JPH04276093A - 金ストライクメッキ液 - Google Patents
金ストライクメッキ液Info
- Publication number
- JPH04276093A JPH04276093A JP6270191A JP6270191A JPH04276093A JP H04276093 A JPH04276093 A JP H04276093A JP 6270191 A JP6270191 A JP 6270191A JP 6270191 A JP6270191 A JP 6270191A JP H04276093 A JPH04276093 A JP H04276093A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gold
- strike plating
- fluoride
- plating
- gold strike
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims abstract description 67
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 56
- 239000010931 gold Substances 0.000 title claims abstract description 56
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 56
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title abstract 3
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 10
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 claims abstract description 5
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 150000002344 gold compounds Chemical class 0.000 claims description 10
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 5
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 claims description 3
- KXZJHVJKXJLBKO-UHFFFAOYSA-N chembl1408157 Chemical compound N=1C2=CC=CC=C2C(C(=O)O)=CC=1C1=CC=C(O)C=C1 KXZJHVJKXJLBKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 3
- NNFCIKHAZHQZJG-UHFFFAOYSA-N potassium cyanide Chemical compound [K+].N#[C-] NNFCIKHAZHQZJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 abstract description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 12
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 8
- 239000010936 titanium Substances 0.000 abstract description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000007769 metal material Substances 0.000 abstract description 3
- 229910000623 nickel–chromium alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910001256 stainless steel alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910003803 Gold(III) chloride Inorganic materials 0.000 abstract 1
- KVBCYCWRDBDGBG-UHFFFAOYSA-N azane;dihydrofluoride Chemical compound [NH4+].F.[F-] KVBCYCWRDBDGBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 abstract 1
- RJHLTVSLYWWTEF-UHFFFAOYSA-K gold trichloride Chemical compound Cl[Au](Cl)Cl RJHLTVSLYWWTEF-UHFFFAOYSA-K 0.000 abstract 1
- NRTDAKURTMLAFN-UHFFFAOYSA-N potassium;gold(3+);tetracyanide Chemical compound [K+].[Au+3].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-] NRTDAKURTMLAFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- RTLMFXCEYQGKRK-UHFFFAOYSA-N sodium;gold(3+);tetracyanide Chemical compound [Na+].[Au+3].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-] RTLMFXCEYQGKRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910002710 Au-Pd Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- PANJMBIFGCKWBY-UHFFFAOYSA-N iron tricyanide Chemical compound N#C[Fe](C#N)C#N PANJMBIFGCKWBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- ISDDBQLTUUCGCZ-UHFFFAOYSA-N dipotassium dicyanide Chemical compound [K+].[K+].N#[C-].N#[C-] ISDDBQLTUUCGCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 229940104869 fluorosilicate Drugs 0.000 description 1
- 239000003353 gold alloy Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- DOLZKNFSRCEOFV-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);oxalate Chemical compound [Ni+2].[O-]C(=O)C([O-])=O DOLZKNFSRCEOFV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- -1 organic acid salt Chemical class 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は簡単な前処理により、特
にニッケル−クロム系合金素材、ステンレス系合金素材
、チタン系金属素材等への密着性が良好な金ストライク
メッキ液に関するものである。
にニッケル−クロム系合金素材、ステンレス系合金素材
、チタン系金属素材等への密着性が良好な金ストライク
メッキ液に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来から、厚い金メッキを金属素材に対
して行う場合、通常の金属に施される前処理工程だけで
は金属素地との密着性が不十分であるために、金ストラ
イクメッキと呼ばれる処理が行われている。従来、上記
の金ストライクメッキに使用されるメッキ液として、例
えば商品名「TCL」(田中貴金属から市販されている
)や、商品名「オーロシードST」(日進化成から市販
されている)等の、フッ化物を含有しない金ストライク
メッキ液が使用されていた。
して行う場合、通常の金属に施される前処理工程だけで
は金属素地との密着性が不十分であるために、金ストラ
イクメッキと呼ばれる処理が行われている。従来、上記
の金ストライクメッキに使用されるメッキ液として、例
えば商品名「TCL」(田中貴金属から市販されている
)や、商品名「オーロシードST」(日進化成から市販
されている)等の、フッ化物を含有しない金ストライク
メッキ液が使用されていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の金ストライクメッキ液は、前処理を行う際に金属素
地の酸化被膜を完全に除去しないと、金メッキ層の確実
な密着性を得ることができないという問題点があった。 従って、ストライクメッキの前処理工程において、酸化
被膜の除去を完全に行うことは、全体の作業性を低下さ
せ、又、前処理がすこしでも不十分であると、金メッキ
層の密着性が不十分となり、不良品の発生が多いという
不具合があった。また、上記従来のストライクメッキ液
はニッケル−クロム系合金素材、ステンレス系合金素材
、チタン系合金素材等に対して必ずしも十分な密着性を
有するものではなかった。本発明は上記従来技術の欠点
を解消するためになされたものであり、簡単な前処理工
程で、十分な金属素地と金メッキ層との密着性を与える
ことが可能な、金ストライクメッキ液を提供することを
目的とする。
来の金ストライクメッキ液は、前処理を行う際に金属素
地の酸化被膜を完全に除去しないと、金メッキ層の確実
な密着性を得ることができないという問題点があった。 従って、ストライクメッキの前処理工程において、酸化
被膜の除去を完全に行うことは、全体の作業性を低下さ
せ、又、前処理がすこしでも不十分であると、金メッキ
層の密着性が不十分となり、不良品の発生が多いという
不具合があった。また、上記従来のストライクメッキ液
はニッケル−クロム系合金素材、ステンレス系合金素材
、チタン系合金素材等に対して必ずしも十分な密着性を
有するものではなかった。本発明は上記従来技術の欠点
を解消するためになされたものであり、簡単な前処理工
程で、十分な金属素地と金メッキ層との密着性を与える
ことが可能な、金ストライクメッキ液を提供することを
目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者は上記従来技術
の欠点に鑑み鋭意検討した結果、金ストライクメッキ液
中に特定のフッ化物を含有せしめることで、従来の金ス
トライクメッキ液の欠点を解消することを見出し本発明
を完成するに至った。即ち本発明金ストライクメッキ液
は、塩化第二金、シアン化第二金ナトリウム、シアン化
第二金カリウムからなる群より選ばれた金化合物が金含
有量で0.2g/L 〜10g/L 含まれ、酸性フッ
化アンモニウム、フッ化ナトリウム、フッ化水素酸など
のフッ化物が、フッ素含有量で0.5g/L 〜150
g/L 含まれることを特徴とする。
の欠点に鑑み鋭意検討した結果、金ストライクメッキ液
中に特定のフッ化物を含有せしめることで、従来の金ス
トライクメッキ液の欠点を解消することを見出し本発明
を完成するに至った。即ち本発明金ストライクメッキ液
は、塩化第二金、シアン化第二金ナトリウム、シアン化
第二金カリウムからなる群より選ばれた金化合物が金含
有量で0.2g/L 〜10g/L 含まれ、酸性フッ
化アンモニウム、フッ化ナトリウム、フッ化水素酸など
のフッ化物が、フッ素含有量で0.5g/L 〜150
g/L 含まれることを特徴とする。
【0005】金化合物は、塩化第二金、シアン化第二金
ナトリウム、シアン化第二金カリウムからなる群より選
ばれた金化合物の含有量は、金属金に換算した量で0.
2g/L〜10g/L 含まれる。上記の金化合物の量
が金に換算して0.2g/L 未満になると、金ストラ
イクメッキ工程で金が素地表面に析出しない。また金化
合物の含有量が金の量に換算して10g/L を越える
と、作業時の金のロスが多くなりコスト的な負担が多く
なる。金化合物の含有量は好ましくは、金の量に換算し
て0.5〜3.0g/L である。また金化合物の種類
は上記の群から選ばれたどの化合物でもよいが、シアン
化第二金カリウムが原料の入手しやすさの点から好まし
い。また本発明では上記の金化合物は1種だけ用いても
よいが、2種以上を混合することもできる。
ナトリウム、シアン化第二金カリウムからなる群より選
ばれた金化合物の含有量は、金属金に換算した量で0.
2g/L〜10g/L 含まれる。上記の金化合物の量
が金に換算して0.2g/L 未満になると、金ストラ
イクメッキ工程で金が素地表面に析出しない。また金化
合物の含有量が金の量に換算して10g/L を越える
と、作業時の金のロスが多くなりコスト的な負担が多く
なる。金化合物の含有量は好ましくは、金の量に換算し
て0.5〜3.0g/L である。また金化合物の種類
は上記の群から選ばれたどの化合物でもよいが、シアン
化第二金カリウムが原料の入手しやすさの点から好まし
い。また本発明では上記の金化合物は1種だけ用いても
よいが、2種以上を混合することもできる。
【0006】上記のフッ化物はの含有量は、フッ素量に
換算して0.5g/L 未満又は150g/L を越え
る量になると、金属素地と金メッキ層との十分な密着性
を付与する効果が発揮されない。本発明は、上記のフッ
化物を特定量含有せしめることが重要な要素である。フ
ッ化物の含有量は好ましくは、1.0〜6.0g/L
である。またフッ化物の種類は、酸性フッ化アンモニウ
ム、フッ化ナトリウム、フッ化水素酸、ケイフッ化物な
どがあり、上記の群から選ばれたどの化合物でもよいが
、酸性フッ化アンモニウムが薬品の安全性の理由で好ま
しい。また本発明では上記のフッ化物は1種又は2種以
上用いることができる。
換算して0.5g/L 未満又は150g/L を越え
る量になると、金属素地と金メッキ層との十分な密着性
を付与する効果が発揮されない。本発明は、上記のフッ
化物を特定量含有せしめることが重要な要素である。フ
ッ化物の含有量は好ましくは、1.0〜6.0g/L
である。またフッ化物の種類は、酸性フッ化アンモニウ
ム、フッ化ナトリウム、フッ化水素酸、ケイフッ化物な
どがあり、上記の群から選ばれたどの化合物でもよいが
、酸性フッ化アンモニウムが薬品の安全性の理由で好ま
しい。また本発明では上記のフッ化物は1種又は2種以
上用いることができる。
【0007】本発明金ストライクメッキ液は上記の金化
合物及びフッ化物のみでもよいが、更に他の化合物を添
加することもできる。例えば、必要に応じ金属ニッケル
又は金属コバルトを0.1〜5g/L 程度添加したり
、有機酸塩を5〜60g/L 程度添加することができ
る。本発明金ストライクメッキ液のpHは10.0以下
に調整され、好ましくは1.0〜5.5である。
合物及びフッ化物のみでもよいが、更に他の化合物を添
加することもできる。例えば、必要に応じ金属ニッケル
又は金属コバルトを0.1〜5g/L 程度添加したり
、有機酸塩を5〜60g/L 程度添加することができ
る。本発明金ストライクメッキ液のpHは10.0以下
に調整され、好ましくは1.0〜5.5である。
【0008】本発明ストライクメッキ液を用いた場合の
処理工程は、従来公知の方法と同様に行うことができる
。金ストライクメッキの処理方法は例えば、電圧2〜1
5ボルト、電流密度0.5 〜10A/dm2 、時間
10秒〜5分程度である。また金メッキ処理方法として
は、前処理、金ストライクめっき、厚い金メッキの順に
処理を行うが、前処理工程は、銅等に用いる一般的な前
処理でよい。上記の前処理方法は例えば、アルカリ脱脂
、電解脱脂、酸浸漬、陰極電解脱脂等の順に処理すれば
よい。
処理工程は、従来公知の方法と同様に行うことができる
。金ストライクメッキの処理方法は例えば、電圧2〜1
5ボルト、電流密度0.5 〜10A/dm2 、時間
10秒〜5分程度である。また金メッキ処理方法として
は、前処理、金ストライクめっき、厚い金メッキの順に
処理を行うが、前処理工程は、銅等に用いる一般的な前
処理でよい。上記の前処理方法は例えば、アルカリ脱脂
、電解脱脂、酸浸漬、陰極電解脱脂等の順に処理すれば
よい。
【0009】
【実施例】次に具体的実施例を挙げて本発明を更に詳細
に説明するが、本発明はこれらによって制限されるもの
ではない。 実施例1 長さ10cm×幅15cm×厚み0.1mmのチタン合
金素材(Ti/Ni=50/50重量%)からなる板を
アルカリ脱脂(マクダミッド社:WSP)、電解脱脂(
マクダミッド社:DEW)、酸浸漬(5%硫酸)の順に
、一般の銅合金の処理と同様に前処理を行った後、下記
の組成の本発明金ストライクメッキ液を用いたメッキ浴
を用い2分間陰極電解し、該メッキ浴の温度を40°C
とし、電圧3V、電流密度2A/dm2 で金ストライ
クメッキを施した後、Au−Pd系合金メッキ浴により
3μm厚さにメッキを施した。得られたメッキ層は18
0度折り曲げ試験を行ったところ良好な密着性が得られ
た。 ・金ストライクメッキ液組成 シアン化第二金カリウム(金換算量として
) 1 g/L しゅう酸
30 g/L
酸性フッ化アンモニウム
60 g/L し
ゅう酸ニッケル
1 g/L
pH
2.5
比較例1 実施例1の金ストライクメッキ液をフッ化物を含有しな
い金ストライクメッキ液、TCL(田中貴金属から市販
されている商品名)を用いた以外は、実施例1と全く同
じ材質の素材、前処理、Au−Pd系合金メッキを行っ
た。得られたメッキ層は下地との密着性が不良であった
。 比較例2 実施例1の金ストライクメッキ液をフッ化物を含有しな
い金ストライクメッキ液、オーロシードST(日進化成
から市販されている商品名)を用いた以外は実施例1と
全く同じ材質の素材、前処理、Au−Pd系合金メッキ
を行った。得られたメッキ層は下地との密着性が不良で
あった。 実施例2 実施例1の素材をSUS304に代えた以外は実施例1
と全く同じ前処理、金ストライクメッキ、Au−Pd系
合金メッキを施した。得られたメッキ層は180度折り
曲げ試験を行ったところ良好な密着性が得られた。 比較例3 実施例2の金ストライクメッキ液を従来の金ストライク
メッキ液(フッ化物を含有しない、TLC、オーロシー
ドST)に代えた以外は実施例2と全く同じ材質の素材
、前処理、Au−Pd系合金メッキを行った。得られた
メッキ層は下地との密着性が不良であった。 実施例3 実施例1の素材を2種純チタン材を使用し、金ストライ
クメッキ液を下記の組成のものを使用し下記の条件に代
えた以外は実施例1と同様同じ前処理行いAu−Pd系
合金メッキを施した。得られたメッキ層は180度折り
曲げ試験を行ったところ良好な密着性が得られた。 ・金ストライクメッキ液組成 シアン化第二金ナトリウム(金換算量とし
て) 1 g/L 塩酸
50 cc/
L フッ化ナトリウム
0
.5g/L pH
2.5・金ストライクメッキの条件 温度
30 °C 電流密度
5 A/dm2
電解時間
2 分
比較例4 実施例2の金ストライクメッキ液をフッ化物を含有しな
い、TLC、オーロシードSTに代えた以外は実施例2
と全く同じ材質の素材、前処理、Au−Pd系合金メッ
キを行った。得られたAu−Pd系合金メッキ層の密着
性は不良であった。
に説明するが、本発明はこれらによって制限されるもの
ではない。 実施例1 長さ10cm×幅15cm×厚み0.1mmのチタン合
金素材(Ti/Ni=50/50重量%)からなる板を
アルカリ脱脂(マクダミッド社:WSP)、電解脱脂(
マクダミッド社:DEW)、酸浸漬(5%硫酸)の順に
、一般の銅合金の処理と同様に前処理を行った後、下記
の組成の本発明金ストライクメッキ液を用いたメッキ浴
を用い2分間陰極電解し、該メッキ浴の温度を40°C
とし、電圧3V、電流密度2A/dm2 で金ストライ
クメッキを施した後、Au−Pd系合金メッキ浴により
3μm厚さにメッキを施した。得られたメッキ層は18
0度折り曲げ試験を行ったところ良好な密着性が得られ
た。 ・金ストライクメッキ液組成 シアン化第二金カリウム(金換算量として
) 1 g/L しゅう酸
30 g/L
酸性フッ化アンモニウム
60 g/L し
ゅう酸ニッケル
1 g/L
pH
2.5
比較例1 実施例1の金ストライクメッキ液をフッ化物を含有しな
い金ストライクメッキ液、TCL(田中貴金属から市販
されている商品名)を用いた以外は、実施例1と全く同
じ材質の素材、前処理、Au−Pd系合金メッキを行っ
た。得られたメッキ層は下地との密着性が不良であった
。 比較例2 実施例1の金ストライクメッキ液をフッ化物を含有しな
い金ストライクメッキ液、オーロシードST(日進化成
から市販されている商品名)を用いた以外は実施例1と
全く同じ材質の素材、前処理、Au−Pd系合金メッキ
を行った。得られたメッキ層は下地との密着性が不良で
あった。 実施例2 実施例1の素材をSUS304に代えた以外は実施例1
と全く同じ前処理、金ストライクメッキ、Au−Pd系
合金メッキを施した。得られたメッキ層は180度折り
曲げ試験を行ったところ良好な密着性が得られた。 比較例3 実施例2の金ストライクメッキ液を従来の金ストライク
メッキ液(フッ化物を含有しない、TLC、オーロシー
ドST)に代えた以外は実施例2と全く同じ材質の素材
、前処理、Au−Pd系合金メッキを行った。得られた
メッキ層は下地との密着性が不良であった。 実施例3 実施例1の素材を2種純チタン材を使用し、金ストライ
クメッキ液を下記の組成のものを使用し下記の条件に代
えた以外は実施例1と同様同じ前処理行いAu−Pd系
合金メッキを施した。得られたメッキ層は180度折り
曲げ試験を行ったところ良好な密着性が得られた。 ・金ストライクメッキ液組成 シアン化第二金ナトリウム(金換算量とし
て) 1 g/L 塩酸
50 cc/
L フッ化ナトリウム
0
.5g/L pH
2.5・金ストライクメッキの条件 温度
30 °C 電流密度
5 A/dm2
電解時間
2 分
比較例4 実施例2の金ストライクメッキ液をフッ化物を含有しな
い、TLC、オーロシードSTに代えた以外は実施例2
と全く同じ材質の素材、前処理、Au−Pd系合金メッ
キを行った。得られたAu−Pd系合金メッキ層の密着
性は不良であった。
【0010】
【発明の効果】以上説明したように、本発明金ストライ
クメッキ液は特定の金化合物を特定の金属金の特定量含
有し、且つ、特定のフッ化物を、特定量含有する組成を
有していることより、従来の金ストライクメッキ液に対
して、本発明金ストライクメッキ液を使用してストライ
クメッキを施した後に金又は金合金系メッキを施すこと
により、金メッキ層と金属下地との間の密着性が優れた
メッキを行うことができる。又、前処理の条件が多少不
十分でも、本発明金ストライクメッキ液を使用して金ス
トライクメッキを行うことよにより、優れた密着性が得
られるために、前処理に厳密な条件が不要であり、メッ
キ作業の作業性が非常に向上する等の効果を有する。
クメッキ液は特定の金化合物を特定の金属金の特定量含
有し、且つ、特定のフッ化物を、特定量含有する組成を
有していることより、従来の金ストライクメッキ液に対
して、本発明金ストライクメッキ液を使用してストライ
クメッキを施した後に金又は金合金系メッキを施すこと
により、金メッキ層と金属下地との間の密着性が優れた
メッキを行うことができる。又、前処理の条件が多少不
十分でも、本発明金ストライクメッキ液を使用して金ス
トライクメッキを行うことよにより、優れた密着性が得
られるために、前処理に厳密な条件が不要であり、メッ
キ作業の作業性が非常に向上する等の効果を有する。
Claims (1)
- 【請求項1】 塩化第二金、シアン化第二金ナトリウ
ム、シアン化第二金カリウムからなる群より選ばれた金
化合物が金含有量で0.2g/L 〜10g/L 含ま
れ、酸性フッ化アンモニウム、フッ化ナトリウム、フッ
化水素酸などのフッ化物が、フッ素含有量で0.5g/
L 〜150g/L含まれることを特徴とする金ストラ
イクメッキ液。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6270191A JPH04276093A (ja) | 1991-03-04 | 1991-03-04 | 金ストライクメッキ液 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6270191A JPH04276093A (ja) | 1991-03-04 | 1991-03-04 | 金ストライクメッキ液 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04276093A true JPH04276093A (ja) | 1992-10-01 |
Family
ID=13207876
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6270191A Pending JPH04276093A (ja) | 1991-03-04 | 1991-03-04 | 金ストライクメッキ液 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04276093A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6447664B1 (en) * | 1999-01-08 | 2002-09-10 | Scimed Life Systems, Inc. | Methods for coating metallic articles |
JP2009114522A (ja) * | 2007-11-08 | 2009-05-28 | Toyota Motor Corp | 金めっき構造体の製造方法 |
JP2018119211A (ja) * | 2017-01-23 | 2018-08-02 | 日東電工株式会社 | 配線回路基板の製造方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62247095A (ja) * | 1986-04-21 | 1987-10-28 | Seiko Instr & Electronics Ltd | チタン及びチタン合金用の金めつき浴 |
-
1991
- 1991-03-04 JP JP6270191A patent/JPH04276093A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62247095A (ja) * | 1986-04-21 | 1987-10-28 | Seiko Instr & Electronics Ltd | チタン及びチタン合金用の金めつき浴 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6447664B1 (en) * | 1999-01-08 | 2002-09-10 | Scimed Life Systems, Inc. | Methods for coating metallic articles |
JP2009114522A (ja) * | 2007-11-08 | 2009-05-28 | Toyota Motor Corp | 金めっき構造体の製造方法 |
JP2018119211A (ja) * | 2017-01-23 | 2018-08-02 | 日東電工株式会社 | 配線回路基板の製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0075784B1 (en) | Process for direct gold plating of stainless steel | |
EP0041638B1 (de) | Verfahren zur Vorbehandlung von Edelstahl für eine direkte galvanische Vergoldung | |
JP2835287B2 (ja) | ニッケルチタン合金部材のめっき方法 | |
JPH04276093A (ja) | 金ストライクメッキ液 | |
JP3247517B2 (ja) | チタン材料のめっき方法 | |
JPS597359B2 (ja) | メツキ方法 | |
US2888387A (en) | Electroplating | |
US1417896A (en) | Electrodeposition of metals upon iron and alloys of iron | |
JP3074369B2 (ja) | 金合金メッキ液 | |
JPH0245710B2 (ja) | Chitanoyobichitangokinnomaeshoryoku | |
JPH1112751A (ja) | ニッケル及び/又はコバルトの無電解めっき方法 | |
JP2639846B2 (ja) | アルミニウムまたはアルミニウム合金の表面洗浄用液組成物 | |
JPH0240751B2 (ja) | ||
JP3685276B2 (ja) | パラジウム・銀合金めっき浴 | |
JPS6047913B2 (ja) | ステンレス鋼に直接金メツキを施す方法 | |
JPS6340864B2 (ja) | ||
JP3074762B2 (ja) | スズ−ニッケル合金電気めっき液組成物 | |
JP2639950B2 (ja) | 不溶性アノード用材料 | |
JP3221083B2 (ja) | アルミニウムおよびアルミニウム合金板の電気めっき方法 | |
JP2825607B2 (ja) | アルミニウム系粉末合金上へのめつき方法 | |
JPS5914100B2 (ja) | 高ニツケルクロム合金への無電解ニツケルメツキ法 | |
JP3403260B2 (ja) | 白金ストライクめっき浴及び方法ならびにめっき品 | |
JP3061544B2 (ja) | 不溶性電極 | |
JPH06228788A (ja) | 貴金属めっきの製造方法 | |
JPH02138493A (ja) | めっき密着性及び耐食性にすぐれたNi,Co,及びNi−Co合金めっきCr含有鋼板の製造法 |