３５】本発明の磁気記録媒体の厚み構成は非磁性
支持体が１〜１００μｍ、好ましくは６〜２０μｍ、下
層が０．５μｍ〜１０μｍ、好ましくは１〜５μｍ、上
層は０．０５μｍ以上１．０μｍ以下、好ましくは０．
０５μｍ以上０．６μｍ以下、さらに好ましくは０．０
５μｍ以上、０．３μｍ以下である。上層と下層を合わ
せた厚みは非磁性支持体の厚みの１／１００〜２倍の範
囲で用いられる。また、非磁性支持体と下層の間に密着
性向上のための下塗り層を設けてもかまわない。これら
の厚みは０．０１〜２μｍ、好ましくは０．０５〜０．
５μｍである。また、非磁性支持体の磁性層側と反対側
にバックコート層を設けてもかまわない。この厚みは０
．１〜２μｍ、好ましくは０．３〜１．０μｍである。 これらの下塗り層、バックコート層は公知のものが使用
できる。

【００３６】本発明に用いられる非磁性支持体はポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、等
のポリエステル類、ポリオレフイン類、セルローストリ
アセテート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミ
ド、ポリアミドイミド、ポリスルフオン、アラミド、芳
香族ポリアミドなどの公知のフイルムが使用できる。こ
れらの支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ
処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、などをおこなっ
ても良い。本発明の目的を達成するには、非磁性支持体
として中心線平均表面粗さが０．０３μｍ以下、好まし
くは０．０２μｍ以下、さらに好ましくは０．０１μｍ
以下のものを使用する必要がある。また、これらの非磁
性支持体は単に中心線平均表面粗さが小さいだけではな
く、１μ以上の粗大突起がないことが好ましい。また表
面の粗さ形状は必要に応じて支持体に添加されるフイラ
ーの大きさと量により自由にコントロールされるもので
ある。これらのフイラーとしては一例としてはＣａ，Ｓ
ｉ，Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、アクリル系などの
有機微粉末があげられる。本発明に用いられる非磁性支
持体のテープ走行方向のＦ−５値は好ましくは５〜５０
Ｋｇ／ｍｍ２　、テープ幅方向のＦ−５値は好ましくは
３〜３０Ｋｇ／ｍｍ２　であり、テープ長手方向のＦ−
５値がテープ幅方向のＦ−５値より高いのが一般的であ
るが、特に幅方向の強度を高くする必要があるときはそ
の限りでない。

【００３７】また、非磁性支持体のテープ走行方向およ
び幅方向の１００℃３０分での熱収縮率は好ましくは３
％以下、さらに好ましくは１．５％以下、８０℃３０分
での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは
０．５％以下である。破断強度は両方向とも５〜１００
Ｋｇ／ｍｍ２　、弾性率は１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ
２　が好ましい。

【００３８】本発明の磁気記録媒体の磁性塗料を製造す
る工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれ
らの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からなる
。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれていてもか
まわない。本発明に使用する強磁性粉末、結合剤、カー
ボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤など
すべての原料はどの工程の最初または途中で添加しても
かまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割
して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを混
練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工程
で分割して投入してもよい。

【００３９】本発明の目的を達成するためには、従来の
公知の製造技術を一部の工程として用いることができる
ことはもちろんであるが、混練工程では連続ニーダや加
圧ニーダなど強い混練力をもつものを使用することによ
り本発明の磁気記録媒体の高いＢｒを得ることができる
。連続ニーダまたは加圧ニーダを用いる場合は強磁性粉
末と結合剤のすべてまたはその一部（ただし全結合剤の
３０％以上が好ましい）および強磁性粉末１００部に対
し１５〜５００部の範囲で混練処理される。これらの混
練処理の詳細については特願昭６２−２６４７２２号、
特願昭６２−２３６８７２号に記載されている。

【００４０】本発明では、特開昭６２−２１２９３３号
に示されるような同時重層塗布方式を用いることにより
、より効率的に生産することができる。本発明のような
重層構成の磁気記録媒体を塗布する装置、方法の例とし
て以下のような構成を提案できる。 １．磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗布
、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗布
装置等により、まず下層を塗布し、下層がウエット状態
のうちに特公平１−４６１８６号や特開昭６０−２３８
１７９号、特開平２−２６５６７２号に開示されている
支持体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層を
塗布する。 ２．特開昭６３−８８０８０号、特開平２−１７９２１
号、特開平２−２６５６７２号に開示されているような
塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘッドに
より上層をほぼ同時に塗布する。 ３．特開平２−１７４９６５号に開示されているバック
アップロール付きエキストルージョン塗布装置により上
層をほぼ同時に塗布する。なお、強磁性粉末の凝集によ
る磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止するため
、特開昭６２−９５１７４号や特開平１−２３６９６８
号に開示されているような方法により塗布ヘッド内部の
塗布液に剪断を付与することが望ましい。さらに、磁性
塗料の粘度については、特願平１−３１２６５９号に開
示されている数値範囲を満足することが好ましい。

【００４１】本発明の媒体を得るためには強力な配向を
行う必要がある。１０００Ｇ以上のソレノイドと２００
０Ｇ以上のコバルト磁石を併用することが好ましく、さ
らには乾燥後の配向性が最も高くなるように配向前に予
め適度の乾燥工程を設けることが好ましい。

【００４２】さらに、カレンダ処理ロールとしてエポキ
シ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐
熱性のあるプラスチックロールを使用する。また、金属
ロール同志で処理することもできる。処理温度は、好ま
しくは７０℃以上、さらに好ましくは８０℃以上である
。線圧力は好ましくは２００ｋｇ／ｃｍ、さらに好まし
くは３００ｋｇ／ｃｍ以上であり、その速度は２０ｍ／
分以上７００ｍ／分以下の範囲である。

【００４３】本発明の磁気記録媒体の上層およびその反
対面のＳＵＳ４２０Ｊに対する摩擦係数は好ましくは０
．５以下、さらに０．３以下、表面固有抵抗は好ましく
は１０−５〜１０−１２　オーム／ｓｑ、上層の０．５
％伸びでの弾性率は走行方向、幅方向とも好ましくは１
００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ２　、破断強度は好ましくは
１〜３０Ｋｇ／ｃｍ２、磁気記録媒体の弾性率は走行方
向、長手方向とも好ましくは１００〜１５００Ｋｇ／ｍ
ｍ２　、残留のびは好ましくは０．５％以下、１００℃
以下のあらゆる温度での熱収縮率は好ましくは１％以下
、さらに好ましくは０．５％以下、もっとも好ましくは
０．１％以下である。

【００４４】上層中に含まれる残留溶媒は好ましくは１
００ｍｇ／ｍ２　以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ
２　以下であり、上層に含まれる残留溶媒が下層に含ま
れる残留溶媒より少ないほうが好ましい。

【００４５】上層、下層が有する空隙率は、ともに好ま
しくは３０容量％以下、さらに好ましくは１０容量％以
下である。上層磁性層の空隙率が下層非磁性層の空隙率
より大きいほうが好ましいが、逆の場合でも下層非磁性
層の空隙率が２０％以下であれば支障はない。

【００４６】本発明の磁気記録媒体の磁気特性は磁場５
ＫＯｅで測定した場合、テープ走行方向の角形比は０．
７０以上であり、好ましくは０．８０以上さらに好まし
くは０．９０以上である。テープ走行方向に直角な二つ
の方向の角型比は走行方向の角型比の８０％以下となる
ことが好ましい。磁性層のＳＦＤは０．６以下であるこ
とが好ましい。

【００４７】

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を説明するが、
本発明はこれにより限定されるものではない。尚、「部
」は重量部を示す。

【００４８】実施例１ 下層非磁性層 　　非磁性粉末　　ＳｎＯ２　（石原産業製ＳＮ−１０
０）　　　　　　　　　　　　９０部　　　　平均粒子
径０．１μ以下、 　　　　比重６．６、見掛け容度２８ｇ／１００ｃｃ、
吸油量４５ｍｌ／１００ｇ　　カーボンブラック　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　１０部　　　　平均一次
粒子径　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１６
ｍμ　　　　ＤＢＰ吸油量　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　８０ｍｌ／１００ｇ　　　　ｐＨ　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　８．０　　　　ＢＥＴ法による比表面積　　　
　　　　　　　　　２５０ｍ２　／ｇ　　　　揮発分　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　１．５％　　塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアル
コール共重合体　　　　　　　　　　１２部　　　　−
Ｎ　（ＣＨ３　）　３　＋　Ｃｌ−　の極性基を５×１
０−６ｅｑ／ｇ含む　　　　組成比　　８６：１３：１
　　重合度４００　　ポリエステルポリウレタン樹脂　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　５部　　　　ネオペンチルグリコール／カ
プロラクトンポリオール／ＭＤＩ　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　＝０．９／２．６／１　
　　　　　　　−ＳＯ３　Ｎａ基　　１×１０−４ｅｑ
／ｇ含有　　ブチルステアレート　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　１部　　ステアリン酸　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　１部　　メチルエチル
ケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　２００部　　上記下
層非磁性層用塗料について、連続ニーダで混練したのち
、サンドミルを用いて分散させた。得られた分散液にポ
リイソシアネートを１部加え、さらに酢酸ブチル４０部
を加え、１μｍの平均孔径を有するフイルターを用いて
濾過し、下層非磁性層形成用の塗布液を調整した。 上層磁性層Ａ 　　コバルト変成酸化鉄　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１
００部　　　　Ｈｃ　　９５０　Ｏｅ、比表面積　　５
８ｍ２　／ｇ　　　　粒子サイズ（長軸径）０．２μ、
針状比　　８　　塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアル
コール共重合体　　　　　　　　　　１３部　　　　−
Ｎ　（ＣＨ３　）　３　＋　Ｃｌ−　の極性基を５×１
０−６ｅｑ／ｇ含む　　　　組成比　　８６：１３：１
　　重合度４００　　ポリエステルポリウレタン樹脂　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　３部　　　　ネオペンチルグリコール／カ
プロラクトンポリオール／ＭＤＩ　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　＝０．９／２．６／１　
　　　　　　　−ＳＯ３　Ｎａ基　　１×１０−４ｅｑ
／ｇ含有　　α−アルミナ（粒子サイズ０．３μｍ）　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２部
　　カーボンブラック（粒子サイズ０．３μｍ）　　　
　　　　　　　　　　　　　０．５部　　ブチルステア
レート　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１部　　ス
テアリン酸　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　２部　　メチルエチルケトン　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　２００部上層磁性層Ｂ 　　強磁性金属微粉末　　組成　　Ｆｅ／Ｚｎ／Ｎｉ＝
９２／４／４　　１００部　　　　Ｈｃ　　１６００　
Ｏｅ、ＢＥＴ法による比表面積　　６０ｍ２　／ｇ　　
　　結晶サイズ１９５Å 　　　　粒子サイズ（長軸径）　　０．２０μ、針状比
　　１０　　　　σＳ　：１３０ｅｍｕ／ｇ 　　塩化ビニル系共重合体　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
１２部　　　　−ＳＯ３　Ｎａ含有量：１×１０−４ｅ
ｑ／ｇ　　　　重合度３００　　ポリエステルポリウレ
タン樹脂　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　３部　　　　ネオペンチルグリ
コール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　＝０．９／２．６／１
　　　　　　　　−ＳＯ３　Ｎａ基　　１×１０−４ｅ
ｑ／ｇ含有　　α−アルミナ（粒子サイズ０．３μｍ）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２
部　　カーボンブラック（粒子サイズ０．１０μｍ）　
　　　　　　　　　　　　　０．５部　　ブチルステア
レート　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１部　　ス
テアリン酸　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　２部　　メチルエチルケトン　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　２００部　　上記上層磁性層Ａ用磁性塗料につ
いて、各成分を連続ニーダで混練したのち、サンドミル
を用いて分散させた。得られた分散液にポリイソシアネ
ートを３部加え、さらにそれぞれに酢酸ブチル４０部を
加え、１μｍの平均孔径を有するフイルターを用いて濾
過し、上層磁性層形成用の塗布液を調整した。

【００４９】得られた上記下層非磁性層Ａ用塗布液を、
乾燥後の厚さが３μｍになるようにさらにその直後にそ
の上に上層磁性層の厚さが０．５μｍになるように、厚
さ７μｍで中心線表面粗さが０．０１μのポリエチレン
テレフタレート支持体上に同時重層塗布をおこない、両
層がまだ湿潤状態にあるうちに３０００Ｇの磁力をもつ
コバルト磁石と１５００Ｇの磁力をもつソレノイドによ
り配向させ乾燥後、金属ロールのみから構成される７段
のカレンダで温度９０℃にて処理を行い、８ｍｍの幅に
スリットし、試料＃実施例１−１の８ｍｍビデオテープ
を製造した。

【００５０】実施例２、３、比較例１〜４上記実施例１
−１と同様に、上層磁性層ＡまたはＢ用磁性塗料を調製
し、表１に記載の因子を変更する以外は実施例１−１と
同様にして各試料を作成した。但し、比較例４は逐次塗
布によった。即ち、下層非磁性層塗布液を実施例１と同
様の調液方法で調製し、乾燥後の厚さが２．５μｍにな
るように塗布を行い、乾燥後巻取り、カレンダー処理を
行った。その後、１００℃３時間かけて硬化処理を行っ
た後、上層磁性層の厚さが０．５μｍになるように塗布
し、実施例１と同様の配向、乾燥を施した後、巻き取っ
た。その後、カレンダー処理を行った。 これら試料の性能を下記により評価した。その結果を表
１に示す。

【００５１】評価方法 １．配向スジ 塗布後の原反表面を目視で見て、スジの多少を○、△、
×の３段階で評価した。 ２．ピンホール 塗布後の原反表面を目視で見て、１０ｃｍ四方のピンホ
ールの数を勘定した。 ３．７ＭＨｚ出力 富士写真フイルム（株）製ＦＵＪＩＸ８、８ｍｍビデオ
デッキを用いて７ＭＨｚ信号を記録し、この信号を再生
したときの７ＭＨｚ信号再生出力をオシロスコープで測
定した。

【００５２】

【表１】

【００５３】表１の結果より、明らかな如く、実施例１
〜３のように磁性層の強磁性粉末よりも比重の大きい非
磁性粉末を下層非磁性層に用いた場合は、配向スジが発
生せず、ピンホールもなく、かつ７ＭＨｚの出力も高く
良好な結果が得られた。一方、比重の小さいαＦｅ２　
Ｏ３　を用いた比較例１や比較例３では配向スジが発生
し、比重の高いＳｎＯ２　を用いても厚み比が範囲外（
比較例３）であったり、逐次塗布の場合は、ピンホール
が発生した。

【００５４】

【発明の効果】本発明は、非磁性支持体上に非磁性粉末
を結合剤中に分散させた分散液を塗設して下層非磁性層
を設け、その上に前記下層非磁性層が湿潤状態のうちに
同時又は逐次に、強磁性粉末を結合剤中に分散させた磁
性塗料を塗設して上層磁性層を設けた磁気記録媒体にお
いて、前記上層磁性層の乾燥厚みが１．０μｍ以下で、
前記非磁性粉末の比重は、前記上層磁性層の強磁性粉末
の比重よりその差が０．５以上大きく、かつ前記下層非
磁性層厚みは上層磁性層厚みの１．５倍以上であること
を特徴とする磁気記録媒体によって、同時重層塗布をし
た場合も配向によるスジが出にくく生産安定性の良好な
磁気記録媒体が得られる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　非磁性支持体上に非磁性粉末を結合剤
   中に分散させた分散液を塗設して下層非磁性層を設け、
   その上に前記下層非磁性層が湿潤状態のうちに同時又は
   逐次に、強磁性粉末を結合剤中に分散させた磁性塗料を
   塗設して上層磁性層を設けた磁気記録媒体において、前
   記上層磁性層の乾燥厚みが１．０μｍ以下で、前記非磁
   性粉末の比重は、前記上層磁性層の強磁性粉末の比重よ
   りその差が０．５以上大きく、かつ前記下層非磁性層厚
   みは上層磁性層厚みの１．５倍以上であることを特徴と
   する磁気記録媒体。