JPH04284622A - 密閉室の給排気装置及び給排気方法 - Google Patents
密閉室の給排気装置及び給排気方法Info
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- JPH04284622A JPH04284622A JP4930991A JP4930991A JPH04284622A JP H04284622 A JPH04284622 A JP H04284622A JP 4930991 A JP4930991 A JP 4930991A JP 4930991 A JP4930991 A JP 4930991A JP H04284622 A JPH04284622 A JP H04284622A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置の製造工程
等において用いるエピタキシャル成長装置等の密閉室の
給排気を行う際の密閉室内の発塵を防止する給排気装置
及び給排気方法に関するものである。
等において用いるエピタキシャル成長装置等の密閉室の
給排気を行う際の密閉室内の発塵を防止する給排気装置
及び給排気方法に関するものである。
【０００２】近年の半導体装置は機能を高速化し、半導
体チップを小型化するためにパターンの精密化が要求さ
れているので、半導体装置の製造工程はクリーンルーム
内において行われており、製造工程における発塵はこの
精密化の重大な障害となっている。
体チップを小型化するためにパターンの精密化が要求さ
れているので、半導体装置の製造工程はクリーンルーム
内において行われており、製造工程における発塵はこの
精密化の重大な障害となっている。
【０００３】以上のような状況から、半導体装置の製造
工程に用いる製造装置の密閉室内の発塵を防止すること
が可能な密閉室の給排気装置及び給排気方法が要望され
ている。
工程に用いる製造装置の密閉室内の発塵を防止すること
が可能な密閉室の給排気装置及び給排気方法が要望され
ている。
【０００４】
【従来の技術】従来の密閉室の給排気装置及び給排気方
法について、図４により詳細に説明する。
法について、図４により詳細に説明する。
【０００５】図４は従来の密閉室の給排気装置を示す図
であり、図に示すように密閉室２１はその下部に接続さ
れている給排気管２２により、給排気弁２３を介してポ
ンプ２６と接続されている。
であり、図に示すように密閉室２１はその下部に接続さ
れている給排気管２２により、給排気弁２３を介してポ
ンプ２６と接続されている。
【０００６】このような給排気装置により密閉室２１の
内部の気体を排気する場合や、室内圧が低圧になってい
る密閉室２１内に気体を送り込んで密閉室２１内の気体
の圧力を高くする場合には、給排気弁２３を開放して、
ポンプ２６を運転して一気に給排気を行っている。
内部の気体を排気する場合や、室内圧が低圧になってい
る密閉室２１内に気体を送り込んで密閉室２１内の気体
の圧力を高くする場合には、給排気弁２３を開放して、
ポンプ２６を運転して一気に給排気を行っている。
【０００７】このため密閉室２１の下部に設けた載物台
２４の表面に載置した半導体ウエーハ１２の表面に粉塵
が舞い降り、半導体ウエーハ１２の品質を低下させてい
る。
２４の表面に載置した半導体ウエーハ１２の表面に粉塵
が舞い降り、半導体ウエーハ１２の品質を低下させてい
る。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】以上説明した従来の密
閉室の給排気装置による給排気方法においては、給排気
弁を開放した後、ポンプを運転して一気に給排気を行っ
ているので、密閉室の室内圧と給排気管内の圧力との差
が一気に大きくなり、気体の流速が急激に速くなるため
、密閉室内の粉塵が舞い上がり、密閉室内の載物台に載
置した半導体ウエーハの表面に舞い降り品質が低下する
という問題点があった。
閉室の給排気装置による給排気方法においては、給排気
弁を開放した後、ポンプを運転して一気に給排気を行っ
ているので、密閉室の室内圧と給排気管内の圧力との差
が一気に大きくなり、気体の流速が急激に速くなるため
、密閉室内の粉塵が舞い上がり、密閉室内の載物台に載
置した半導体ウエーハの表面に舞い降り品質が低下する
という問題点があった。
【０００９】本発明は以上のような状況から、密閉室内
の気体の給排気を行う場合に半導体ウエーハの表面に粉
塵が舞い降りるのを防止することが可能となる密閉室の
給排気装置及び給排気方法の提供を目的としたものであ
る。
の気体の給排気を行う場合に半導体ウエーハの表面に粉
塵が舞い降りるのを防止することが可能となる密閉室の
給排気装置及び給排気方法の提供を目的としたものであ
る。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の密閉室の給排気
装置は、密閉室内部の気体を排気或いはこの密閉室内部
に気体を給気する装置であって、主給排気弁を備えた主
給排気管と、副給排気弁を備えた副給排気管と、流量調
節弁を備えた流量調節管と、この主給排気管、副給排気
管及び流量調節管の各々と接続されているポンプと、こ
の密閉室内に設けた圧力センサと、この圧力センサの検
出データに基づきこの主給排気弁、副給排気弁、流量調
節弁を制御する制御装置とを具備するように構成し、本
発明の密閉室の排気方法は、上記の密閉室の給排気装置
を用いる排気方法であって、この圧力センサによりこの
密閉室内の圧力を検出し、この圧力センサにより検出さ
れた圧力の値が、高速排気を行っても発塵しない所定の
低圧値に到達するまでの間は、この副給排気弁及び流量
調節弁を開いてこの密閉室内の気体を排気し、この密閉
室の室内圧がこの所定の低圧値に到達すれば、この副給
排気弁及び流量調節弁を閉じ、主給排気弁を開いて高速
排気を行うよう構成し、本発明の密閉室の給気方法は、
上記の密閉室の給排気装置を用いる給気方法であって、
この圧力センサによりこの密閉室内の圧力を検出し、こ
の圧力センサにより検出された圧力の値が、高速給気を
行っても発塵しない所定の高圧値に到達するまでの間は
、この副給排気弁及び流量調節弁を開いてこの密閉室内
に気体を給気し、この密閉室の室内圧がこの所定の高圧
値に到達すれば、この副給排気弁及び流量調節弁を閉じ
、主給排気弁を開いて高速給気を行うように構成する。
装置は、密閉室内部の気体を排気或いはこの密閉室内部
に気体を給気する装置であって、主給排気弁を備えた主
給排気管と、副給排気弁を備えた副給排気管と、流量調
節弁を備えた流量調節管と、この主給排気管、副給排気
管及び流量調節管の各々と接続されているポンプと、こ
の密閉室内に設けた圧力センサと、この圧力センサの検
出データに基づきこの主給排気弁、副給排気弁、流量調
節弁を制御する制御装置とを具備するように構成し、本
発明の密閉室の排気方法は、上記の密閉室の給排気装置
を用いる排気方法であって、この圧力センサによりこの
密閉室内の圧力を検出し、この圧力センサにより検出さ
れた圧力の値が、高速排気を行っても発塵しない所定の
低圧値に到達するまでの間は、この副給排気弁及び流量
調節弁を開いてこの密閉室内の気体を排気し、この密閉
室の室内圧がこの所定の低圧値に到達すれば、この副給
排気弁及び流量調節弁を閉じ、主給排気弁を開いて高速
排気を行うよう構成し、本発明の密閉室の給気方法は、
上記の密閉室の給排気装置を用いる給気方法であって、
この圧力センサによりこの密閉室内の圧力を検出し、こ
の圧力センサにより検出された圧力の値が、高速給気を
行っても発塵しない所定の高圧値に到達するまでの間は
、この副給排気弁及び流量調節弁を開いてこの密閉室内
に気体を給気し、この密閉室の室内圧がこの所定の高圧
値に到達すれば、この副給排気弁及び流量調節弁を閉じ
、主給排気弁を開いて高速給気を行うように構成する。
【００１１】
【作用】即ち本発明においては密閉室内の気体の給排気
を行う場合にポンプの運転状態を一定にしておき、圧力
センサによって密閉室内の圧力を検出し、この圧力が所
定の圧力に到達するまでの間は密閉室内の粉塵が舞い上
がらない流量で気体が流れるように、副給排気管を経由
して密閉室内の気体を給排気するように制御装置を用い
て副給排気弁を開放する。
を行う場合にポンプの運転状態を一定にしておき、圧力
センサによって密閉室内の圧力を検出し、この圧力が所
定の圧力に到達するまでの間は密閉室内の粉塵が舞い上
がらない流量で気体が流れるように、副給排気管を経由
して密閉室内の気体を給排気するように制御装置を用い
て副給排気弁を開放する。
【００１２】一方、制御装置により流量調節弁を開放し
て流量調節管を経由して密閉室外の空気を給排気し、こ
の副給排気管と流量調節管を流れる気体の総流量がポン
プの給排気量と等しくなるようにしてあるので、ポンプ
の運転状態は一定であるが、副給排気管の流量を所望の
流量にすることができる。
て流量調節管を経由して密閉室外の空気を給排気し、こ
の副給排気管と流量調節管を流れる気体の総流量がポン
プの給排気量と等しくなるようにしてあるので、ポンプ
の運転状態は一定であるが、副給排気管の流量を所望の
流量にすることができる。
【００１３】密閉室内圧が上記の所定の圧力に到達すれ
ば、制御装置により主給排気弁を開放すると同時に、副
給排気弁と流量調節弁とを閉止し、主給排気管を経由し
て密閉室の気体を給排気しても密閉室内の粉塵が舞い上
がらないようにすることが可能となる。
ば、制御装置により主給排気弁を開放すると同時に、副
給排気弁と流量調節弁とを閉止し、主給排気管を経由し
て密閉室の気体を給排気しても密閉室内の粉塵が舞い上
がらないようにすることが可能となる。
【００１４】
【実施例】以下図１〜図３により本発明の密閉室の給排
気装置及び給排気方法の一実施例について詳細に説明す
る。
気装置及び給排気方法の一実施例について詳細に説明す
る。
【００１５】図１は本発明による一実施例の密閉室の給
排気装置を示す図、図２は本発明による一実施例の密閉
室の排気方法を説明する図、図３は本発明による一実施
例の密閉室の給気方法を説明する図である。
排気装置を示す図、図２は本発明による一実施例の密閉
室の排気方法を説明する図、図３は本発明による一実施
例の密閉室の給気方法を説明する図である。
【００１６】図１に示すように密閉室１の下部に接続さ
れている主給排気管２は主給排気弁３を介し、副給排気
管４は副給排気弁５を介してポンプ６と接続されている
。副給排気弁５とポンプ６との間には流量調節管９が接
続され、この流量調節管９の他端は流量調節弁１０を介
して大気に開放されている。
れている主給排気管２は主給排気弁３を介し、副給排気
管４は副給排気弁５を介してポンプ６と接続されている
。副給排気弁５とポンプ６との間には流量調節管９が接
続され、この流量調節管９の他端は流量調節弁１０を介
して大気に開放されている。
【００１７】このような給排気装置により密閉室１の内
部の空気を排気する場合には、まず図２に示すように主
給排気弁３を閉止し、副給排気弁５と流量調節弁１０と
を開放してポンプ６を運転する。
部の空気を排気する場合には、まず図２に示すように主
給排気弁３を閉止し、副給排気弁５と流量調節弁１０と
を開放してポンプ６を運転する。
【００１８】この副給排気弁５の流量は密閉室１内の粉
塵が舞い上がらない程度の微量にしてあり、流量調節弁
１０の流量はポンプ６の排気量と副給排気弁５の流量と
の差に相当する流量にしてあるので、ポンプ６は平常の
運転を行えば良い。
塵が舞い上がらない程度の微量にしてあり、流量調節弁
１０の流量はポンプ６の排気量と副給排気弁５の流量と
の差に相当する流量にしてあるので、ポンプ６は平常の
運転を行えば良い。
【００１９】この状態で密閉室１の排気を続け、やがて
密閉室１の室内圧が０．１Ｔｏｒｒ 程度に低下すると
主給排気弁３を開放して排気を行っても粉塵が舞い上が
らなくなるので、この密閉室１の室内圧が０．１Ｔｏｒ
ｒ 程度に低下したことを圧力センサ７が検出すれば制
御装置８が作動し、主給排気弁３を開放すると同時に副
給排気弁５と流量調節弁１０とを閉止し、密閉室１の下
部に設けた載物台１１の表面に載置した半導体ウエーハ
１２の表面に粉塵が舞い降りないように主給排気管２を
経由して密閉室１内の空気の排気を行うことが可能とな
る。
密閉室１の室内圧が０．１Ｔｏｒｒ 程度に低下すると
主給排気弁３を開放して排気を行っても粉塵が舞い上が
らなくなるので、この密閉室１の室内圧が０．１Ｔｏｒ
ｒ 程度に低下したことを圧力センサ７が検出すれば制
御装置８が作動し、主給排気弁３を開放すると同時に副
給排気弁５と流量調節弁１０とを閉止し、密閉室１の下
部に設けた載物台１１の表面に載置した半導体ウエーハ
１２の表面に粉塵が舞い降りないように主給排気管２を
経由して密閉室１内の空気の排気を行うことが可能とな
る。
【００２０】このような給排気装置により密閉室１の内
部に気体を給気する場合には、まず図３に示すように主
給排気弁３を閉止し、副給排気弁５と流量調節弁１０と
を開放してポンプ６を運転する。
部に気体を給気する場合には、まず図３に示すように主
給排気弁３を閉止し、副給排気弁５と流量調節弁１０と
を開放してポンプ６を運転する。
【００２１】この副給排気弁５の流量は密閉室１内の粉
塵が舞い上がらない程度の微量にしてあり、流量調節弁
１０の流量はポンプ６の排気量と副給排気弁５の流量と
の差に相当する流量にしてあるので、ポンプ６は平常の
運転を行えば良い。
塵が舞い上がらない程度の微量にしてあり、流量調節弁
１０の流量はポンプ６の排気量と副給排気弁５の流量と
の差に相当する流量にしてあるので、ポンプ６は平常の
運転を行えば良い。
【００２２】この状態で密閉室１への給気を続け、やが
て密閉室１の室内圧が０．３Ｔｏｒｒ 程度に到達する
と主給排気弁３を開放して排気を行っても粉塵が舞い上
がらなくなるので、この密閉室１の室内圧が０．３Ｔｏ
ｒｒ 程度に到達したことを圧力センサ７が検出すれば
制御装置８が作動し、主給排気弁３を開放すると同時に
副給排気弁５と流量調節弁１０とを閉止し、密閉室１の
下部に設けた載物台１１の表面に載置した半導体ウエー
ハ１２の表面に粉塵が舞い降りないように主給排気管２
を経由して密閉室１内に気体の給気を行うことが可能と
なる。
て密閉室１の室内圧が０．３Ｔｏｒｒ 程度に到達する
と主給排気弁３を開放して排気を行っても粉塵が舞い上
がらなくなるので、この密閉室１の室内圧が０．３Ｔｏ
ｒｒ 程度に到達したことを圧力センサ７が検出すれば
制御装置８が作動し、主給排気弁３を開放すると同時に
副給排気弁５と流量調節弁１０とを閉止し、密閉室１の
下部に設けた載物台１１の表面に載置した半導体ウエー
ハ１２の表面に粉塵が舞い降りないように主給排気管２
を経由して密閉室１内に気体の給気を行うことが可能と
なる。
【００２３】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば極めて簡単な構造の副吸排気弁を備えた副吸排
気管と流量調節弁を備えた流量調節管とを設け、密閉室
内圧を検出する圧力センサとこの検出値により作動する
制御装置を設けることにより、密閉室内圧に応じた給排
気を行って粉塵の舞い上がりを防止することが可能とな
る利点があり、著しい品質向上の効果が期待できる密閉
室の給排気装置及び給排気方法の提供が可能である。
によれば極めて簡単な構造の副吸排気弁を備えた副吸排
気管と流量調節弁を備えた流量調節管とを設け、密閉室
内圧を検出する圧力センサとこの検出値により作動する
制御装置を設けることにより、密閉室内圧に応じた給排
気を行って粉塵の舞い上がりを防止することが可能とな
る利点があり、著しい品質向上の効果が期待できる密閉
室の給排気装置及び給排気方法の提供が可能である。
【図１】 本発明による一実施例の密閉室の給排気装
置を示す図、
置を示す図、
【図２】 本発明による一実施例の密閉室の排気方法
を説明する図、
を説明する図、
【図３】 本発明による一実施例の密閉室の給気方法
を説明する図、
を説明する図、
【図４】 従来の密閉室の給排気装置を示す図、
１は密閉室、
２は主給排気管、
３は主給排気弁、
４は副給排気管、
５は副給排気弁、
６はポンプ、
７は圧力センサ、
８は制御装置、
９は流量調節管、
１０は流量調節弁、
１１は載物台、
１２半導体ウエーハ、
Claims (3)
- 【請求項１】 密閉室（１） 内部の気体を排気或い
は該密閉室（１） 内部に気体を給気する装置であって
、主給排気弁（３） を備えた主給排気管（２） と、
副給排気弁（５） を備えた副給排気管（４） と、流
量調節弁（１０）を備えた流量調節管（９） と、前記
主給排気管（２） 、前記副給排気管（４） 及び前記
流量調節管（９） の各々と接続されているポンプ（６
） と、前記密閉室（１） 内に設けた圧力センサ（７
） と、該圧力センサ（７） の検出データに基づき前
記主給排気弁（３） 、副給排気弁（５） 、流量調節
弁（１０）を制御する制御装置（８） と、を具備する
ことを特徴とする密閉室の給排気装置。 - 【請求項２】 請求項１記載の密閉室の給排気装置を
用いる排気方法であって、前記圧力センサ（７） によ
り前記密閉室（１） 内の圧力を検出し、前記圧力セン
サ（７） により検出された圧力の値が、高速排気を行
っても発塵しない所定の低圧値に到達するまでの間は、
前記副給排気弁（５） 及び流量調節弁（１０）を開い
て前記密閉室（１） 内の気体を排気し、前記密閉室（
１） の室内圧が前記所定の低圧値に到達すれば、前記
副給排気弁（５） 及び流量調節弁（１０）を閉じ、主
給排気弁（３） を開いて高速排気を行うことを特徴と
する密閉室の排気方法。 - 【請求項３】 請求項１記載の密閉室の給排気装置を
用いる給気方法であって、前記圧力センサ（７） によ
り前記密閉室（１） 内の圧力を検出し、前記圧力セン
サ（７） により検出された圧力の値が、高速給気を行
っても発塵しない所定の高圧値に到達するまでの間は、
前記副給排気弁（５） 及び流量調節弁（１０）を開い
て前記密閉室（１） 内に気体を給気し、前記密閉室（
１） の室内圧が前記所定の高圧値に到達すれば、前記
副給排気弁（５） 及び流量調節弁（１０）を閉じ、主
給排気弁（３） を開いて高速給気を行うことを特徴と
する密閉室の給気方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4930991A JPH04284622A (ja) | 1991-03-14 | 1991-03-14 | 密閉室の給排気装置及び給排気方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4930991A JPH04284622A (ja) | 1991-03-14 | 1991-03-14 | 密閉室の給排気装置及び給排気方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04284622A true JPH04284622A (ja) | 1992-10-09 |
Family
ID=12827352
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4930991A Withdrawn JPH04284622A (ja) | 1991-03-14 | 1991-03-14 | 密閉室の給排気装置及び給排気方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04284622A (ja) |
-
1991
- 1991-03-14 JP JP4930991A patent/JPH04284622A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980514 |