JPH04302834A - 情報ディスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は光ディスク、磁気ディス
ク等の情報ディスクの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】光ディスク、磁気ディスク等の情報ディ
スクでは、基板上に記録層、保護層等の薄膜をスパッタ
リング等により形成している。情報ディスクの薄膜形成
の際に要求される特性として、膜質および膜厚の均一性
が良く、光学的ないし磁気的特性が均質であること、成
膜速度が高いことなどが要求される。

【０００３】スパッタリングによりディスク状基板に成
膜を行う場合、複数個の基板を円周線上に沿って等間隔
にディスク状トレイ上に載置し、トレイを回転させて、
基板を公転させるとともに個々の基板を自転させ、この
自公転によって膜の均一性、均質性を高めるという方法
が採られている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、この方法によ
ると、径の異なるディスクをスパッタする場合、自公転
によるディスク軌跡がそれぞれ異ってくる。他方、被着
粒子発生源のターゲットの位置は固定されているので、
異なる径のディスクでは膜厚分布を生じ、あるいは成膜
速度が低下してしまう。

【０００５】本発明の主たる目的は、スパッタ装置のタ
ーゲットの位置を移動することによって、最適条件でス
パッタリングを行い、均一な膜厚および膜質が得られ、
併せて成膜速度の高い情報ディスクの製造方法を提供す
ることにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（４）の本発明によって達成される。

【０００７】（１）　　チャンバ内に回転可能にディス
ク状のトレイを配置し、このトレイにディスク状の被着
体を載置し、前記被着体を回転させながらスパッタリン
グを行う場合において、前記トレイに対向してターゲッ
トをその位置が変更できるように配置して、前記被着体
の大きさに応じてターゲット位置を変更して、径の異な
る被着体にスパッタリングを行って、径の異なる情報デ
ィスクを得ることを特徴とする情報ディスクの製造方法
。

【０００８】（２）　　前記トレイ上の円周上に複数の
ホルダを配置し、各ホルダに同径のディスク状の被着体
を載置し、前記トレイの回転により、前記被着体を自転
および公転させる上記（１）に記載の情報ディスクの製
造方法。

【０００９】（３）　　前記ターゲットの位置は、前記
トレイの径方向に移動可能である上記（１）または（２
）に記載の情報ディスクの製造方法。

【００１０】（４）　　前記チャンバの壁面に、ボルト
螺合孔を所定間隔で設け、このボルト螺合孔を選択して
、ターゲットをボルトにより取付けて、前記ターゲット
位置を変更する上記（１）ないし（３）のいずれかに記
載の情報ディスクの製造方法。

【００１１】

【作用】本発明では、ターゲットを被着体の径方向に移
動可能とし、径の異なるディスクを交互にスパッタする
場合に、最適位置にターゲットをセットできるようにす
る。このターゲットの移動は、例えば、チャンバ壁にて
ターゲットユニットを固定するボルトの螺合孔を、被着
体の径方向に複数個切穿しておき、ボルトの螺合孔を変
えることにより容易に行うことができる。

【００１２】

【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。

【００１３】図１は本発明の情報ディスクの製造方法に
おいて用いるスパッタ装置の断面図、図２および図４は
、トレイの正面概略図である。図１において、チャンバ
１内にはディスク状のトレイ４が配置されており、トレ
イ４は、複数のディスク状のホルダ５を有し、ホルダ５
はディスク状の被着体７を載置可能とされている。

【００１４】ディスク状のトレイ４は、その回転軸４５
をチャンバ１に、回転可能に鉛直に軸支され、外部の駆
動手段により回転する。トレイ４の所定の円周軌跡上に
は、図１、図２、図４に示されるように、ディスク状の
ホルダ５が、等間隔に複数個回転可能に軸支される。そ
して、各ホルダ４上にはディスク状の被着体３が公知の
種々の手段で固定される。回転軸４５およびホルダ５の
回転軸５５には、所定のギヤ比のギヤ６１、６５が設け
られており、互いに噛合している。

【００１５】回転軸４５を回転駆動してトレイ４を回転
させると、ホルダ５が公転するととともに、ホルダ５は
ギヤ比に応じて自転を行う。このような自公転の軌跡が
図３に示される。なお、径の異なるディスク状被着体７
にスパッタする際には、径に応じたホルダ５を配置した
別のトレイ４にとりかえればよい。また、きわめて大径
のディスク状被着体を用いるときには、自転のみを行う
構成であってもよい。

【００１６】このようなトレイ４に対向して、ターゲッ
ト２がチャンバ１の壁面１５に装着される。すなわち、
チャンバ１の壁面１５には窓１７が形成されており、こ
の窓１７に、ターゲット２が内部のトレイ４に対向する
ようにターゲットユニット３が装着される。ターゲット
ユニット３はターゲット２の他、例えば、陰極、マグネ
ット、水冷手段等（図示せず）を有する高周波マグネト
ロンスパッタ用等のユニットである。ターゲットユニッ
ト３は取付部３５を有し、取付部３５にはボルト貫通孔
３９が設けられている。

【００１７】これに対し、チャンバ１の壁面１５の外側
には、ボルト螺合孔１８が複数設けられており、所定位
置の螺合孔１８を選択し、シール部材（図示せず）を介
し、ボルト３８で取付部３９を壁面１５に取り付けるこ
とができる。

【００１８】本発明においては図１に示されるこのボル
ト螺合孔１８を、被着体７ないしトレイ４の径方向に、
例えば１０ｍｍ程度の間隔で複数個配置する。

【００１９】このボルト螺合孔１８を選択することによ
り、径の異なる被着体３をスパッタする際に、ターゲッ
ト２の位置を、図中ｘ方向に間けつないし段階的に移動
して、スパッタリングを行うものである。ボルト螺合孔
１８の配置個数および配置間隔はスパッタする被着体３
の径の大きさに対応して決定すればよい。

【００２０】ターゲットの最適位置は、径の異なるディ
スク毎に実際の成膜条件にて実験を行い、膜厚の変動が
少なく成膜速度の高い位置を決定しておけばよい。すな
わち、ディスク径に応じ、膜厚の変動、特に最大膜厚Ｄ
ｍａｘ　と最小膜厚Ｄｍｉｎ　との比が好ましくは９０
％、特に９４％以内となり、しかも成膜速度ができるだ
け高い位置を決定する。この際、ガラス質や各種誘導体
のスパッタ等、基板への熱の影響が生じるときには、デ
ィスク状被着体７の中心から、できるだけトレイ４の外
周側の位置を選択する。

【００２１】このような場合、被着体７のディスク径φ
、ターゲット２のディスク径方向長さをａとした場合、
ａ／φは一般に１以下程度とすることが好ましい。 そして、ターゲット２は被着体７のディスク中心とター
ゲット中心との距離ｂがｂ≦φ程度の範囲で移動可能と
することが好ましい。

【００２２】また、公転直径は７００ｍｍ程度以下（１
枚セットの場合は０ｍｍ）、公転速度は５〜５０ｒｐｍ
　、自公転比は２〜１０程度とする。

【００２３】なお、本発明では多元スパッタを行う場合
にも複数のターゲットの位置を変更可能とすることがで
きる。また被着体の径に対応して、ターゲット２の大き
さをかえてもよい。

【００２４】さらに、以上では光ディスクの構成層の成
膜について述べてきたが、光ディスクは、追記型や書替
え型等の記録再生用であっても再生専用であってもよく
、さらには磁気ディスクであってもよい。

【００２５】

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明
をさらに詳細に説明する。

【００２６】実施例１ 図１に示されるように、チャンバ１内にその鉛直方向に
ディスク状トレイ４を配置した。このディスク状トレイ
４に対向するチャンバの壁面１５に、基板の径方向に２
０ｍｍ間隔ごとにターゲット２を移動できるようにボル
ト螺合孔１８を複数設けた。

【００２７】このスパッタ装置を用いて、ポリカーボネ
ート製の光磁気ディスク基板に記録層の成膜を行った。 基板の直径は１３０ｍｍとし基板には、予めＳｉＮｘの
中間層を設けた。

【００２８】スパッタ条件はスパッタ圧力０．３Ｐａ、
スパッタ電力１０００Ｗ　とした。ターゲットには１２
７×１７８ｍｍの大きさのＴｂＦｅＣｏを用いた。トレ
イ４上に１０枚の基板を等間隔に配置し、ターゲットの
位置を変えて、基板上に記録層を成膜した。

【００２９】ターゲットの位置はディスクの回転中心を
中心として２０ｍｍ間隔で変更し、各点における記録層
の膜厚および成膜速度を測定した。なおディスクの公転
直径は５２０ｍｍとし、自公転比は９．５とした。また
成膜時間は２０分とし、膜厚は段差計を用いて測定した
。

【００３０】図５に結果を示す。この場合距離が負であ
るとは、トレイ中心側への偏倚を意味する。そして図中
、プロット〇はターゲットの位置を変更して成膜した場
合の、ディスクの最大厚Ｄｍａｘ　に対する最小厚Ｄｍ
ｉｎ　の百分率で表わした膜厚変動であり、プロット●
は成膜速度である。

【００３１】図５のプロット〇が示すとおり、ターゲッ
トの各位置についてディスクの膜厚はほぼ均一であり、
９４％以上のきわめて好ましい均一性を示す。一方成膜
速度はディスクの回転中心から−４０〜−１０ｍｍの点
で最高となっている。従って、本実施例の場合は、ター
ゲットの位置をディスクの回転中心から−４０〜−１０
ｍｍの位置に設定すれば、高い成膜速度で、均一な膜厚
の情報ディスクを得ることができる。

【００３２】実施例２ 光磁気ディスクの径を２００ｍｍ、ディスクの公転直径
を４７２ｍｍ、自公転比を８．５とし、ホルダへの載置
基板数を４枚としたほかは実施例１と同様にして光磁気
ディスクを得た。結果を図６に示す。

【００３３】図６に示されるように、ターゲットの位置
を変更するとディスク中の膜厚は大巾に変動し、−１０
０ｍｍでしか、９５％以上の均一性は得られない。

【００３４】一方、この点では高い成膜速度が得られる
ので、この場合は−１００ｍｍの位置にターゲットを設
定すれば有利なことがわかる。

【００３５】

【発明の効果】本発明の情報ディスクの製造方法は、デ
ィスクを自公転させて、スパッタリングする際に、ディ
スク径に応じてターゲット位置を移動するので、基板径
の大小に拘らず、成膜速度の高い条件で膜厚および膜質
の均一な情報ディスクを得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の情報ディスクの製造方法に用いるスパ
ッタ装置の切断端面図である。

【図２】トレイと被着体との関係を示す正面図である。

【図３】図２の被着体の軌跡を示す概略図である。

【図４】トレイと被着体との関係を示す正面図である。

【図５】ターゲットの位置をかえたときの、膜厚変動と
成膜速度を示すグラフである。

【図６】ターゲットの位置をかえたときの膜厚変動と成
膜速度を示すグラフである。

【符号の説明】

１　　チャンバ １５　　壁面 １７　　窓 １８　　ホルダ螺合孔 ２　　ターゲット ３　　ターゲットユニット ３５　　取付部 ３８　　ボルト ３９　　ボルト貫通孔 ４　　トレイ ４５　　回転軸 ５　　ホルダ ５５　　回転軸 ６１、６５　　ギヤ ７　　被着体

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　チャンバ内に回転可能にディスク状の
   トレイを配置し、このトレイにディスク状の被着体を載
   置し、前記被着体を回転させながらスパッタリングを行
   う場合において、前記トレイに対向してターゲットをそ
   の位置が変更できるように配置して、前記被着体の大き
   さに応じてターゲット位置を変更して、径の異なる被着
   体にスパッタリングを行って、径の異なる情報ディスク
   を得ることを特徴とする情報ディスクの製造方法。
2. 【請求項２】　　前記トレイ上の円周上に複数のホルダ
   を配置し、各ホルダに同径のディスク状の被着体を載置
   し、前記トレイの回転により、前記被着体を自転および
   公転させる請求項１に記載の情報ディスクの製造方法。
3. 【請求項３】　　前記ターゲットの位置は、前記トレイ
   の径方向に移動可能である請求項１または２に記載の情
   報ディスクの製造方法。
4. 【請求項４】　　前記チャンバの壁面に、ボルト螺合孔
   を所定間隔で設け、このボルト螺合孔を選択して、ター
   ゲットをボルトにより取付けて、前記ターゲット位置を
   変更する請求項１ないし３のいずれかに記載の情報ディ
   スクの製造方法。