JPH04276093A - 金ストライクメッキ液 - Google Patents

金ストライクメッキ液

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JPH04276093A
JPH04276093A JP6270191A JP6270191A JPH04276093A JP H04276093 A JPH04276093 A JP H04276093A JP 6270191 A JP6270191 A JP 6270191A JP 6270191 A JP6270191 A JP 6270191A JP H04276093 A JPH04276093 A JP H04276093A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gold
strike plating
fluoride
plating
gold strike
Prior art date
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Pending
Application number
JP6270191A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshiyuki Akaza
敏之 赤座
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BIKUTORIA KK
Original Assignee
BIKUTORIA KK
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Publication date
Application filed by BIKUTORIA KK filed Critical BIKUTORIA KK
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は簡単な前処理により、特
にニッケル−クロム系合金素材、ステンレス系合金素材
、チタン系金属素材等への密着性が良好な金ストライク
メッキ液に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来から、厚い金メッキを金属素材に対
して行う場合、通常の金属に施される前処理工程だけで
は金属素地との密着性が不十分であるために、金ストラ
イクメッキと呼ばれる処理が行われている。従来、上記
の金ストライクメッキに使用されるメッキ液として、例
えば商品名「TCL」(田中貴金属から市販されている
)や、商品名「オーロシードST」(日進化成から市販
されている)等の、フッ化物を含有しない金ストライク
メッキ液が使用されていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の金ストライクメッキ液は、前処理を行う際に金属素
地の酸化被膜を完全に除去しないと、金メッキ層の確実
な密着性を得ることができないという問題点があった。 従って、ストライクメッキの前処理工程において、酸化
被膜の除去を完全に行うことは、全体の作業性を低下さ
せ、又、前処理がすこしでも不十分であると、金メッキ
層の密着性が不十分となり、不良品の発生が多いという
不具合があった。また、上記従来のストライクメッキ液
はニッケル−クロム系合金素材、ステンレス系合金素材
、チタン系合金素材等に対して必ずしも十分な密着性を
有するものではなかった。本発明は上記従来技術の欠点
を解消するためになされたものであり、簡単な前処理工
程で、十分な金属素地と金メッキ層との密着性を与える
ことが可能な、金ストライクメッキ液を提供することを
目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者は上記従来技術
の欠点に鑑み鋭意検討した結果、金ストライクメッキ液
中に特定のフッ化物を含有せしめることで、従来の金ス
トライクメッキ液の欠点を解消することを見出し本発明
を完成するに至った。即ち本発明金ストライクメッキ液
は、塩化第二金、シアン化第二金ナトリウム、シアン化
第二金カリウムからなる群より選ばれた金化合物が金含
有量で0.2g/L 〜10g/L 含まれ、酸性フッ
化アンモニウム、フッ化ナトリウム、フッ化水素酸など
のフッ化物が、フッ素含有量で0.5g/L 〜150
g/L 含まれることを特徴とする。
【0005】金化合物は、塩化第二金、シアン化第二金
ナトリウム、シアン化第二金カリウムからなる群より選
ばれた金化合物の含有量は、金属金に換算した量で0.
2g/L〜10g/L 含まれる。上記の金化合物の量
が金に換算して0.2g/L 未満になると、金ストラ
イクメッキ工程で金が素地表面に析出しない。また金化
合物の含有量が金の量に換算して10g/L を越える
と、作業時の金のロスが多くなりコスト的な負担が多く
なる。金化合物の含有量は好ましくは、金の量に換算し
て0.5〜3.0g/L である。また金化合物の種類
は上記の群から選ばれたどの化合物でもよいが、シアン
化第二金カリウムが原料の入手しやすさの点から好まし
い。また本発明では上記の金化合物は1種だけ用いても
よいが、2種以上を混合することもできる。
【0006】上記のフッ化物はの含有量は、フッ素量に
換算して0.5g/L 未満又は150g/L を越え
る量になると、金属素地と金メッキ層との十分な密着性
を付与する効果が発揮されない。本発明は、上記のフッ
化物を特定量含有せしめることが重要な要素である。フ
ッ化物の含有量は好ましくは、1.0〜6.0g/L 
である。またフッ化物の種類は、酸性フッ化アンモニウ
ム、フッ化ナトリウム、フッ化水素酸、ケイフッ化物な
どがあり、上記の群から選ばれたどの化合物でもよいが
、酸性フッ化アンモニウムが薬品の安全性の理由で好ま
しい。また本発明では上記のフッ化物は1種又は2種以
上用いることができる。
【0007】本発明金ストライクメッキ液は上記の金化
合物及びフッ化物のみでもよいが、更に他の化合物を添
加することもできる。例えば、必要に応じ金属ニッケル
又は金属コバルトを0.1〜5g/L 程度添加したり
、有機酸塩を5〜60g/L 程度添加することができ
る。本発明金ストライクメッキ液のpHは10.0以下
に調整され、好ましくは1.0〜5.5である。
【0008】本発明ストライクメッキ液を用いた場合の
処理工程は、従来公知の方法と同様に行うことができる
。金ストライクメッキの処理方法は例えば、電圧2〜1
5ボルト、電流密度0.5 〜10A/dm2 、時間
10秒〜5分程度である。また金メッキ処理方法として
は、前処理、金ストライクめっき、厚い金メッキの順に
処理を行うが、前処理工程は、銅等に用いる一般的な前
処理でよい。上記の前処理方法は例えば、アルカリ脱脂
、電解脱脂、酸浸漬、陰極電解脱脂等の順に処理すれば
よい。
【0009】
【実施例】次に具体的実施例を挙げて本発明を更に詳細
に説明するが、本発明はこれらによって制限されるもの
ではない。 実施例1 長さ10cm×幅15cm×厚み0.1mmのチタン合
金素材(Ti/Ni=50/50重量%)からなる板を
アルカリ脱脂(マクダミッド社:WSP)、電解脱脂(
マクダミッド社:DEW)、酸浸漬(5%硫酸)の順に
、一般の銅合金の処理と同様に前処理を行った後、下記
の組成の本発明金ストライクメッキ液を用いたメッキ浴
を用い2分間陰極電解し、該メッキ浴の温度を40°C
とし、電圧3V、電流密度2A/dm2 で金ストライ
クメッキを施した後、Au−Pd系合金メッキ浴により
3μm厚さにメッキを施した。得られたメッキ層は18
0度折り曲げ試験を行ったところ良好な密着性が得られ
た。 ・金ストライクメッキ液組成       シアン化第二金カリウム(金換算量として
)        1  g/L      しゅう酸
                         
             30  g/L     
 酸性フッ化アンモニウム             
           60  g/L      し
ゅう酸ニッケル                  
              1  g/L     
 pH                      
                      2.5
  比較例1 実施例1の金ストライクメッキ液をフッ化物を含有しな
い金ストライクメッキ液、TCL(田中貴金属から市販
されている商品名)を用いた以外は、実施例1と全く同
じ材質の素材、前処理、Au−Pd系合金メッキを行っ
た。得られたメッキ層は下地との密着性が不良であった
。 比較例2 実施例1の金ストライクメッキ液をフッ化物を含有しな
い金ストライクメッキ液、オーロシードST(日進化成
から市販されている商品名)を用いた以外は実施例1と
全く同じ材質の素材、前処理、Au−Pd系合金メッキ
を行った。得られたメッキ層は下地との密着性が不良で
あった。 実施例2 実施例1の素材をSUS304に代えた以外は実施例1
と全く同じ前処理、金ストライクメッキ、Au−Pd系
合金メッキを施した。得られたメッキ層は180度折り
曲げ試験を行ったところ良好な密着性が得られた。 比較例3 実施例2の金ストライクメッキ液を従来の金ストライク
メッキ液(フッ化物を含有しない、TLC、オーロシー
ドST)に代えた以外は実施例2と全く同じ材質の素材
、前処理、Au−Pd系合金メッキを行った。得られた
メッキ層は下地との密着性が不良であった。 実施例3 実施例1の素材を2種純チタン材を使用し、金ストライ
クメッキ液を下記の組成のものを使用し下記の条件に代
えた以外は実施例1と同様同じ前処理行いAu−Pd系
合金メッキを施した。得られたメッキ層は180度折り
曲げ試験を行ったところ良好な密着性が得られた。 ・金ストライクメッキ液組成       シアン化第二金ナトリウム(金換算量とし
て)        1  g/L      塩酸 
                         
                  50  cc/
L      フッ化ナトリウム          
                        0
.5g/L      pH            
                         
         2.5・金ストライクメッキの条件       温度                 
                         
  30  °C      電流密度       
                         
          5  A/dm2       
電解時間                     
                     2  分
比較例4 実施例2の金ストライクメッキ液をフッ化物を含有しな
い、TLC、オーロシードSTに代えた以外は実施例2
と全く同じ材質の素材、前処理、Au−Pd系合金メッ
キを行った。得られたAu−Pd系合金メッキ層の密着
性は不良であった。
【0010】
【発明の効果】以上説明したように、本発明金ストライ
クメッキ液は特定の金化合物を特定の金属金の特定量含
有し、且つ、特定のフッ化物を、特定量含有する組成を
有していることより、従来の金ストライクメッキ液に対
して、本発明金ストライクメッキ液を使用してストライ
クメッキを施した後に金又は金合金系メッキを施すこと
により、金メッキ層と金属下地との間の密着性が優れた
メッキを行うことができる。又、前処理の条件が多少不
十分でも、本発明金ストライクメッキ液を使用して金ス
トライクメッキを行うことよにより、優れた密着性が得
られるために、前処理に厳密な条件が不要であり、メッ
キ作業の作業性が非常に向上する等の効果を有する。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  塩化第二金、シアン化第二金ナトリウ
    ム、シアン化第二金カリウムからなる群より選ばれた金
    化合物が金含有量で0.2g/L 〜10g/L 含ま
    れ、酸性フッ化アンモニウム、フッ化ナトリウム、フッ
    化水素酸などのフッ化物が、フッ素含有量で0.5g/
    L 〜150g/L含まれることを特徴とする金ストラ
    イクメッキ液。
JP6270191A 1991-03-04 1991-03-04 金ストライクメッキ液 Pending JPH04276093A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6447664B1 (en) * 1999-01-08 2002-09-10 Scimed Life Systems, Inc. Methods for coating metallic articles
JP2009114522A (ja) * 2007-11-08 2009-05-28 Toyota Motor Corp 金めっき構造体の製造方法
JP2018119211A (ja) * 2017-01-23 2018-08-02 日東電工株式会社 配線回路基板の製造方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62247095A (ja) * 1986-04-21 1987-10-28 Seiko Instr & Electronics Ltd チタン及びチタン合金用の金めつき浴

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