JPH04265121A - 気体状仕込原料中のヒ素除去方法 - Google Patents

気体状仕込原料中のヒ素除去方法

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JPH04265121A
JPH04265121A JP3284855A JP28485591A JPH04265121A JP H04265121 A JPH04265121 A JP H04265121A JP 3284855 A JP3284855 A JP 3284855A JP 28485591 A JP28485591 A JP 28485591A JP H04265121 A JPH04265121 A JP H04265121A
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gaseous material
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シャルル カメロン
Philippe Courty
フィリップ クルチ
Jean-Paul Boitiaux
ジャン ポール ボワチオ
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    • C10G25/00Refining of hydrocarbon oils in the absence of hydrogen, with solid sorbents
    • C10G25/003Specific sorbent material, not covered by C10G25/02 or C10G25/03
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    • B01DSEPARATION
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    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10LFUELS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; NATURAL GAS; SYNTHETIC NATURAL GAS OBTAINED BY PROCESSES NOT COVERED BY SUBCLASSES C10G, C10K; LIQUEFIED PETROLEUM GAS; ADDING MATERIALS TO FUELS OR FIRES TO REDUCE SMOKE OR UNDESIRABLE DEPOSITS OR TO FACILITATE SOOT REMOVAL; FIRELIGHTERS
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    • C10L3/06Natural gas; Synthetic natural gas obtained by processes not covered by C10G, C10K3/02 or C10K3/04
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、気体状材料中のヒ素を
、水銀と混在するか否かにかかわらず除去する方法に係
る。本発明方法の特徴は、担体と硫化銅化合物とを含有
する捕獲剤を使用することである。本発明による方法は
、天然ガス及び気相コンデンセートの処理に有利に使用
される。
【0002】
【従来の技術】天然ガスおよび対応するそのコンデンセ
ートがヒ素および水銀のごとき金属の種々の化合物を微
量成分の状態で含有すること、および、これらの微量成
分が概して、元素の形態(例えばHg)、水素化物の形
態(例えばAsH3 )または有機金属化合物の形態(
例えばAsR3 およびHgR’ 2 [式中、3つの
R基の少なくとも1つが炭化水素官能基、2つのR’ 
基の少なくとも1つが炭化水素官能基であり、Rおよび
/またはR’ が水素原子でもよい]で存在することは
公知である。 これらの2種の金属の化合物を除去することが重要な理
由は、(1)かかる金属化合物で汚染され易い捕獲装置
の下流で触媒を十分に作用させるため、および、(2)
水銀の存在に敏感な熱交換器を十分に機能させるためで
ある。
【0003】気相および液相の水銀を除去するために使
用される公知の捕獲剤、即ち、担体に支持された硫化銅
を含む捕獲剤は、気相のヒ素除去にも極めて有効である
ことが知見された。
【0004】炭化水素含有流体からヒ素を除去するため
に、鉄、コバルト、ニッケル、鉛、銅およびモリブデン
の酸化物、並びに、鉄、コバルトおよびニッケルの硫化
物が多少とも有効であることは公知である(例えば、本
出願人の米国特許第4,003,829号、第4,60
1,998号および米国特許第4,849,577号参
照)。
【0005】硫酸塩、塩化物、臭化物、フッ化物、ヨウ
化物、硝酸塩、酢酸塩およびギ酸塩のごとき銅塩が、液
状石油留分のごとき液体中のヒ素を捕獲する特性を有す
ることも、例えば米国特許第2,781,297号から
公知である。処理条件としては、圧力0.35〜70バ
ール(0.35×105 〜70×105 Pa)およ
び温度20℃〜260℃を用い、0.1〜20重量%、
好ましくは1〜10%の銅を含有する捕獲剤を用いる。
【0006】また、国際特許出願WO90/10684
も、液状石油留分中のヒ素および水銀を除去する方法を
記載している。該方法は、第1段階で、処理すべき留分
と触媒特性を有する第1のヒ素捕獲剤とを接触させ、次
いで、該留分を硫化銅を基剤とする第2捕獲剤に通す。
【0007】第1捕獲剤はヒ素の大部分を捕獲し、残り
のヒ素化合物を活性化する。第2捕獲剤は第1段階で活
性化されたヒ素および水銀を捕獲する。
【0008】
【発明の構成】本発明は、特に、天然ガスおよび/また
は気相天然ガスコンデンセートから成る気体状材料中の
ヒ素を除去する方法に係る。本発明の方法では、担体と
少なくとも1種類の硫化銅化合物とから成る固体状捕獲
剤に流動材料を接触させる。
【0009】本発明で使用される少なくとも硫化銅と無
機担体とを含有する捕獲剤は、当業者に公知の任意の合
成方法で調製できる。例えば、本出願人の米国特許第4
,094,777号および米国特許第4,902,66
2号に記載された捕獲剤の製造方法を使用し得る。
【0010】米国特許第4,094,777号には、銅
化合物を無機担体に添加し、次いで300℃未満の温度
で硫化させる捕獲剤の製造方法が記載されている。
【0011】この特許に記載された方法を用いるときは
、気体状物質、例えば硫化水素を使用するか、または、
無機硫化物の水溶液もしくは有機溶媒溶液、例えば硫化
ナトリウム、硫化カリウムもしくは硫化アンモニウムの
水溶液を使用して硫化させる。
【0012】米国特許第4,902,662号には、銅
化合物を無機担体に添加し、次いで通常は250℃未満
の温度で硫化させる捕獲剤の製造方法が記載されている
【0013】この特許に記載の方法を用いるときは、一
般式R1 −S(n)−R2 [式中、nは2〜20の
整数、R1 は、水素原子を示すか、または、直鎖状も
しくは分枝状の飽和もしくは不飽和のアルキル基、ナフ
テン系のアルキル基、アリール基、アルキルアリール基
およびアリールアルキル基から成る群から選択された炭
素原子数1〜150の有機基を示し、R1 と同じかま
たはR1 とは異なる基を示すR2 は、R1 で定義
された有機基の群から選択された炭素原子数1〜150
の有機基を示す]で示される有機多硫化物を用いる。
【0014】別の好ましい実施態様によれば、固体状捕
獲剤の製造方法が以下の諸段階を含む:(a)硫化物以
外の少なくとも1種の銅化合物を固体状無機担体または
分散剤に添加する、(b)前記銅化合物が酸化銅でない
場合には、段階(a)で得られた生成物を仮焼し、該生
成物が含有する1種または複数の銅化合物の少なくとも
一部を酸化銅(CuOおよび/またはCu2 O)に変
換させる、(c)得られた酸化銅含有生成物を、任意に
有機溶媒に少なくとも部分溶解させた元素イオウと接触
させる、(d)段階(c)で得られた生成物を、ガス掃
去下の非酸化性雰囲気中で、存在する1種または複数の
金属の硫化物が形成でき、特に50%以上の銅が硫化銅
CuxSy[式中、xおよびyの各々は1〜10の整数
]の形態で結合できる十分な温度で十分な時間熱処理す
る。
【0015】硫化銅を含有する捕獲剤のために使用され
得る固体状無機担体または分散剤は、通常は、炭、活性
炭、コークス、シリカ、シリコンカーバイド、シリカゲ
ル、合成もしくは天然シリケート、クレー、珪藻土、酸
性白土、カオリン、ボーキサイト、または、アルミナ、
酸化チタン、ジルコン、マグネシアなどの無機耐熱酸化
物、シリカ−アルミナ、シリカ−マグネシア、シリカ−
ジルコン、アルミナ−酸化ホウ素混合物、アルミネート
、シリコ−アルミネート、または、モルデン沸石、ホー
ジャサイト、加里沸石、エリオン石、フェリエライト、
ZSM5およびZSM11ゼオライト、マジット(ma
zzite)などの合成もしくは天然の結晶質ゼオライ
ト型アルミノ−シリケート、並びに、Lafarge社
製品であるSecar(登録商標)セメントのごときセ
メントから成る群から選択される。  好ましくは、炭
、活性炭、コークスから成る群、より好ましくはシリカ
、アルミナ、シリカ−アルミナ、シリケート、アルミネ
ートおよびシリコ−アルミネート(例えばゼオライト型
)から成る群から担体を選択する。最も好ましい担体は
アルミナである。
【0016】縮合可能な炭化水素(例えばC4 以上の
炭化水素)含有材料をヒ素捕獲剤で処理する場合、ヒ素
捕獲剤の温度が、捕獲作用を発揮し得る温度範囲内であ
るときには、平均孔径100オングストローム(10−
8m)以上を有する物質が優れた安定性を有することが
判明した。
【0017】平均孔径100オングストローム(10−
8m)以上を有する物質(または該物質の製造に使用さ
れる担体)が得られる条件は当業者によく知られている
ので、ここでは繰返し説明しない(例えば米国特許第4
,094,777号を参照するとよい)。
【0018】好ましい担体は一般には比表面積約20〜
300m2 ×g−1を有するが、これらの値に限定は
されない。
【0019】硫化物以外の銅化合物を固体状無機担体ま
たは分散剤に添加するために、当業者に公知の任意の方
法を使用し得る。例えば銅化合物を混合してもよく、ま
たは銅化合物の溶液を含浸させてもよい。常用の銅化合
物は、比較的低温で容易に酸化銅に変換し得る。
【0020】銅化合物の非限定例として、酸化銅;水酸
化銅Cu(OH)2;塩基性銅塩、特に式CuCO3 
・Cu(OH)2 、2CuCO3 ・Cu(OH)2
 で示される炭酸塩;銅の有機塩および錯体、例えば、
ギ酸塩、酢酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩、安息香酸塩、
シュウ酸塩、マロン酸塩、コハク酸塩、グリコール酸塩
、乳酸塩およびアセチルアセトン酸塩などのカルボン酸
塩および硝酸銅がある。
【0021】通常は、銅化合物の水溶液または有機溶媒
溶液、好ましくは銅化合物の水溶液を担体に含浸させる
ことによって銅化合物を導入する。硝酸銅水溶液の使用
が有利である。
【0022】任意に、少量の可溶性銀化合物を担体に導
入してもよい。担体に導入される銀の量は、担体に対す
る銀の重量に換算して通常は0〜5重量%である。任意
に、その他の金属、例えば鉄が存在してもよい。
【0023】担体に担持される硫化銅の量は、(銅の重
量に換算して)2〜65重量%、好ましくは5〜80重
量%、特に6〜40重量%である。
【0024】上記のごとく得られた捕獲剤が、ヒ素を含
有する気体状材料を精製するために本発明方法で使用さ
れ得る。ヒ素の大部分はアルシンAsH3の形態で存在
するが、ヒ素の有機金属化合物が存在する場合もある。
【0025】捕獲剤が有効に作用する温度範囲は、通常
は約−50℃〜+200℃である。ヒ素の捕獲および任
意に存在する水銀の捕獲は、常圧または常圧前後の圧力
で行なう。総圧力は例えば10MPaに達する。これら
の条件では、処理すべき材料が気体状である。気体状材
料のV.V.H.(材料容量/捕獲剤容量/時)は一般
には約500〜50,000h−1であるが、好ましく
は約2,000〜20,000h−1のV.V.H.で
処理し、更に好ましくは約4,000〜15,000h
−1で処理する。
【0026】本発明によって捕獲剤で処理される気体状
流体は、1m3 あたり例えば1ng〜0.3gのヒ素
と10ng〜2g以上の水銀とを含有する。処理される
気体は多くの場合、炭化水素であるか、または、多量の
メタンと少量のC2 以上の炭化水素とヒ素および水銀
とを含有する天然ガスのような炭化水素混合物である。
【0027】このようにして、天然ガスおよび/または
気相天然ガスコンデンセートを処理し得る。
【0028】天然ガスは多量のメタンを含有するが、エ
タンおよびプロパンも含有する。天然ガスに結合したC
4 (ブテン)およびC5 以上(ペンテン、ヘキサン
など)の留分は一般に「天然ガスコンデンセート」と呼
ばれている。ブタンよりも高級な化合物は常温常圧で液
体である。
【0029】処理条件は、気体状留分および任意に液体
状留分が得られるように前述のPおよびTの値の範囲内
で正確に選択する。気体状留分だけを本発明で処理し得
る。
【0030】また、処理されるガスはしばしば、CO2
 、水、H2 Sなどの別の気体状物質を種々の量で含
有している。
【0031】処理されるガスはまた、水素、またはヒ素
が存在するのでその他のガス(例えば電子素子を製造す
るときに使用されるガス)でもよい。また、ガスとの接
触が吸収剤の酸化または余剰吸収剤の一部の酸化を生じ
させないような温度および/または圧力条件で処理でき
るならば、処理されるガスは空気でもよい。また、上記
の複数の化合物またはガスを含有する混合物の処理も可
能である。
【0032】気体状流体の精製に現在使用されている当
業者に公知のすべての装置を使用し得る。捕獲剤を固定
床の形態で使用し、材料を該固定床に通す。
【0033】ヒ素除去装置は例えば、1つの反応器また
は並列な2つ以上の反応器から構成されてもよいが、好
ましくは直列の2つ以上の反応器を使用する。
【0034】直列の3つの反応器A,B,Cを使用する
と想定した場合は、以下のごとく処理するのが好ましい
。第1反応器Aの捕獲効率が初期効率の例えば90%ま
たは70%に低下すると、反応器Aに収容された捕獲剤
を再生または交換する。この再生または交換段階の所要
時間中は流体を反応器BおよびCに通す。反応器Aの再
生または交換の終了後に流体を反応器BおよびCに通し
次いで反応器Aに通す。反応器Bの効率が初期効率の例
えば90%または70%に低下すると、反応器Bを再生
または交換する。この期間中は流体を反応器CおよびA
に通す。反応器Bの再生または交換の終了後には、流体
を反応器C、AおよびBに順次通す。次に反応器Cの再
生または交換を行なう。以後同様に繰り返す。
【0035】本発明を実施例に基づいて非限定的に以下
に説明する。
【0036】
【実施例】オートクレーブで処理した比表面積170m
2 ×g−1および気孔率1.2cm3 ×g−1のア
ルミナビーズ1kgに、370gの硝酸銅3水和物Cu
(NO3 )2・3H2 Oを含む水溶液1.2Lを含
浸させる。
【0037】上記のごとく含浸させたアルミナビーズを
、空気流下にV.V.H.5,000h−1で400℃
で7時間乾燥し仮焼する。このようにして以後の実験に
用いる所謂ベースビーズを得る。顆粒触媒製造装置で、
得られたビーズに、水0.52Lと20重量%硫化アン
モニウム水溶液0.48Lとから成る1Lの溶液を含浸
させる。200℃のオーブンで窒素流(V.V.H.5
,000h−1)下に10時間乾燥して余剰のイオウを
除去する。
【0038】得られた物質Aは総重量に対して15重量
%の硫化銅を含有している。X線回析分析によれば、全
部の銅が硫化銅の形態である。化学分析の結果、Cu/
Sの原子比が1.0に等しい。
【0039】得られたヒ素捕獲剤を以下の条件で試験し
た。試験装置としては、ヒ素が固定されないように不活
性化された金属から成る管状反応器である。この反応器
に100mlの被検捕獲剤を導入し、ヒ素含有天然ガス
流を圧力35バール(3.5MPa)および温度60℃
で通す。捕獲剤の層を各12gの5つのゾーンに分割す
る。「ゾーン1」と呼ばれるゾーンはヒ素含有材料が最
初に接触するゾーンである。
【0040】精製すべき天然ガスの容量組成は、CH4
 を84%、分子中の炭素原子数5以上の炭化水素を0
.6%含有し、残りは、N2 、CO2 、C2 H4
 、C3 H8およびC4 H10の混合物から成る。 反応器の入口のガス中のヒ素の量は1.607×10−
4g/時である。
【0041】材料中のヒ素の量(既知量)と試験後の捕
獲剤中で蛍光X線測定によって検出されたヒ素の総量と
の差から精製後のガス中の残留ヒ素の量を算定する。
【0042】捕獲剤の効率を次の式で定義する。
【0043】E%=100 −(導入材料中のヒ素の重
量−捕獲剤中のヒ素の重量) ÷導入材料中のヒ素の重量×100  試験の結果は、本発明の方法によって得られた物質が優
れたヒ素捕獲効率を有することを示す。
【0044】ゾーン1(ppm  As)  9651
ゾーン2(ppm  As)  3666ゾーン3(p
pm  As)  35(検出限界)ゾーン4(ppm
  As)  <30ゾーン5(ppm  As)  
<30合計    (ppm  As)  13.35
2合計    (g  As)      0.160
2試験時間(h)            1,000
導入As総量      (g)  0.1607E%
                      >99
.7
【0045】
【発明の効果】本発明によれば、気体状材料中のヒ素を
、水銀と混在するか否かにかかわらず除去する有効な方
法が提供される。本発明方法の特徴は、担体と硫化銅化
合物とを含有する捕獲剤を使用することである。本発明
による方法は、天然ガス及び気相コンデンセートの処理
に有利に使用される。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】担体と少なくとも1種類の硫化銅化合物と
    から成る固体状捕獲剤に流動材料を接触させることを特
    徴とする気体状材料中のヒ素除去方法。
  2. 【請求項2】気体状材料が同時に水銀を含有することを
    特徴とする請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】約−50℃〜+200℃の温度で、気体状
    材料をV.V.H.(材料容量/捕獲剤容量/時)50
    0〜50,000h−1の流量で処理することを特徴と
    する請求項1または2に記載の方法。
  4. 【請求項4】担体に対する硫化銅の含量が、(銅の重量
    に換算して)2〜65重量%であることを特徴とする請
    求項3に記載の方法。
  5. 【請求項5】固定床で処理することを特徴とする請求項
    1から4のいずれか一項に記載の方法。
  6. 【請求項6】気体状材料が天然ガス、気相天然ガスコン
    デンセートまたは双方の混合物であることを特徴とする
    請求項1から5のいずれか1項に記載の方法。
  7. 【請求項7】前記気体状材料が、処理すべきガス1m3
     あたり10−9〜0.3gのヒ素を含有することを特
    徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載の方法。
JP3284855A 1990-10-30 1991-10-30 気体状仕込原料中のヒ素除去方法 Pending JPH04265121A (ja)

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FR9013598A FR2668385B1 (fr) 1990-10-30 1990-10-30 Procede d'elimination d'arsenic dans un gaz par passage sur une masse a base d'un support de sulfure de cuivre.

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