JPH04323377A - Cvd装置のクリーニング方法 - Google Patents
Cvd装置のクリーニング方法Info
- Publication number
- JPH04323377A JPH04323377A JP11530291A JP11530291A JPH04323377A JP H04323377 A JPH04323377 A JP H04323377A JP 11530291 A JP11530291 A JP 11530291A JP 11530291 A JP11530291 A JP 11530291A JP H04323377 A JPH04323377 A JP H04323377A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- furnace
- reaction
- reactor
- gas
- sio2
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 title abstract description 15
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 24
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 16
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical compound F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229910004014 SiF4 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims abstract 5
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims abstract 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract 5
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims abstract 5
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims abstract 5
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims abstract 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 31
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 9
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 238000001505 atmospheric-pressure chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 6
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 claims description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QKCGXXHCELUCKW-UHFFFAOYSA-N n-[4-[4-(dinaphthalen-2-ylamino)phenyl]phenyl]-n-naphthalen-2-ylnaphthalen-2-amine Chemical compound C1=CC=CC2=CC(N(C=3C=CC(=CC=3)C=3C=CC(=CC=3)N(C=3C=C4C=CC=CC4=CC=3)C=3C=C4C=CC=CC4=CC=3)C3=CC4=CC=CC=C4C=C3)=CC=C21 QKCGXXHCELUCKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- GVGCUCJTUSOZKP-UHFFFAOYSA-N nitrogen trifluoride Chemical compound FN(F)F GVGCUCJTUSOZKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HYXIRBXTCCZCQG-UHFFFAOYSA-J [C+4].[F-].[F-].[F-].[F-] Chemical compound [C+4].[F-].[F-].[F-].[F-] HYXIRBXTCCZCQG-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 4
- 238000007599 discharging Methods 0.000 abstract 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 abstract 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 abstract 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N tetrafluoromethane Chemical compound FC(F)(F)F TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 150000002221 fluorine Chemical class 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、CVD装置、特に常
圧CVD装置のクリーニング方法に関する。
圧CVD装置のクリーニング方法に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体ICの製造においては、シリコン
ウエハの表面に対して酸化シリコン(SiO2 )など
の薄膜を形成する工程がある。薄膜の形成には専ら化学
的気相成長法(CVD−Chemical Vapo
r Deposition)が行われており、これはガ
ス状物質を化学反応で固体化してウエハ面に堆積する方
法である。CVD法には各種があるが、反応炉を密閉し
、常圧下で成膜を行う常圧CVD装置が広く使用されて
いる。
ウエハの表面に対して酸化シリコン(SiO2 )など
の薄膜を形成する工程がある。薄膜の形成には専ら化学
的気相成長法(CVD−Chemical Vapo
r Deposition)が行われており、これはガ
ス状物質を化学反応で固体化してウエハ面に堆積する方
法である。CVD法には各種があるが、反応炉を密閉し
、常圧下で成膜を行う常圧CVD装置が広く使用されて
いる。
【0003】図2において、1は常圧CVD装置の垂直
断面を示し、ベース11に筐体121 とベルジャ蓋1
22 よりなる反応炉12が固定されている。ベルジャ
蓋の頂点には反応ガスを送入する送入口13,14 が
設けられ、また反応炉12の内部には、図示の形状のバ
ッファ板15が固定され、その周辺にウエハ2に対する
載置台16が複数個配設され、各載置台はヒーター17
により加熱され、図示しない回転機構により自公転する
。CVDのプロセスにおいては、送入口13,14 よ
り例えば、モノシラン(SiH4)と酸素(O2)の反
応ガスがそれぞれ送入されて反応炉内を矢印の方向にフ
ローし、載置台に載置されて加熱されたウエハ2の表面
にSiO2 が蒸着して堆積し、薄膜が形成される。反
応すみの反応ガスは筐体121 の下部に設けられた排
出口18より外部に排出される。
断面を示し、ベース11に筐体121 とベルジャ蓋1
22 よりなる反応炉12が固定されている。ベルジャ
蓋の頂点には反応ガスを送入する送入口13,14 が
設けられ、また反応炉12の内部には、図示の形状のバ
ッファ板15が固定され、その周辺にウエハ2に対する
載置台16が複数個配設され、各載置台はヒーター17
により加熱され、図示しない回転機構により自公転する
。CVDのプロセスにおいては、送入口13,14 よ
り例えば、モノシラン(SiH4)と酸素(O2)の反
応ガスがそれぞれ送入されて反応炉内を矢印の方向にフ
ローし、載置台に載置されて加熱されたウエハ2の表面
にSiO2 が蒸着して堆積し、薄膜が形成される。反
応すみの反応ガスは筐体121 の下部に設けられた排
出口18より外部に排出される。
【0004】以上の常圧CVD装置においては、ウエハ
の載置台16のみならず反応炉12の内部全体が反応に
必要な高温の雰囲気となっているため、炉内に送入され
た反応ガスは、ウエハの表面以外に筐体121 をはじ
めベルジャ蓋122 、バッファ板15、載置台16な
どの壁面にもSiO2 の微粒子が蒸着し、異物となっ
て炉内が汚染される。この異物微粒子は成長して異物の
フレークとなり、これが振動により剥げて浮遊し、ウエ
ハ面に落下して付着することが起こる。このような異物
のフレークが付着すると生成膜にピンホールが生じて半
導体ICの品質が劣化し、製造歩留まりを著しく低下さ
せる欠点があった。
の載置台16のみならず反応炉12の内部全体が反応に
必要な高温の雰囲気となっているため、炉内に送入され
た反応ガスは、ウエハの表面以外に筐体121 をはじ
めベルジャ蓋122 、バッファ板15、載置台16な
どの壁面にもSiO2 の微粒子が蒸着し、異物となっ
て炉内が汚染される。この異物微粒子は成長して異物の
フレークとなり、これが振動により剥げて浮遊し、ウエ
ハ面に落下して付着することが起こる。このような異物
のフレークが付着すると生成膜にピンホールが生じて半
導体ICの品質が劣化し、製造歩留まりを著しく低下さ
せる欠点があった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】以上の反応炉内の汚染
に対して従来は、定期的または必要の都度、装置を停止
し、ベルジャ蓋を開いて内部を掃除器によりクリーニン
グすることが行われている。しかし、壁面に蒸着したS
iO2 などの異物微粒子や、そのフレークは簡単には
除去されずかなりの労力と時間を要し、このためにCV
D装置の稼働率が低下している。そこでクリーニングを
効率的に行う方法が必要とされている。この発明は以上
に鑑みてなされたもので、化学的な方法により、クリー
ニング作業の省力化と常圧CVD装置の稼働率を向上す
る効率的な方法を提供することを目的とするものである
。
に対して従来は、定期的または必要の都度、装置を停止
し、ベルジャ蓋を開いて内部を掃除器によりクリーニン
グすることが行われている。しかし、壁面に蒸着したS
iO2 などの異物微粒子や、そのフレークは簡単には
除去されずかなりの労力と時間を要し、このためにCV
D装置の稼働率が低下している。そこでクリーニングを
効率的に行う方法が必要とされている。この発明は以上
に鑑みてなされたもので、化学的な方法により、クリー
ニング作業の省力化と常圧CVD装置の稼働率を向上す
る効率的な方法を提供することを目的とするものである
。
【0006】
【課題を解決するための手段】以上の目的を達成するた
めに上記の常圧CVD装置においては、放電装置(例え
ば、オゾン発生器等)を設け、これに弗化炭素CF4
またはC2 F6 、または三弗化窒素NF3 を供給
し、その放電作用により分解して弗素ガスFを発生させ
て反応炉内に送入する。この弗素ガスと炉内の壁面に堆
積したSiO2 の異物微粒子とを反応させて弗化シリ
コンSiF4 などのガスとして外部に排出し、炉内を
クリーニングする。クリーニングの終了後、適時にモノ
シランSiH4 と酸素O2 の反応ガスにジボランB
2 H6 またはホスフィンPH3 を加えたガスを炉
内に送入して空デポジットを行い、反応により発生した
水蒸気H2 Oに残留した弗素ガスを吸着し、排出させ
るものである。
めに上記の常圧CVD装置においては、放電装置(例え
ば、オゾン発生器等)を設け、これに弗化炭素CF4
またはC2 F6 、または三弗化窒素NF3 を供給
し、その放電作用により分解して弗素ガスFを発生させ
て反応炉内に送入する。この弗素ガスと炉内の壁面に堆
積したSiO2 の異物微粒子とを反応させて弗化シリ
コンSiF4 などのガスとして外部に排出し、炉内を
クリーニングする。クリーニングの終了後、適時にモノ
シランSiH4 と酸素O2 の反応ガスにジボランB
2 H6 またはホスフィンPH3 を加えたガスを炉
内に送入して空デポジットを行い、反応により発生した
水蒸気H2 Oに残留した弗素ガスを吸着し、排出させ
るものである。
【0007】
【作用】以上のクリーニング方法においては、放電装置
(オゾン発生器)により発生した弗素ガスを炉内に送入
して壁面に堆積しているSiO2 の異物微粒子と反応
させる。この反応により異物微粒子は弗化シリコンSi
F4 などのガスとなって排出されて炉内がクリーニン
グされる。この場合、送入された弗素ガスはすべてが反
応せずに一部が炉内に残留するので、適当な時点で上記
の空デポジットを行い、発生した水に弗素ガスを吸着し
、排出してCVDの薄膜生成に支障を与えないようにす
る。 以上の化学的な方法によりクリーニング作業は省力化さ
れ、また短時間になされるのでCVD装置の稼働率を向
上することができる。
(オゾン発生器)により発生した弗素ガスを炉内に送入
して壁面に堆積しているSiO2 の異物微粒子と反応
させる。この反応により異物微粒子は弗化シリコンSi
F4 などのガスとなって排出されて炉内がクリーニン
グされる。この場合、送入された弗素ガスはすべてが反
応せずに一部が炉内に残留するので、適当な時点で上記
の空デポジットを行い、発生した水に弗素ガスを吸着し
、排出してCVDの薄膜生成に支障を与えないようにす
る。 以上の化学的な方法によりクリーニング作業は省力化さ
れ、また短時間になされるのでCVD装置の稼働率を向
上することができる。
【0008】
【実施例】図1はこの発明の一実施例の構成図で、3は
弗素ガス発生部を示し、弗化炭素CF4 またはC2
F6 、または三弗化窒素NF3 のガスはマスフロー
コントローラ(MFC)31により流量が調整されて放
電装置(オゾン発生器)32に供給される。放電装置(
オゾン発生器)には電源33より所定の電圧が印加され
、発生器の放電作用により供給されたガスが分解して弗
素ガスFなどが発生し、この弗素ガスは切り替えバルブ
4を経て反応炉12の送入口13(または14) より
炉内に送入される。 弗素ガスは、反応炉12の筐体121 をはじめ、ベル
ジャ蓋122 、バッファ15、載置台16などの壁面
に堆積しているSiO2 の異物微粒子またはそのフレ
ークと反応し、弗化シリコンSiF4 のガスとなって
排出口18より排出される。クリーニングにより残留し
た弗素ガスに対しては、CVD反応プロセスに使用され
るモノシランSiH4 に、ジボランB2 H6 また
はホスフィンPH3 を加えたものと、酸素O2 とを
送入口13,14 より炉内に送入して空デポジットを
行い、反応により発生した水蒸気H2 Oに弗素ガスを
吸着し、排出させる。なお、空デポジットにおいては、
モノシランとジボランまたはホスフィンはバルブ4の切
り替えにより送入口13に供給される。
弗素ガス発生部を示し、弗化炭素CF4 またはC2
F6 、または三弗化窒素NF3 のガスはマスフロー
コントローラ(MFC)31により流量が調整されて放
電装置(オゾン発生器)32に供給される。放電装置(
オゾン発生器)には電源33より所定の電圧が印加され
、発生器の放電作用により供給されたガスが分解して弗
素ガスFなどが発生し、この弗素ガスは切り替えバルブ
4を経て反応炉12の送入口13(または14) より
炉内に送入される。 弗素ガスは、反応炉12の筐体121 をはじめ、ベル
ジャ蓋122 、バッファ15、載置台16などの壁面
に堆積しているSiO2 の異物微粒子またはそのフレ
ークと反応し、弗化シリコンSiF4 のガスとなって
排出口18より排出される。クリーニングにより残留し
た弗素ガスに対しては、CVD反応プロセスに使用され
るモノシランSiH4 に、ジボランB2 H6 また
はホスフィンPH3 を加えたものと、酸素O2 とを
送入口13,14 より炉内に送入して空デポジットを
行い、反応により発生した水蒸気H2 Oに弗素ガスを
吸着し、排出させる。なお、空デポジットにおいては、
モノシランとジボランまたはホスフィンはバルブ4の切
り替えにより送入口13に供給される。
【0009】
【発明の効果】以上の説明のとおり、この発明のクリー
ニング方法においては、放電装置(例えば、オゾン発生
器)により弗化炭素または三弗化窒素より弗素ガスを発
生し、これを炉内に送入して壁面に堆積しているSiO
2 の異物微粒子と反応させ、弗化シリコンSiF4
などのガスとして排出して炉内が短時間にクリーニング
され、炉内に残留した弗素ガスは、反応ガスなどにより
空デポジットを行って発生した水に吸着し、排出され、
CVDの薄膜生成プロセスに支障を与えないようにした
もので、以上の化学的な方法によりクリーニング作業の
省力化と、常圧CVD装置の稼働率を向上に寄与する効
果には大きいものがある。
ニング方法においては、放電装置(例えば、オゾン発生
器)により弗化炭素または三弗化窒素より弗素ガスを発
生し、これを炉内に送入して壁面に堆積しているSiO
2 の異物微粒子と反応させ、弗化シリコンSiF4
などのガスとして排出して炉内が短時間にクリーニング
され、炉内に残留した弗素ガスは、反応ガスなどにより
空デポジットを行って発生した水に吸着し、排出され、
CVDの薄膜生成プロセスに支障を与えないようにした
もので、以上の化学的な方法によりクリーニング作業の
省力化と、常圧CVD装置の稼働率を向上に寄与する効
果には大きいものがある。
【図1】 この発明の一実施例の構成図である。
【図2】 常圧CVD装置の構成図を示す。
1…常圧CVD装置、11…ベース、12…反応炉、1
21 …筐体、122 …ベルジャ蓋、13,14 …
送入口、15…バッファ、16…載置台、17…ヒータ
ー、18…排出口、2…ウエハ、3…弗素ガス発生部、
31…マスフローコントローラ(MFC)、32…放電
装置、33…電源、4…切り替えバルブ。
21 …筐体、122 …ベルジャ蓋、13,14 …
送入口、15…バッファ、16…載置台、17…ヒータ
ー、18…排出口、2…ウエハ、3…弗素ガス発生部、
31…マスフローコントローラ(MFC)、32…放電
装置、33…電源、4…切り替えバルブ。
Claims (1)
- 【請求項1】 反応炉内に送入された反応ガスの反応
により、該反応炉内に載置された被処理のウエハの表面
に酸化シリコンSiO2 の薄膜を形成する常圧CVD
装置において、前記反応炉に対して放電装置を設け、該
放電装置に弗化炭素CF4 またはC2 F6 、また
は三弗化窒素NF3 を供給し、該放電装置の放電作用
により分解して弗素ガスFを発生し、該弗素ガスを前記
反応炉内に送入し、該弗素ガスと前記反応炉内の壁面に
堆積しているSiO2 の異物微粒子とを反応させて弗
化シリコンSiF4 などのガスとして外部に排出して
クリーニングし、該クリーニングの終了後、適時にモノ
シランSiH4 にジボランB2H6 またはホスフィ
ンPH3 、酸素O2 等の反応により水を発生する反
応ガス系を前記反応炉内に送入して空デポジットを行い
、反応により発生した水蒸気H2 Oに前記反応炉内に
残留した前記弗素ガスを吸着し、排気させることを特徴
とする、CVD装置のクリーニング方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11530291A JPH04323377A (ja) | 1991-04-19 | 1991-04-19 | Cvd装置のクリーニング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11530291A JPH04323377A (ja) | 1991-04-19 | 1991-04-19 | Cvd装置のクリーニング方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04323377A true JPH04323377A (ja) | 1992-11-12 |
Family
ID=14659271
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11530291A Pending JPH04323377A (ja) | 1991-04-19 | 1991-04-19 | Cvd装置のクリーニング方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04323377A (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07201847A (ja) * | 1993-12-27 | 1995-08-04 | Applied Materials Inc | 薄膜形成方法 |
JPH07201738A (ja) * | 1993-12-14 | 1995-08-04 | Applied Materials Inc | 薄膜形成前処理方法および薄膜形成方法 |
FR2872506A1 (fr) * | 2004-06-30 | 2006-01-06 | Air Liquide | Procede de preparation d'un gaz ou melange de gaz contenant du fluor moleculaire |
FR2872505A1 (fr) * | 2004-06-30 | 2006-01-06 | Air Liquide | Generateur de gaz fluore |
WO2006010857A1 (fr) * | 2004-06-30 | 2006-02-02 | L'air Liquide, Societe Anonyme A Directoire Et Conseil De Surveillance Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Procede de preparation d'un gaz ou melange de gaz contenant du fluor moleculaire |
FR2887245A1 (fr) * | 2005-06-21 | 2006-12-22 | Air Liquide | Procede de preparation d'un gaz ou melange de gaz contenant du fluor moleculaire |
JP2010212712A (ja) * | 2010-04-27 | 2010-09-24 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 半導体装置の製造方法、クリーニング方法及び半導体装置の製造装置 |
JP2012074738A (ja) * | 2011-12-27 | 2012-04-12 | Hitachi Kokusai Electric Inc | クリーニング方法、半導体装置の製造方法及び基板処理装置 |
JP2012099840A (ja) * | 2011-12-27 | 2012-05-24 | Hitachi Kokusai Electric Inc | クリーニング方法、半導体装置の製造方法及び基板処理装置 |
-
1991
- 1991-04-19 JP JP11530291A patent/JPH04323377A/ja active Pending
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07201738A (ja) * | 1993-12-14 | 1995-08-04 | Applied Materials Inc | 薄膜形成前処理方法および薄膜形成方法 |
JPH0793276B2 (ja) * | 1993-12-14 | 1995-10-09 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 薄膜形成前処理方法および薄膜形成方法 |
JPH07201847A (ja) * | 1993-12-27 | 1995-08-04 | Applied Materials Inc | 薄膜形成方法 |
JPH0799744B2 (ja) * | 1993-12-27 | 1995-10-25 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 薄膜形成方法 |
FR2872506A1 (fr) * | 2004-06-30 | 2006-01-06 | Air Liquide | Procede de preparation d'un gaz ou melange de gaz contenant du fluor moleculaire |
FR2872505A1 (fr) * | 2004-06-30 | 2006-01-06 | Air Liquide | Generateur de gaz fluore |
WO2006010857A1 (fr) * | 2004-06-30 | 2006-02-02 | L'air Liquide, Societe Anonyme A Directoire Et Conseil De Surveillance Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Procede de preparation d'un gaz ou melange de gaz contenant du fluor moleculaire |
FR2887245A1 (fr) * | 2005-06-21 | 2006-12-22 | Air Liquide | Procede de preparation d'un gaz ou melange de gaz contenant du fluor moleculaire |
JP2010212712A (ja) * | 2010-04-27 | 2010-09-24 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 半導体装置の製造方法、クリーニング方法及び半導体装置の製造装置 |
JP2012074738A (ja) * | 2011-12-27 | 2012-04-12 | Hitachi Kokusai Electric Inc | クリーニング方法、半導体装置の製造方法及び基板処理装置 |
JP2012099840A (ja) * | 2011-12-27 | 2012-05-24 | Hitachi Kokusai Electric Inc | クリーニング方法、半導体装置の製造方法及び基板処理装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5584963A (en) | Semiconductor device manufacturing apparatus and cleaning method for the apparatus | |
US8673790B2 (en) | Method of manufacturing a semiconductor device, method of cleaning a process vessel, and substrate processing apparatus | |
KR100855597B1 (ko) | 육불화황 원격 플라즈마 소스 세정 | |
US20070087579A1 (en) | Semiconductor device manufacturing method | |
EP1304731A1 (en) | Method of cleaning cvd device and cleaning device therefor | |
JPH04323377A (ja) | Cvd装置のクリーニング方法 | |
US7432215B2 (en) | Semiconductor device manufacturing method and semiconductor manufacturing apparatus | |
JPH0260210B2 (ja) | ||
US20110195202A1 (en) | Oxygen pump purge to prevent reactive powder explosion | |
EP1154036A1 (en) | Gas reactions to eliminate contaminates in a CVD chamber | |
CN111463096B (zh) | 基板处理装置的清洗方法和基板处理装置 | |
JPS5944770B2 (ja) | プラズマcvd用反応器の洗浄方法 | |
KR101416172B1 (ko) | 박막 증착 장비의 챔버 세정 방법 | |
US5154773A (en) | Vapor phase epitaxial growth apparatus having exhaust unit for removing unwanted deposit | |
JP3507614B2 (ja) | 薄膜成膜装置 | |
EP1154037A1 (en) | Methods for improving chemical vapor deposition processing | |
JP3820212B2 (ja) | Cvdチャンバクリーニング後にcvdチャンバをコンディショニングする方法 | |
JP2001127056A (ja) | プロセスチャンバー内のクリーニング方法及び基板処理装置 | |
JPH09186149A (ja) | 半導体製造装置のクリーニング方法及び半導体装置の製造方法 | |
JP2785745B2 (ja) | Cvd装置 | |
JPH07110996B2 (ja) | プラズマcvd装置 | |
JPH04341569A (ja) | 常圧cvd装置の汚染防止方法 | |
JPH07335643A (ja) | 成膜方法 | |
JPH02268433A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPH08100264A (ja) | 薄膜の形成方法およびその装置 |