JPH04282816A - 電解コンデンサ用電解液 - Google Patents
電解コンデンサ用電解液Info
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- JPH04282816A JPH04282816A JP3070544A JP7054491A JPH04282816A JP H04282816 A JPH04282816 A JP H04282816A JP 3070544 A JP3070544 A JP 3070544A JP 7054491 A JP7054491 A JP 7054491A JP H04282816 A JPH04282816 A JP H04282816A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電解コンデンサ用電解液
に関する。
に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、通信機器や計測機器等の高性能化
が進むに従い、これ等の機器に組み込む電解コンデンサ
についても電気特性の向上や長寿命化が強く要求される
ようになってきた。
が進むに従い、これ等の機器に組み込む電解コンデンサ
についても電気特性の向上や長寿命化が強く要求される
ようになってきた。
【0003】電解コンデンサは、一般的に、エチレング
リコール等の多価アルコール類を溶媒とし、有機酸や無
機酸等の溶質を溶解した電解液を使用している。そして
例えば、電解コンデンサの長寿命化を計るために、この
電解液に芳香族ニトロ化合物等のガス吸収剤やガス発生
を抑制できるリン酸等を添加している。
リコール等の多価アルコール類を溶媒とし、有機酸や無
機酸等の溶質を溶解した電解液を使用している。そして
例えば、電解コンデンサの長寿命化を計るために、この
電解液に芳香族ニトロ化合物等のガス吸収剤やガス発生
を抑制できるリン酸等を添加している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、芳香族ニトロ
化合物はその添加量が多くなるとコンデンサの耐圧が低
下する欠点がある。また、芳香族ニトロ化合物は、発生
した水素ガスを吸収してアミノ化合物を生成する性質が
あるが、ある種のアミノ化合物には水素ガス発生を促進
するため、ガス吸収剤としての効果は低く、含有量が多
くなるとガス発生量を増大させる性質を有しておりかえ
って逆効果になる欠点がある。また、リン酸は、水素ガ
ス発生の抑制効果が比較的に低く、その効果も長時間持
続しない欠点がある。
化合物はその添加量が多くなるとコンデンサの耐圧が低
下する欠点がある。また、芳香族ニトロ化合物は、発生
した水素ガスを吸収してアミノ化合物を生成する性質が
あるが、ある種のアミノ化合物には水素ガス発生を促進
するため、ガス吸収剤としての効果は低く、含有量が多
くなるとガス発生量を増大させる性質を有しておりかえ
って逆効果になる欠点がある。また、リン酸は、水素ガ
ス発生の抑制効果が比較的に低く、その効果も長時間持
続しない欠点がある。
【0005】本発明の目的は、以上の欠点を改良し、耐
圧を低下することなく、電解コンデンサの寿命を改善で
きる電解コンデンサ用電解液を提供することである。
圧を低下することなく、電解コンデンサの寿命を改善で
きる電解コンデンサ用電解液を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を
達成するために、多価アルコール類を主溶媒とし、有機
酸またはその塩、ホウ酸またはその塩のうち一種類以上
を溶質とする電解コンデンサ用電解液において、ベンゾ
イル化合物と、ホスホン酸誘導体とを含有することを特
徴とする電解コンデンサ用電解液を提供するものである
。
達成するために、多価アルコール類を主溶媒とし、有機
酸またはその塩、ホウ酸またはその塩のうち一種類以上
を溶質とする電解コンデンサ用電解液において、ベンゾ
イル化合物と、ホスホン酸誘導体とを含有することを特
徴とする電解コンデンサ用電解液を提供するものである
。
【0007】
【作用】通常、アルミニウム陰極箔の表面には水酸化ア
ルミニウムが存在する。しかし、この水酸化アルミニウ
ムは電解液中で不安定であり、そのために、陰極のアル
ミニウムが電解液中に溶出し易く、その際に水素ガスが
発生する。
ルミニウムが存在する。しかし、この水酸化アルミニウ
ムは電解液中で不安定であり、そのために、陰極のアル
ミニウムが電解液中に溶出し易く、その際に水素ガスが
発生する。
【0008】本発明の電解液中のベンゾイル化合物は、
カルボニル基の還元反応により水素を吸収する作用があ
り、ガス発生を抑制する。そしてこのベンゾイル化合物
は、芳香族ニトロ化合物と異なり含有量が増えても耐圧
が低下することなく、また、アミノ化合物を生じないた
めガス発生を促進することもない。
カルボニル基の還元反応により水素を吸収する作用があ
り、ガス発生を抑制する。そしてこのベンゾイル化合物
は、芳香族ニトロ化合物と異なり含有量が増えても耐圧
が低下することなく、また、アミノ化合物を生じないた
めガス発生を促進することもない。
【0009】また、ホスホン酸誘導体は、陰極のアルミ
ニウムと結合して陰極箔表面に緻密な皮膜を形成する。 この皮膜は水酸化アルミニウムに比較して電解液に対し
て安定した性質を有している。そのため、ホスホン酸誘
導体を電解液中に溶解すると、陰極のアルミニウムの溶
出とそれに伴う水素ガスの発生を抑制できる。そして、
このホスホン酸誘導体が水素ガスの発生を抑制する効果
は、従来のリン酸に比較してより大きく、長時間持続す
る。
ニウムと結合して陰極箔表面に緻密な皮膜を形成する。 この皮膜は水酸化アルミニウムに比較して電解液に対し
て安定した性質を有している。そのため、ホスホン酸誘
導体を電解液中に溶解すると、陰極のアルミニウムの溶
出とそれに伴う水素ガスの発生を抑制できる。そして、
このホスホン酸誘導体が水素ガスの発生を抑制する効果
は、従来のリン酸に比較してより大きく、長時間持続す
る。
【0010】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて説明する。
溶媒にはエチレングリコール等の多価アルコール類を用
いる。溶質には、ブチルオクタン二酸等の有機酸やその
アンモニウム塩、あるいはホウ酸やホウ酸アンモニウム
のうちの一種以上を用いる。ベンゾイル化合物としては
、化1〜化7に示す構造式からなるβ−ベンゾイルアク
リル酸、ジベンゾイルメタン、ベンゾイルアセトン、ベ
ンゾイルアントラニル、ベンゾイルピリジン、ベンゾフ
ェノン、ジベンゾイルを用いる。
いる。溶質には、ブチルオクタン二酸等の有機酸やその
アンモニウム塩、あるいはホウ酸やホウ酸アンモニウム
のうちの一種以上を用いる。ベンゾイル化合物としては
、化1〜化7に示す構造式からなるβ−ベンゾイルアク
リル酸、ジベンゾイルメタン、ベンゾイルアセトン、ベ
ンゾイルアントラニル、ベンゾイルピリジン、ベンゾフ
ェノン、ジベンゾイルを用いる。
【0011】
【化1】
【0012】
【化2】
【0013】
【化3】
【0014】
【化4】
【0015】
【化5】
【0016】
【化6】
【0017】
【化7】
【0018】また、ホスホン酸誘導体としては、化8〜
化13に示す構造式からなるアルキルホスホン酸、フェ
ニルホスホン酸、フェニルホスホン酸ジメチルエステル
、1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸、
アミノトリメチレンホスホン酸、アミノトリエチレンホ
スホン酸を用いる。
化13に示す構造式からなるアルキルホスホン酸、フェ
ニルホスホン酸、フェニルホスホン酸ジメチルエステル
、1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸、
アミノトリメチレンホスホン酸、アミノトリエチレンホ
スホン酸を用いる。
【0019】
【化8】
【0020】
【化9】
【0021】
【化10】
【0022】
【化11】
【0023】
【化12】
【0024】
【化13】
【0025】次に表1及び表2に示した本発明の実施例
及び従来例の電解液中に、陰極箔(40mm×200m
m)を浸漬し、高温放置して発生する水素ガス量を測定
した。放置温度は、溶質に有機酸アンモニウムを用いた
場合が130℃、ホウ酸アンモニウムを用いた場合が1
10℃とする。また放置時間は500時間とする。そし
て水素ガスの発生量の測定は温度20℃の雰囲気中で行
なった。
及び従来例の電解液中に、陰極箔(40mm×200m
m)を浸漬し、高温放置して発生する水素ガス量を測定
した。放置温度は、溶質に有機酸アンモニウムを用いた
場合が130℃、ホウ酸アンモニウムを用いた場合が1
10℃とする。また放置時間は500時間とする。そし
て水素ガスの発生量の測定は温度20℃の雰囲気中で行
なった。
【0026】
【表1】
【0027】
【表2】
【0028】表1及び表2から明らかな通り、ガス発生
量は、実施例1〜実施例15では0.4ml〜1.6m
lに、そして従来例1〜従来例4では3.5ml〜18
.5mlとなり、前者の方が後者の約2%〜46%に減
少している。
量は、実施例1〜実施例15では0.4ml〜1.6m
lに、そして従来例1〜従来例4では3.5ml〜18
.5mlとなり、前者の方が後者の約2%〜46%に減
少している。
【0029】なお、ベンゾイル化合物の含有量は0.0
1wt%〜3.0wt%の範囲が良く、0.01wt%
未満では水素ガスの吸収効果が低く、3.0wt%を越
えると溶解し難くなって析出したり、水素ガスの吸収効
果が低くなる。
1wt%〜3.0wt%の範囲が良く、0.01wt%
未満では水素ガスの吸収効果が低く、3.0wt%を越
えると溶解し難くなって析出したり、水素ガスの吸収効
果が低くなる。
【0030】また、ホスホン酸誘導体は、0.01〜2
.0wt%の範囲がよく、0.01wt%未満では水素
ガス発生の抑制効果が低く、2.0wt%を越えると火
花電圧が低下する。
.0wt%の範囲がよく、0.01wt%未満では水素
ガス発生の抑制効果が低く、2.0wt%を越えると火
花電圧が低下する。
【0031】耐圧を測定するために、表3に示した電解
液を、定格500V、330μFのコンデンサ素子に含
浸し、定電流6mAで昇圧する。そしてこの昇圧過程に
おいて、電圧が大きく低下した箇所の電圧を耐圧(素子
破壊電圧)として測定した。
液を、定格500V、330μFのコンデンサ素子に含
浸し、定電流6mAで昇圧する。そしてこの昇圧過程に
おいて、電圧が大きく低下した箇所の電圧を耐圧(素子
破壊電圧)として測定した。
【0032】
【表3】
【0033】表3から明らかな通り、耐圧は、実施例1
6〜実施例20が540V〜570V、従来例5〜従来
例7が490V〜520Vとなり、前者の方が後者より
も20V〜50V上昇している。
6〜実施例20が540V〜570V、従来例5〜従来
例7が490V〜520Vとなり、前者の方が後者より
も20V〜50V上昇している。
【0034】
【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、ベンゾイ
ル化合物やホスホン酸誘導体を含有しているために水素
ガスの発生を抑制できるとともに発生した水素ガスを効
果的に吸収でき、耐圧も低下することなく、電解コンデ
ンサの寿命を改善できる電解コンデンサ用電解液が得ら
れる。
ル化合物やホスホン酸誘導体を含有しているために水素
ガスの発生を抑制できるとともに発生した水素ガスを効
果的に吸収でき、耐圧も低下することなく、電解コンデ
ンサの寿命を改善できる電解コンデンサ用電解液が得ら
れる。
Claims (1)
- 【請求項1】 多価アルコール類を主溶媒とし、有機
酸またはその塩、ホウ酸またはその塩のうち一種類以上
を溶質とする電解コンデンサ用電解液において、ベンゾ
イル化合物と、ホスホン酸の誘導体とを含有することを
特徴とする電解コンデンサ用電解液。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3070544A JPH04282816A (ja) | 1991-03-11 | 1991-03-11 | 電解コンデンサ用電解液 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3070544A JPH04282816A (ja) | 1991-03-11 | 1991-03-11 | 電解コンデンサ用電解液 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04282816A true JPH04282816A (ja) | 1992-10-07 |
Family
ID=13434570
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3070544A Pending JPH04282816A (ja) | 1991-03-11 | 1991-03-11 | 電解コンデンサ用電解液 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04282816A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023276589A1 (ja) * | 2021-06-28 | 2023-01-05 | 三洋化成工業株式会社 | 電解コンデンサ用電解液、前記電解液を用いた電解コンデンサ及びハイブリッド型電解コンデンサ |
-
1991
- 1991-03-11 JP JP3070544A patent/JPH04282816A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023276589A1 (ja) * | 2021-06-28 | 2023-01-05 | 三洋化成工業株式会社 | 電解コンデンサ用電解液、前記電解液を用いた電解コンデンサ及びハイブリッド型電解コンデンサ |
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