JPS597359B2 - メツキ方法 - Google Patents
メツキ方法Info
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- JPS597359B2 JPS597359B2 JP16037277A JP16037277A JPS597359B2 JP S597359 B2 JPS597359 B2 JP S597359B2 JP 16037277 A JP16037277 A JP 16037277A JP 16037277 A JP16037277 A JP 16037277A JP S597359 B2 JPS597359 B2 JP S597359B2
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Links
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Landscapes
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はステンレススチールに直接貴金属メッキを施す
方法に関するものであり、特に酸性溶液中で電解還元活
性化せしめ表面電位を不動態化せしめぬように保ちなが
ら酸性浴からメッキすることを特徴とするものである。
方法に関するものであり、特に酸性溶液中で電解還元活
性化せしめ表面電位を不動態化せしめぬように保ちなが
ら酸性浴からメッキすることを特徴とするものである。
本発明の目的はステンレススチールに密着よく又耐食性
良く貴金属メッキを直接施すことにある。
良く貴金属メッキを直接施すことにある。
従来からステンレススチールヘのメッキ方法としてはハ
ロゲン化浴を用いハロゲンにより活性化を行ないながら
同時にCu、Ni等を電着させ、次に貴金属メッキが施
されていたがメッキのピンホール、傷、貴金属の摩耗さ
らには活性化中に特異吸着したハロゲンによる腐食等に
よつて腐食環境において密着性、耐食性に多くの問題が
残されていた。本発明にあげた電解水素還元による活性
化を用いればハロゲンの残留、耐食性の良くないCu、
Ni、等が存在しないので例え貴金属が摩耗されても耐
食性の良好なステンレススチールが表われるので耐食性
が著しく向上する。
ロゲン化浴を用いハロゲンにより活性化を行ないながら
同時にCu、Ni等を電着させ、次に貴金属メッキが施
されていたがメッキのピンホール、傷、貴金属の摩耗さ
らには活性化中に特異吸着したハロゲンによる腐食等に
よつて腐食環境において密着性、耐食性に多くの問題が
残されていた。本発明にあげた電解水素還元による活性
化を用いればハロゲンの残留、耐食性の良くないCu、
Ni、等が存在しないので例え貴金属が摩耗されても耐
食性の良好なステンレススチールが表われるので耐食性
が著しく向上する。
本発明はメッキ板を汚染させないことを目的としたもの
である。
である。
さらにPH管理等により活性化液のメッキ液へのくみ込
みによる汚染が極力ないようにしなければならない。本
発明をフローチャートで示すなら次のようになる。
みによる汚染が極力ないようにしなければならない。本
発明をフローチャートで示すなら次のようになる。
1〔デイプソール洗浄〕→2〔水洗〕→3〔5%硫酸中
和〕→4〔水洗〕→5〔電解脱指〕→6〔水洗〕→7〔
5%硫酸中和〕→8〔水洗〕→9〔脱イオン水水洗〕→
[相]〔電解水素による活性化〕→@〔貴金属メッキ〕
1〜9は従来のメッキ工程と全く同じである。
和〕→4〔水洗〕→5〔電解脱指〕→6〔水洗〕→7〔
5%硫酸中和〕→8〔水洗〕→9〔脱イオン水水洗〕→
[相]〔電解水素による活性化〕→@〔貴金属メッキ〕
1〜9は従来のメッキ工程と全く同じである。
[相]に示した電解水素による活性化浴はステンレスス
チールの場合PH7以下が望ましくPHが低ければ低い
ほど望ましい。さらに@の工程の貴金属メツキヘの移行
にあたつては電界を印加したまま活性化浴から引き上げ
を行なうのが望ましい。さらにこの活性化浴は水素活性
化と同時に発生する酸素ガスの混入を防ぐための活性化
コンパートメントと対極間にセパレーターを入れるのが
望ましい。この場合活性化コンパートメントはアルカリ
性を帯びやすいのでPHが3.5を越えるような場合は
INH2S04でPH管理を十分配慮する必要がある。
◎の貴金属メッキは活性化浴との関係からまたステンレ
スのPH−ポテンシャルダイヤグラムからしても酸性浴
が望ましい。
チールの場合PH7以下が望ましくPHが低ければ低い
ほど望ましい。さらに@の工程の貴金属メツキヘの移行
にあたつては電界を印加したまま活性化浴から引き上げ
を行なうのが望ましい。さらにこの活性化浴は水素活性
化と同時に発生する酸素ガスの混入を防ぐための活性化
コンパートメントと対極間にセパレーターを入れるのが
望ましい。この場合活性化コンパートメントはアルカリ
性を帯びやすいのでPHが3.5を越えるような場合は
INH2S04でPH管理を十分配慮する必要がある。
◎の貴金属メッキは活性化浴との関係からまたステンレ
スのPH−ポテンシャルダイヤグラムからしても酸性浴
が望ましい。
さらに望ましくはPH3、5以下の浴を用いると良い。
貴金属メツキをするに当つては電界を印加したまま浸漬
するのが望ましい。
貴金属メツキをするに当つては電界を印加したまま浸漬
するのが望ましい。
[相]から5の工程への移行はすみやかに行なうのが望
ましい。さらに望ましくは1分以内である。飽和水素に
よる電位をなるべく低く保つたままメツキを行なうため
である。以下実施例に従つて説明する。実施例 1 304ステンレススチールから成る腕時計用ケースを従
来のメツキ前処理工程(1〜9)で表面をクリーンにし
た。
ましい。さらに望ましくは1分以内である。飽和水素に
よる電位をなるべく低く保つたままメツキを行なうため
である。以下実施例に従つて説明する。実施例 1 304ステンレススチールから成る腕時計用ケースを従
来のメツキ前処理工程(1〜9)で表面をクリーンにし
た。
[相]の活性化浴としてクエン酸200r/1,.KC
N5y/1..PH−3.5(KOHにより調整)から
成る浴中でケースを負極と対極にカーボン板を用いてD
K=5A/Dm”、1分間水素還元した。1分後電界を
印加したまま活性浴から引き上げすばやくPH=3.5
からなるクエン酸金メツキ浴に溶解を印加したまま浸漬
し1A/dイで6分間1μの厚に24KAuフラッシユ
メツキした。
N5y/1..PH−3.5(KOHにより調整)から
成る浴中でケースを負極と対極にカーボン板を用いてD
K=5A/Dm”、1分間水素還元した。1分後電界を
印加したまま活性浴から引き上げすばやくPH=3.5
からなるクエン酸金メツキ浴に溶解を印加したまま浸漬
し1A/dイで6分間1μの厚に24KAuフラッシユ
メツキした。
その後従米の金メツキ方法でAu−Ag合金メツキを5
μ厚付けして金メツキケースとした。このケースはBr
assに金メツキされた製品に比較して著しく耐食性が
勝つていた。1NNac1中で50℃1週間以上も何の
サビ、変色も起らなかつた。
μ厚付けして金メツキケースとした。このケースはBr
assに金メツキされた製品に比較して著しく耐食性が
勝つていた。1NNac1中で50℃1週間以上も何の
サビ、変色も起らなかつた。
又折り曲げ試験、200℃温度シヨツク試験、30%H
NO3浸漬によつても何の密着不良も観察されなかつた
。実施例 2 304ステンレススチールから成る腕時計バンドを従来
のメツキ前処哩行程(1〜9)で表面をクリーンにした
。
NO3浸漬によつても何の密着不良も観察されなかつた
。実施例 2 304ステンレススチールから成る腕時計バンドを従来
のメツキ前処哩行程(1〜9)で表面をクリーンにした
。
Oの活性化浴としてH2SO4水溶液(KOHでPH−
1.0に調整した)でバンドを負極として対極にカーポ
ン板を用いてDK−5A/dイで1分間水素還元した。
1分後電界を印加したまま活性浴から引き上げすばやく
PH一1.0から成るRhメツキ浴(硫酸浴)に電界を
印加したまま浸漬しDK−1A/DrrIl5分間3μ
厚にRhメッキした。
1.0に調整した)でバンドを負極として対極にカーポ
ン板を用いてDK−5A/dイで1分間水素還元した。
1分後電界を印加したまま活性浴から引き上げすばやく
PH一1.0から成るRhメツキ浴(硫酸浴)に電界を
印加したまま浸漬しDK−1A/DrrIl5分間3μ
厚にRhメッキした。
このバンドは従来のNiCr合金にPd+Rhメツキさ
れた製品に比較して耐食性、耐摩耗性が優れていた。1
NNac1中で50℃1週間以上も何のサビ、変色も起
らなかつた。
れた製品に比較して耐食性、耐摩耗性が優れていた。1
NNac1中で50℃1週間以上も何のサビ、変色も起
らなかつた。
又折り曲げ試験、200℃温度シヨツク試験、30%H
NO3浸漬試験においても何の密着不良も起らなかつた
。以上本発明はステンレスに貴金属メツキを施す方法に
関するものでありその貴金属成分等を規制するものでは
ない。
NO3浸漬試験においても何の密着不良も起らなかつた
。以上本発明はステンレスに貴金属メツキを施す方法に
関するものでありその貴金属成分等を規制するものでは
ない。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ステンレススチールから成る物品を、Au又はAu
合金、Rh、Pd、Ptのメッキ液から金属電着成分を
除いたPH7以下の酸性の活性化液中で陰極として電解
還元活性化せしめた後、直ちに前述したメッキ液にて前
述の貴金属メッキを行なうことを特徴とするメッキ方法
。 2 活性化液がハロゲンイオンを含まないことを特徴と
する特許請求の範囲第1項記載のメッキ方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16037277A JPS597359B2 (ja) | 1977-12-30 | 1977-12-30 | メツキ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16037277A JPS597359B2 (ja) | 1977-12-30 | 1977-12-30 | メツキ方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5493639A JPS5493639A (en) | 1979-07-24 |
| JPS597359B2 true JPS597359B2 (ja) | 1984-02-17 |
Family
ID=15713535
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16037277A Expired JPS597359B2 (ja) | 1977-12-30 | 1977-12-30 | メツキ方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS597359B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59141324U (ja) * | 1983-03-11 | 1984-09-21 | 株式会社三工光学 | 眼鏡の蝶番のねじ機構 |
| JPS59191359A (ja) * | 1983-04-15 | 1984-10-30 | Masami Kobayashi | Ic用リ−ドフレ−ム |
| JPS59219945A (ja) * | 1983-05-28 | 1984-12-11 | Masami Kobayashi | Ic用リ−ドフレ−ム |
| JPS607157A (ja) * | 1983-06-25 | 1985-01-14 | Masami Kobayashi | Ic用リ−ドフレ−ム |
| CA2729418C (en) * | 2002-08-20 | 2014-08-19 | Daido Tokushuko Kabushiki Kaisha | Polymer electrolyte fuel cell material and method of manufacturing the same, metal component for fuel cell, and fuel cell |
| JP5234711B2 (ja) * | 2004-09-10 | 2013-07-10 | 株式会社Neomaxマテリアル | 燃料電池用セパレータおよびその製造方法 |
| JP5168998B2 (ja) * | 2007-04-16 | 2013-03-27 | 住友金属鉱山株式会社 | 半導体装置用基板及びその製造方法 |
-
1977
- 1977-12-30 JP JP16037277A patent/JPS597359B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5493639A (en) | 1979-07-24 |
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