JPH04311593A - 磁気光学薄膜の製造方法 - Google Patents
磁気光学薄膜の製造方法Info
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- JPH04311593A JPH04311593A JP10462291A JP10462291A JPH04311593A JP H04311593 A JPH04311593 A JP H04311593A JP 10462291 A JP10462291 A JP 10462291A JP 10462291 A JP10462291 A JP 10462291A JP H04311593 A JPH04311593 A JP H04311593A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光磁気記録材料として
優れた特性を持つ磁気光学薄膜の製造方法に関する。
優れた特性を持つ磁気光学薄膜の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】現在、光磁気記録媒体用の材料としては
、ＴｂＦｅＣｏ、ＧｄＦｅＣｏなどの非晶質希土類−遷
移金属合金が用いられるている。しかしこの希土類−遷
移金属合金は、カー回転角θｋ が小さいため、十分な
Ｓ／Ｎ 比を得ることが難しいという欠点を有する。こ
れに対しＰｔＭｎＳｂ合金は、θｋ が非常に大きい（
０．９ ｏ 〜１．８ ｏ ） 材料として知られて
おり、このために当該合金を薄膜化してＳ／Ｎ 比の高
い光磁気記録媒体を製造するための実用化研究が現在斯
界で行われている。
、ＴｂＦｅＣｏ、ＧｄＦｅＣｏなどの非晶質希土類−遷
移金属合金が用いられるている。しかしこの希土類−遷
移金属合金は、カー回転角θｋ が小さいため、十分な
Ｓ／Ｎ 比を得ることが難しいという欠点を有する。こ
れに対しＰｔＭｎＳｂ合金は、θｋ が非常に大きい（
０．９ ｏ 〜１．８ ｏ ） 材料として知られて
おり、このために当該合金を薄膜化してＳ／Ｎ 比の高
い光磁気記録媒体を製造するための実用化研究が現在斯
界で行われている。
【０００３】ＰｔＭｎＳｂ合金薄膜の形成方法として、
真空蒸着やスパッタ法等が考えられるが、これらの方法
で得られるＰｔＭｎＳｂ合金薄膜は、その容易磁化方向
は面内方向であるため、容易磁化方向が膜面に対し垂直
であることが要求される高密度の光磁気記録媒体用とし
て利用するのは困難である。
真空蒸着やスパッタ法等が考えられるが、これらの方法
で得られるＰｔＭｎＳｂ合金薄膜は、その容易磁化方向
は面内方向であるため、容易磁化方向が膜面に対し垂直
であることが要求される高密度の光磁気記録媒体用とし
て利用するのは困難である。
【０００４】一方、容易磁化方向が膜面に対して垂直で
あるＰｔＭｎＳｂ合金薄膜を得るために、アルミニウム
基板の表面上に形成した多孔質陽極酸化皮膜の微細孔中
にまずＳｂを電着し、その上にＰｔとＭｎを積層蒸着し
た後、熱処理を行って合金化させることによりＰｔＭｎ
Ｓｂ合金を充填する方法が塩見、増田らにより最近提案
〔電子情報通信学会秋季全国大会講演論文集、Ｐａｒｔ
５、第５〜１５６ 頁、（１９８９）、アルトピア、第
２巻、第１８頁、（１９９０）〕されている。しかし、
この方法で作製されたＰｔＭｎＳｂ薄膜は、微細孔中で
の合金化が十分でないため、磁化が小さいという欠点が
あり、また電着、真空蒸着並びに合金化熱処理の３工程
を要し、生産性にも問題がある。
あるＰｔＭｎＳｂ合金薄膜を得るために、アルミニウム
基板の表面上に形成した多孔質陽極酸化皮膜の微細孔中
にまずＳｂを電着し、その上にＰｔとＭｎを積層蒸着し
た後、熱処理を行って合金化させることによりＰｔＭｎ
Ｓｂ合金を充填する方法が塩見、増田らにより最近提案
〔電子情報通信学会秋季全国大会講演論文集、Ｐａｒｔ
５、第５〜１５６ 頁、（１９８９）、アルトピア、第
２巻、第１８頁、（１９９０）〕されている。しかし、
この方法で作製されたＰｔＭｎＳｂ薄膜は、微細孔中で
の合金化が十分でないため、磁化が小さいという欠点が
あり、また電着、真空蒸着並びに合金化熱処理の３工程
を要し、生産性にも問題がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする問題点】上記の事情に鑑みて
、本発明は一層簡単な方法で、しかも垂直磁気異方性を
有するＰｔＭｎＳｂ合金薄膜を調製することができる新
規な方法を提供しようとするものである。
、本発明は一層簡単な方法で、しかも垂直磁気異方性を
有するＰｔＭｎＳｂ合金薄膜を調製することができる新
規な方法を提供しようとするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、陽極酸化処理
により表面に多孔質皮膜層を有するアルミニウム基板を
陽極として用い、Ｐｔ、Ｍｎ、及びＳｂのイオンを含む
電解質溶液中において当該陽極と対抗電極との間に電圧
（直流、交流、パルス波形、あるいはそれらの組み合わ
せ等）の印加を行ってＰｔＭｎＳｂ合金をアルミニウム
基板表面上の各孔中に析出せしめることを特徴とする磁
気光学薄膜の製造方法に関する。
により表面に多孔質皮膜層を有するアルミニウム基板を
陽極として用い、Ｐｔ、Ｍｎ、及びＳｂのイオンを含む
電解質溶液中において当該陽極と対抗電極との間に電圧
（直流、交流、パルス波形、あるいはそれらの組み合わ
せ等）の印加を行ってＰｔＭｎＳｂ合金をアルミニウム
基板表面上の各孔中に析出せしめることを特徴とする磁
気光学薄膜の製造方法に関する。
【０００７】
【発明の作用】本発明によれば、Ｐｔ、Ｍｎ、及びＳｂ
のイオンを含む電解質溶液を用いてそれら元素電解析出
させることにより、予想外にも多孔質陽極酸化皮膜の各
微細孔中に緻密なＰｔＭｎＳｂ合金が充填される。而し
て垂直磁気異方性を有するＰｔＭｎＳｂ合金薄膜を調製
することができ、この結果優れた磁気光学皮膜を簡単に
製造することができる。
のイオンを含む電解質溶液を用いてそれら元素電解析出
させることにより、予想外にも多孔質陽極酸化皮膜の各
微細孔中に緻密なＰｔＭｎＳｂ合金が充填される。而し
て垂直磁気異方性を有するＰｔＭｎＳｂ合金薄膜を調製
することができ、この結果優れた磁気光学皮膜を簡単に
製造することができる。
【０００８】アルミニウム基板としては、電気用アルミ
ニウムや ＪＩＳＡ １０５０Ｐに規定されているアル
ミニウム等の純アルミニウムの他、各種のアルミニウム
合金、再生アルミニウム等、種々のアルミニウムからな
る基板を用いることができる。またアルミニウム基板表
面の多孔質皮膜層は、通常の陽極酸化処理方法、たとえ
ばＪＩＳ Ｈ９５００、 ＪＩＳ Ｈ ９５０１ 等に
記載された方法により形成することができる。
ニウムや ＪＩＳＡ １０５０Ｐに規定されているアル
ミニウム等の純アルミニウムの他、各種のアルミニウム
合金、再生アルミニウム等、種々のアルミニウムからな
る基板を用いることができる。またアルミニウム基板表
面の多孔質皮膜層は、通常の陽極酸化処理方法、たとえ
ばＪＩＳ Ｈ９５００、 ＪＩＳ Ｈ ９５０１ 等に
記載された方法により形成することができる。
【０００９】多孔質陽極酸化皮膜を用い他の光磁気記録
媒体として、磁性体にＦｅ合金を用いたものが既に特開
昭５９ー７２６６３ 号、あるいは特開昭６２ー３８５
４３ 号において提案されている。しかし、Ｆｅ合金は
カー回転角θｋ が大きいもののキュリー温度が７００
℃以上と高い問題があるため、高レーザーパワーが必要
なことや皮膜にクラックが発生するなどの問題がある。 この問題を解決するには、多孔質陽極酸化皮膜の微細孔
を従来の １００〜数１００ｎｍ から ６〜１８ｎｍ
に狭小化することでキュリー温度を２００〜３００ ℃
まで低下させ得るが、逆にθｋ が小さくなる別の問題
が生じる。
媒体として、磁性体にＦｅ合金を用いたものが既に特開
昭５９ー７２６６３ 号、あるいは特開昭６２ー３８５
４３ 号において提案されている。しかし、Ｆｅ合金は
カー回転角θｋ が大きいもののキュリー温度が７００
℃以上と高い問題があるため、高レーザーパワーが必要
なことや皮膜にクラックが発生するなどの問題がある。 この問題を解決するには、多孔質陽極酸化皮膜の微細孔
を従来の １００〜数１００ｎｍ から ６〜１８ｎｍ
に狭小化することでキュリー温度を２００〜３００ ℃
まで低下させ得るが、逆にθｋ が小さくなる別の問題
が生じる。
【００１０】これに対してＰｔＭｎＳｂ合金は、キュリ
ー温度が ３００℃程度であるので多孔質陽極酸化皮膜
の微細孔を狭小化することは一般に不要である。むしろ
狭小化すればカー回転角θｋ が小さくなる傾向にある
ので好ましくなく、本発明においては逆に当該微少孔の
径は２０ｎｍ以上であることが好ましい。またＰｔＭｎ
Ｓｂ合金は、面内磁化を示す材料であるため、これが十
分な垂直磁気異方性をもつためには、多孔質陽極酸化皮
膜の膜厚が微細孔径の５倍以上であることが好ましい。
ー温度が ３００℃程度であるので多孔質陽極酸化皮膜
の微細孔を狭小化することは一般に不要である。むしろ
狭小化すればカー回転角θｋ が小さくなる傾向にある
ので好ましくなく、本発明においては逆に当該微少孔の
径は２０ｎｍ以上であることが好ましい。またＰｔＭｎ
Ｓｂ合金は、面内磁化を示す材料であるため、これが十
分な垂直磁気異方性をもつためには、多孔質陽極酸化皮
膜の膜厚が微細孔径の５倍以上であることが好ましい。
【００１１】Ｐｔ、Ｍｎ、及びＳｂのイオンを含む電解
質溶液としては、水溶液、非水溶液のいずれであっても
よいが、水溶液の場合、水の電気分解による水素発生の
影響で特にＭｎの析出率が低下する場合があるので、一
般に非水溶液のほうが好ましい。その際の溶媒としては
、Ｐｔ、Ｍｎ、及びＳｂの各化合物を溶解してイオン化
し得るものであれば特に制限はないが、各種の極性有機
溶媒、就中アルコール類はＭｎの析出量を増大する効果
があるので殊に好ましい。
質溶液としては、水溶液、非水溶液のいずれであっても
よいが、水溶液の場合、水の電気分解による水素発生の
影響で特にＭｎの析出率が低下する場合があるので、一
般に非水溶液のほうが好ましい。その際の溶媒としては
、Ｐｔ、Ｍｎ、及びＳｂの各化合物を溶解してイオン化
し得るものであれば特に制限はないが、各種の極性有機
溶媒、就中アルコール類はＭｎの析出量を増大する効果
があるので殊に好ましい。
【００１２】本発明において、多孔質陽極酸化皮膜の各
微細孔中に充填される合金の組成をＰｔａ Ｍｎｂ Ｓ
ｂｃ と表示した場合、当該式中におけるａ、ｂ、及び
ｃの各値が次式■及び■を満足する組成範囲内であると
き、カー回転角θｋ が一般に大きくなるので特に好ま
しい。 ０．１ ≦ａ≦１．９ 、 ０．１≦ｂ≦１．９ 、
０．１≦ｃ≦１．９
■但しａ＋ｂ＋ｃ＝３
■また上記の場合
、ｂ：ｃの比率ができるだけ１：１ に近く、更にはａ
：ｂ：ｃの比率ができるだけ１：１：１ に近ければ一
層優れた磁気光学特性を有するＰｔＭｎＳｂ合金が得ら
れる。生成するＰｔＭｎＳｂ合金の組成は、上記した電
解質溶液中におけるＰｔ、Ｍｎ、及びＳｂの各元素化合
物の濃度に左右されるので各元素化合物の濃度を試行錯
誤的に調節することで所望組成の合金を容易に調製する
ことができる。
微細孔中に充填される合金の組成をＰｔａ Ｍｎｂ Ｓ
ｂｃ と表示した場合、当該式中におけるａ、ｂ、及び
ｃの各値が次式■及び■を満足する組成範囲内であると
き、カー回転角θｋ が一般に大きくなるので特に好ま
しい。 ０．１ ≦ａ≦１．９ 、 ０．１≦ｂ≦１．９ 、
０．１≦ｃ≦１．９
■但しａ＋ｂ＋ｃ＝３
■また上記の場合
、ｂ：ｃの比率ができるだけ１：１ に近く、更にはａ
：ｂ：ｃの比率ができるだけ１：１：１ に近ければ一
層優れた磁気光学特性を有するＰｔＭｎＳｂ合金が得ら
れる。生成するＰｔＭｎＳｂ合金の組成は、上記した電
解質溶液中におけるＰｔ、Ｍｎ、及びＳｂの各元素化合
物の濃度に左右されるので各元素化合物の濃度を試行錯
誤的に調節することで所望組成の合金を容易に調製する
ことができる。
【００１３】
【効果】本発明によれば、多孔質陽極酸化皮膜の各微細
孔中に緻密なＰｔＭｎＳｂ合金が充填され、垂直磁気異
方性を有するＰｔＭｎＳｂ合金薄膜を調製することがで
き、この結果優れた磁気光学皮膜を簡単に製造すること
ができる。
孔中に緻密なＰｔＭｎＳｂ合金が充填され、垂直磁気異
方性を有するＰｔＭｎＳｂ合金薄膜を調製することがで
き、この結果優れた磁気光学皮膜を簡単に製造すること
ができる。
【００１４】
【実施例】以下、実施例並びに比較例により本発明を一
層詳細に説明する。
層詳細に説明する。
【００１５】実施例１
純度９９．９９ 重量％のアルミニウム板の表面を鏡面
状に研磨し、エッチング処理後、１５重量％の硫酸水溶
液中で陽極酸化処理を行い、平均孔径５０ｎｍ、平均膜
厚２μｍ の多孔質皮膜を形成させた。次いでヘキサク
ロロ白金（ＩＶ）酸六水和物２ｇ／ｌ 、塩化マンガン
（ＩＩ）四水和物５ｇ／ｌ 、および塩化アンチモン（
ＩＩＩ） １ｇ／ｌ を含むメタノールを溶媒とする非
水溶液を調製し、これを電解液として該液中に上記のア
ルミニウム板と対極としての黒鉛とを浸漬して両電極間
に２０℃で１０Ｖの直流電圧を５分間印加して電解析出
処理を行い、Ｐｔ０．４５Ｍｎ１．２３Ｓｂ１．３２の
組成の合金を多孔質皮膜の各微細孔中に析出させた。こ
の皮膜に対して波長 ６３３ｎｍの光を用いてカー回転
角θｋ を測定したところ０．８ ｏ であった。
状に研磨し、エッチング処理後、１５重量％の硫酸水溶
液中で陽極酸化処理を行い、平均孔径５０ｎｍ、平均膜
厚２μｍ の多孔質皮膜を形成させた。次いでヘキサク
ロロ白金（ＩＶ）酸六水和物２ｇ／ｌ 、塩化マンガン
（ＩＩ）四水和物５ｇ／ｌ 、および塩化アンチモン（
ＩＩＩ） １ｇ／ｌ を含むメタノールを溶媒とする非
水溶液を調製し、これを電解液として該液中に上記のア
ルミニウム板と対極としての黒鉛とを浸漬して両電極間
に２０℃で１０Ｖの直流電圧を５分間印加して電解析出
処理を行い、Ｐｔ０．４５Ｍｎ１．２３Ｓｂ１．３２の
組成の合金を多孔質皮膜の各微細孔中に析出させた。こ
の皮膜に対して波長 ６３３ｎｍの光を用いてカー回転
角θｋ を測定したところ０．８ ｏ であった。
【００１６】実施例２〜３
２重量％の酒石酸水溶液を溶媒として用い、これにヘキ
サクロロ白金（ＩＶ）酸六水和物２ｇ／ｌ 、塩化マン
ガン（ＩＩ）四水和物５ｇ／ｌ 、および塩化アンチモ
ン（ＩＩＩ） １ｇ／ｌ を溶解した電解水溶液を用意
した。また実施例１と同じアルミニウム板を用い、実施
例１と同様の方法ではあるが陽極酸化処理の条件を変え
て多孔質皮膜における平均孔並びに平均膜厚が種々異な
るアルミニウム板をも用意した。この電解液と表１に示
すアルミニウム板との組み合わせにつき、実施例１と同
様の方法並びに条件にてＰｔＭｎＳｂ合金を多孔質皮膜
の各微細孔中に析出させた。これらの皮膜に対して、波
長 ６３３ｎｍの光を用いてカー回転角θｋ 並びに垂
直方向の保磁力Ｈｃｌ とを測定した。
サクロロ白金（ＩＶ）酸六水和物２ｇ／ｌ 、塩化マン
ガン（ＩＩ）四水和物５ｇ／ｌ 、および塩化アンチモ
ン（ＩＩＩ） １ｇ／ｌ を溶解した電解水溶液を用意
した。また実施例１と同じアルミニウム板を用い、実施
例１と同様の方法ではあるが陽極酸化処理の条件を変え
て多孔質皮膜における平均孔並びに平均膜厚が種々異な
るアルミニウム板をも用意した。この電解液と表１に示
すアルミニウム板との組み合わせにつき、実施例１と同
様の方法並びに条件にてＰｔＭｎＳｂ合金を多孔質皮膜
の各微細孔中に析出させた。これらの皮膜に対して、波
長 ６３３ｎｍの光を用いてカー回転角θｋ 並びに垂
直方向の保磁力Ｈｃｌ とを測定した。
【００１７】実施例４〜１１
実施例２〜３で用いた電解水溶液に代えて、ヘキサクロ
ロ白金（ＩＶ）酸六水和物４ｇ／ｌ 、塩化マンガン（
ＩＩ）四水和物５ｇ／ｌ 、および塩化アンチモン（Ｉ
ＩＩ） １ｇ／ｌ を含むメタノールを溶媒とする電解
非水溶液を用いた以外は実施例２〜３と同様の方法にて
ＰｔＭｎＳｂ合金を多孔質皮膜の各微細孔中に析出させ
、次いでこれらの皮膜に対して波長 ６３３ｎｍの光を
用いてθｋ 並びにＨｃｌ とを測定した。表１には、
用いた電解液、多孔質皮膜の各微細孔の平均孔径と平均
膜厚、析出物の組成、並びに測定結果を示す。
ロ白金（ＩＶ）酸六水和物４ｇ／ｌ 、塩化マンガン（
ＩＩ）四水和物５ｇ／ｌ 、および塩化アンチモン（Ｉ
ＩＩ） １ｇ／ｌ を含むメタノールを溶媒とする電解
非水溶液を用いた以外は実施例２〜３と同様の方法にて
ＰｔＭｎＳｂ合金を多孔質皮膜の各微細孔中に析出させ
、次いでこれらの皮膜に対して波長 ６３３ｎｍの光を
用いてθｋ 並びにＨｃｌ とを測定した。表１には、
用いた電解液、多孔質皮膜の各微細孔の平均孔径と平均
膜厚、析出物の組成、並びに測定結果を示す。
【００１８】
【表１】
Claims (1)
- 【請求項１】 陽極酸化処理により表面に多孔質
皮膜層を有するアルミニウム基板を陽極として用い、Ｐ
ｔ、Ｍｎ、及びＳｂのイオンを含む電解質溶液中におい
て当該陽極と対抗電極との間に電圧印加を行ってＰｔＭ
ｎＳｂ合金をアルミニウム基板表面上の各孔中に析出せ
しめることを特徴とする磁気光学薄膜の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10462291A JPH04311593A (ja) | 1991-04-09 | 1991-04-09 | 磁気光学薄膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10462291A JPH04311593A (ja) | 1991-04-09 | 1991-04-09 | 磁気光学薄膜の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04311593A true JPH04311593A (ja) | 1992-11-04 |
Family
ID=14385545
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10462291A Pending JPH04311593A (ja) | 1991-04-09 | 1991-04-09 | 磁気光学薄膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04311593A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015161001A (ja) * | 2014-02-27 | 2015-09-07 | 新光電気工業株式会社 | 電気めっき浴及び電気めっき方法 |
-
1991
- 1991-04-09 JP JP10462291A patent/JPH04311593A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015161001A (ja) * | 2014-02-27 | 2015-09-07 | 新光電気工業株式会社 | 電気めっき浴及び電気めっき方法 |
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