JPH04261405A - 光重合開始剤 - Google Patents
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Landscapes
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、少なくとも1種のエ
チレン性不飽和の重合しうる単量体またはオリゴマーを
近赤外光で重合を開始させうる重合開始剤に関する。
チレン性不飽和の重合しうる単量体またはオリゴマーを
近赤外光で重合を開始させうる重合開始剤に関する。
【0002】
【従来の技術】光重合は、写真、スクリーン印刷、枚葉
印刷、平版印刷、凸版印刷、金属表面加工、インキ、プ
リント基盤作成用、レジストまたはフォトマスク、白黒
またはカラーの転写発色用シートもしくは発色シート作
成などの多方面の用途にわたり使用されている。また、
歯科技術の領域においても光重合性組成物が使用されて
いる。
印刷、平版印刷、凸版印刷、金属表面加工、インキ、プ
リント基盤作成用、レジストまたはフォトマスク、白黒
またはカラーの転写発色用シートもしくは発色シート作
成などの多方面の用途にわたり使用されている。また、
歯科技術の領域においても光重合性組成物が使用されて
いる。
【0003】また、これらの用途においては、急速硬化
による生産性の向上を目的として、重合開始剤の開発が
盛んに進められている(例えば、特開昭2−22370
及び特開昭62−143044)、特開昭2−2237
0号明細書にはポリ(メタ)アクリル酸エステルと紫外
光重合開始剤を含むことを特徴とした紫外光硬化型イン
キ組成物を開示しており、また特開昭62−14304
4号明細書には1価陽イオン染料−ホウ素陰イオン錯体
を光重合開始剤とし、エチレン性不飽和化合物とともに
マイクロカプセル中に内包させ可視光照射により硬化で
きる光硬化性組成物を開示している。
による生産性の向上を目的として、重合開始剤の開発が
盛んに進められている(例えば、特開昭2−22370
及び特開昭62−143044)、特開昭2−2237
0号明細書にはポリ(メタ)アクリル酸エステルと紫外
光重合開始剤を含むことを特徴とした紫外光硬化型イン
キ組成物を開示しており、また特開昭62−14304
4号明細書には1価陽イオン染料−ホウ素陰イオン錯体
を光重合開始剤とし、エチレン性不飽和化合物とともに
マイクロカプセル中に内包させ可視光照射により硬化で
きる光硬化性組成物を開示している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】光重合は光重合開始剤
と重合性モノマーとからなる組成物を光で照射すること
により、急速硬化するものであるが、その特徴を活かし
て使用量が増大するにつれて、生産性の向上が益々要求
されており、より硬化速度が速く硬化物の硬度の優れた
光重合開始剤が望まれている。本発明は、透過性に優れ
ている近赤外光によって重合開始する光重合開始剤を提
供することを目的とする。
と重合性モノマーとからなる組成物を光で照射すること
により、急速硬化するものであるが、その特徴を活かし
て使用量が増大するにつれて、生産性の向上が益々要求
されており、より硬化速度が速く硬化物の硬度の優れた
光重合開始剤が望まれている。本発明は、透過性に優れ
ている近赤外光によって重合開始する光重合開始剤を提
供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明では、この課題を
解決するために特定のホウ素陰イオンをもつ金属錯体を
鋭意検討した結果、近赤外光に感度をもつ光重合開始剤
が得られることを見いだすに至った。すなわち、本発明
によれば近赤外光に吸収をもつ一般式(1)で表わされ
るホウ素陰イオンをもつ金属錯体からなる光重合開始剤
が得られ、この光重合開始剤は700nm以上の近赤外
領域の光で重合を開始しうる。一般式(1);
解決するために特定のホウ素陰イオンをもつ金属錯体を
鋭意検討した結果、近赤外光に感度をもつ光重合開始剤
が得られることを見いだすに至った。すなわち、本発明
によれば近赤外光に吸収をもつ一般式(1)で表わされ
るホウ素陰イオンをもつ金属錯体からなる光重合開始剤
が得られ、この光重合開始剤は700nm以上の近赤外
領域の光で重合を開始しうる。一般式(1);
【000
6】
6】
【化2】
(式中、R1 ,R2 はアルキル基または置換アルキ
ル基を表わし、Xは水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基、アルコキシ基、またはアシルアミノ基を表わし、Y
は水素原子、ハロゲン原子、またはアルキル基を表わし
、nは2または3を表わす。また、MはNiまたはCu
を表わし、R3 ,R4 ,R5 及びR6 は、それ
ぞれ独立にアルキル、アリール、アルカリール、アリル
、アラルキル、アルケニル、アルキニル、シリル、脂環
式及び飽和または不飽和複素環式基、或いは置換アルキ
ル、置換アリール、置換アルカリール、置換アリル、置
換アラルキル、置換アルケニル、置換アルキニルを示し
、R3 ,R4 ,R5 及びR6 の中の少なくとも
1個は炭素数1〜8個のアルキル基であり、R3 〜R
6 はその2個以上の基が結合している環状構造であっ
てもよい。)
ル基を表わし、Xは水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基、アルコキシ基、またはアシルアミノ基を表わし、Y
は水素原子、ハロゲン原子、またはアルキル基を表わし
、nは2または3を表わす。また、MはNiまたはCu
を表わし、R3 ,R4 ,R5 及びR6 は、それ
ぞれ独立にアルキル、アリール、アルカリール、アリル
、アラルキル、アルケニル、アルキニル、シリル、脂環
式及び飽和または不飽和複素環式基、或いは置換アルキ
ル、置換アリール、置換アルカリール、置換アリル、置
換アラルキル、置換アルケニル、置換アルキニルを示し
、R3 ,R4 ,R5 及びR6 の中の少なくとも
1個は炭素数1〜8個のアルキル基であり、R3 〜R
6 はその2個以上の基が結合している環状構造であっ
てもよい。)
【0007】本発明の光重合開始剤に用い
られるホウ素陰イオンをもつ金属錯体のR1 ,R2
においてアルキル基としては炭素数1〜5個のアルキル
基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
、ペンチル基があげられ、置換アルキル基における置換
基としてはアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基の
ようなアシルオキシ基;メトキシ基、エトキシ基、メト
キシエトキシ基のようなアルコキシ基;メトキシカルボ
ニル基、エトキシカルボニル基のようなアルコキシカル
ボニル基;水酸基;シアノ基;塩素原子、臭素原子のよ
うなハロゲン原子があげられる。
られるホウ素陰イオンをもつ金属錯体のR1 ,R2
においてアルキル基としては炭素数1〜5個のアルキル
基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
、ペンチル基があげられ、置換アルキル基における置換
基としてはアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基の
ようなアシルオキシ基;メトキシ基、エトキシ基、メト
キシエトキシ基のようなアルコキシ基;メトキシカルボ
ニル基、エトキシカルボニル基のようなアルコキシカル
ボニル基;水酸基;シアノ基;塩素原子、臭素原子のよ
うなハロゲン原子があげられる。
【0008】Xにおいて、ハロゲン原子としては塩素原
子、臭素原子があげられ、アルキル基としてはメチル基
、エチル基があげられ、アルコキシ基としてはメトキシ
基、エトキシ基があげられ、アシルアミノ基としてはア
セチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ベンゾイルア
ミノ基があげられる。Yにおけるハロゲン原子及びアル
キル基はXにおけるそれと同様である。
子、臭素原子があげられ、アルキル基としてはメチル基
、エチル基があげられ、アルコキシ基としてはメトキシ
基、エトキシ基があげられ、アシルアミノ基としてはア
セチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ベンゾイルア
ミノ基があげられる。Yにおけるハロゲン原子及びアル
キル基はXにおけるそれと同様である。
【0009】また、R3 ,R4 ,R5 及びR6
においてはそれぞれ独立にアルキル、アリール、アルカ
リール、アリル、アラルキル、アルケニル、アルキニル
、シリル、脂環式及び飽和または不飽和複素環式基、或
いは置換アルキル、置換アリール、置換アルカリール、
置換アリル、置換アラルキル、置換アルケニル、置換ア
ルキニルから選ぶことができ、R3 ,R4 ,R5
及びR6 の中の少なくとも1個は炭素原子数1〜8個
のアルキル基である。
においてはそれぞれ独立にアルキル、アリール、アルカ
リール、アリル、アラルキル、アルケニル、アルキニル
、シリル、脂環式及び飽和または不飽和複素環式基、或
いは置換アルキル、置換アリール、置換アルカリール、
置換アリル、置換アラルキル、置換アルケニル、置換ア
ルキニルから選ぶことができ、R3 ,R4 ,R5
及びR6 の中の少なくとも1個は炭素原子数1〜8個
のアルキル基である。
【0010】例えば、トリフェニルn−ブチルホウ素陰
イオン、トリアニシルn−ブチルホウ素陰イオン、テト
ラn−ブチルホウ素陰イオン、トリn−ブチル(トリフ
ェニルシリル)ホウ素陰イオン、トリn−ブチル(ジメ
チルフェニルシリル)ホウ素陰イオン、n−ブチルジフ
ェニル(トリフェニルシリル)ホウ素陰イオンなどであ
る。本発明に特に有用なホウ素陰イオンをもつ金属錯体
の例を表1に示す。
イオン、トリアニシルn−ブチルホウ素陰イオン、テト
ラn−ブチルホウ素陰イオン、トリn−ブチル(トリフ
ェニルシリル)ホウ素陰イオン、トリn−ブチル(ジメ
チルフェニルシリル)ホウ素陰イオン、n−ブチルジフ
ェニル(トリフェニルシリル)ホウ素陰イオンなどであ
る。本発明に特に有用なホウ素陰イオンをもつ金属錯体
の例を表1に示す。
【0011】
【表1】
【0012】本発明の光重合開始剤はフリーラジカル連
鎖過程で酸素を吸収しえる酸素除去剤との併用が好まし
い。酸素除去剤の例としては、フォスフィン、フォスフ
ァイト、フォスフォネート、第1錫塩及び酸素により容
易に酸化されるその他の化合物があげられ、有用な例と
しては、トリメチルバルビツール酸、2−メルカプトベ
ンゾキサゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、N
,N−ジメチル−2,6−ジイソプロピルアニリン、N
,N−2,4,6−ペンタメチルアニリンなどである。
鎖過程で酸素を吸収しえる酸素除去剤との併用が好まし
い。酸素除去剤の例としては、フォスフィン、フォスフ
ァイト、フォスフォネート、第1錫塩及び酸素により容
易に酸化されるその他の化合物があげられ、有用な例と
しては、トリメチルバルビツール酸、2−メルカプトベ
ンゾキサゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、N
,N−ジメチル−2,6−ジイソプロピルアニリン、N
,N−2,4,6−ペンタメチルアニリンなどである。
【0013】N,N−ジアルキルアニリンの例としては
、オルト、メタもしくはパラ位の1以上がアルキル基、
フェニル基、アセチル基、エトキシカルボニル基、カル
ボニル基、カルボキシレート基、シリル基、アルコキシ
基、フェノキシ基、アセチルオキシ基、ヒドロキシ基、
ハロゲン基などにて置換されたものであり、なかでも好
適な例としてはオルト位がアルキル基で置換されたもの
であり、2,6−ジイソプロピル−N,N−ジメチルア
ニリン、2,6−ジエチル−N,N−ジメチルアニリン
、N,N,2,4,6−ペンタメチルアニリン及びp−
t−ブチル−N,N−ジメチルアニリンなどがあげられ
る。
、オルト、メタもしくはパラ位の1以上がアルキル基、
フェニル基、アセチル基、エトキシカルボニル基、カル
ボニル基、カルボキシレート基、シリル基、アルコキシ
基、フェノキシ基、アセチルオキシ基、ヒドロキシ基、
ハロゲン基などにて置換されたものであり、なかでも好
適な例としてはオルト位がアルキル基で置換されたもの
であり、2,6−ジイソプロピル−N,N−ジメチルア
ニリン、2,6−ジエチル−N,N−ジメチルアニリン
、N,N,2,4,6−ペンタメチルアニリン及びp−
t−ブチル−N,N−ジメチルアニリンなどがあげられ
る。
【0014】本発明の光重合開始剤は増感剤として、4
級アンモニウムホウ素塩、4級フォスフィンホウ素塩、
N−フェニルグリシン、及び有機過酸化物を併用するこ
とにより、開始剤の感度をあげることができる。すなわ
ち、4級アンモニウムホウ素塩の例としては、テトラメ
チルアンモニウムn−ブチルトリフェニルホウ素、テト
ラメチルアンモニウムn−ブチルトリアニシルホウ素、
テトラメチルアンモニウムn−オクチルトリフェニルホ
ウ素、テトラメチルアンモニウムn−オクチルトリアニ
シルホウ素、テトラエチルアンモニウムn−ブチルトリ
フェニルホウ素、テトラエチルアンモニウムn−ブチル
トリアニシルホウ素、トリメチルハイドロゲンアンモニ
ウムn−ブチルトリフェニルホウ素、トリエチルハイド
ロゲンアンモニウムn−ブチルトリフェニルホウ素、テ
トラハイドロゲンアンモニウムn−ブチルトリフェニル
ホウ素、テトラメチルアンモニウムテトラブチルホウ素
、テトラエチルアンモニウムテトラブチルホウ素、テト
ラn−ブチルアンモニウムトリn−ブチル(トリフェニ
ルシリル)ホウ素、テトラメチルアンモニウムトリn−
ブチル(ジメチルフェニルシリル)ホウ素などがあげら
れ、4級フォスフィンホウ素塩の例としては、トリフェ
ニルメチルフォスフィンn−ブチルトリフェニルホウ素
、トリフェニルエチルフォスフィンn−ブチルトリフェ
ニルホウ素、トリフェニルメチルフォスフィンn−ブチ
ルトリアニシルホウ素、トリフェニルエチルフォスフィ
ンn−ブチルトリアニシルホウ素、テトラフェニルフォ
スフィンn−ブチルトリフェニルホウ素、テトラフェニ
ルフォスフィンn−ブチルトリアニシルホウ素、トリフ
ェニルメチルフォスフィントリn−ブチル(トリフェニ
ルシリル)ホウ素、トリフェニルエチルフォスフィント
リn−ブチル(ジメチルフェニルシリル)ホウ素などが
あげられる。
級アンモニウムホウ素塩、4級フォスフィンホウ素塩、
N−フェニルグリシン、及び有機過酸化物を併用するこ
とにより、開始剤の感度をあげることができる。すなわ
ち、4級アンモニウムホウ素塩の例としては、テトラメ
チルアンモニウムn−ブチルトリフェニルホウ素、テト
ラメチルアンモニウムn−ブチルトリアニシルホウ素、
テトラメチルアンモニウムn−オクチルトリフェニルホ
ウ素、テトラメチルアンモニウムn−オクチルトリアニ
シルホウ素、テトラエチルアンモニウムn−ブチルトリ
フェニルホウ素、テトラエチルアンモニウムn−ブチル
トリアニシルホウ素、トリメチルハイドロゲンアンモニ
ウムn−ブチルトリフェニルホウ素、トリエチルハイド
ロゲンアンモニウムn−ブチルトリフェニルホウ素、テ
トラハイドロゲンアンモニウムn−ブチルトリフェニル
ホウ素、テトラメチルアンモニウムテトラブチルホウ素
、テトラエチルアンモニウムテトラブチルホウ素、テト
ラn−ブチルアンモニウムトリn−ブチル(トリフェニ
ルシリル)ホウ素、テトラメチルアンモニウムトリn−
ブチル(ジメチルフェニルシリル)ホウ素などがあげら
れ、4級フォスフィンホウ素塩の例としては、トリフェ
ニルメチルフォスフィンn−ブチルトリフェニルホウ素
、トリフェニルエチルフォスフィンn−ブチルトリフェ
ニルホウ素、トリフェニルメチルフォスフィンn−ブチ
ルトリアニシルホウ素、トリフェニルエチルフォスフィ
ンn−ブチルトリアニシルホウ素、テトラフェニルフォ
スフィンn−ブチルトリフェニルホウ素、テトラフェニ
ルフォスフィンn−ブチルトリアニシルホウ素、トリフ
ェニルメチルフォスフィントリn−ブチル(トリフェニ
ルシリル)ホウ素、トリフェニルエチルフォスフィント
リn−ブチル(ジメチルフェニルシリル)ホウ素などが
あげられる。
【0015】また、本発明で用いられる有機過酸化物は
、慣用のすべての有機過酸化物を示す。具体的には、ジ
アセチルペルオキシド、ジラウロイルペルオキシドジベ
ンゾイルペルオキシド、p,p′−ジクロルジベンゾイ
ルペルオキシド、p,p′−ジメトキシジベンゾイルペ
ルオキシド、p,p′−ジメチルジベンゾイルペルオキ
シド、p,p′−ジニトロジベンゾイルペルオキシドな
どのジアシルペルオキシド類、ターシャリ−ブチルハイ
ドロペルオキシド、クメンハイドロペルオキシド、2,
5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロペルオキシ
ドなどのハイドロペルオキシド、メチルエチルケトンペ
ルオキシドなどのケトンペルオキシド類、ターシャリ−
ブチルペルオキシドベンゾエート、3,3′,4,4′
−テトラ−(t−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾ
フェノンなどのペルオキシカーボネート類などを例示す
ることができる。これらのうちでは、ジベンゾイルペル
オキシド、3,3′,4,4′−テトラ−(t−ブチル
ペルオキシカルボニル)ベンゾフェノンなどが好ましい
。
、慣用のすべての有機過酸化物を示す。具体的には、ジ
アセチルペルオキシド、ジラウロイルペルオキシドジベ
ンゾイルペルオキシド、p,p′−ジクロルジベンゾイ
ルペルオキシド、p,p′−ジメトキシジベンゾイルペ
ルオキシド、p,p′−ジメチルジベンゾイルペルオキ
シド、p,p′−ジニトロジベンゾイルペルオキシドな
どのジアシルペルオキシド類、ターシャリ−ブチルハイ
ドロペルオキシド、クメンハイドロペルオキシド、2,
5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロペルオキシ
ドなどのハイドロペルオキシド、メチルエチルケトンペ
ルオキシドなどのケトンペルオキシド類、ターシャリ−
ブチルペルオキシドベンゾエート、3,3′,4,4′
−テトラ−(t−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾ
フェノンなどのペルオキシカーボネート類などを例示す
ることができる。これらのうちでは、ジベンゾイルペル
オキシド、3,3′,4,4′−テトラ−(t−ブチル
ペルオキシカルボニル)ベンゾフェノンなどが好ましい
。
【0016】さらに、本発明による光重合開始剤が使用
できるフリーラジカル付加重合可能なもしくは架橋可能
な化合物は、慣用のすべてのエチレン性不飽和化合物、
特に1価アルコールまたは多価アルコールのアクリル酸
エステルまたはメタクリル酸エステルまたは4−(メタ
)アクリロイルオキシル基含有芳香族ポリカルボン酸及
びその酸無水物などであり、これらのエステルの下には
いわゆるウレタンアクリレートまたはメタクリレートも
含むものとし、また米国特許第3066112号から既
知の反応物である2,2−ビス(4−(3−メタクリロ
キシ−2−ヒドロキシプロポキシ)−フェニル)プロパ
ンやジ(メタクリロキシエチル)トリメチルヘキサメチ
レンジウレタン、2,2−ビス(4−メタクリロキシポ
リエトキシフェニル)プロパン、トリメチロールプロパ
ントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリア
クリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレー
ト、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、テ
トラメチロールプロパントリメタクリレート、テトラメ
チロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘ
キサメタクリレート、4−(メタ)アクリロイルオキシ
メトキシカルボニルフタル酸及びその酸無水物、4−(
メタ)アクリロイルオキシエトキシカルボニルフタル酸
及びその酸無水物などを意味する。
できるフリーラジカル付加重合可能なもしくは架橋可能
な化合物は、慣用のすべてのエチレン性不飽和化合物、
特に1価アルコールまたは多価アルコールのアクリル酸
エステルまたはメタクリル酸エステルまたは4−(メタ
)アクリロイルオキシル基含有芳香族ポリカルボン酸及
びその酸無水物などであり、これらのエステルの下には
いわゆるウレタンアクリレートまたはメタクリレートも
含むものとし、また米国特許第3066112号から既
知の反応物である2,2−ビス(4−(3−メタクリロ
キシ−2−ヒドロキシプロポキシ)−フェニル)プロパ
ンやジ(メタクリロキシエチル)トリメチルヘキサメチ
レンジウレタン、2,2−ビス(4−メタクリロキシポ
リエトキシフェニル)プロパン、トリメチロールプロパ
ントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリア
クリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレー
ト、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、テ
トラメチロールプロパントリメタクリレート、テトラメ
チロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘ
キサメタクリレート、4−(メタ)アクリロイルオキシ
メトキシカルボニルフタル酸及びその酸無水物、4−(
メタ)アクリロイルオキシエトキシカルボニルフタル酸
及びその酸無水物などを意味する。
【0017】本発明における光重合開始剤は、エチレン
性不飽和化合物を基準として0.01〜10重量%、好
ましくは0.1〜5重量%の量の光重合開始剤を添加す
ることができ、さらに増感剤は光重合開始剤1重量%に
対して、0.1〜10重量部、好ましくは0.1〜5重
量部の範囲で添加できる。さらに、酸素除去剤も光重合
開始剤と同様な量を添加することができる。また、必要
によって無機の添加物、色剤として染料及び顔料、溶剤
などを加えることができる。
性不飽和化合物を基準として0.01〜10重量%、好
ましくは0.1〜5重量%の量の光重合開始剤を添加す
ることができ、さらに増感剤は光重合開始剤1重量%に
対して、0.1〜10重量部、好ましくは0.1〜5重
量部の範囲で添加できる。さらに、酸素除去剤も光重合
開始剤と同様な量を添加することができる。また、必要
によって無機の添加物、色剤として染料及び顔料、溶剤
などを加えることができる。
【0018】本発明による光重合開始剤の適用できる例
としては光重合が使用される写真、スクリーン印刷、枚
葉印刷、平版印刷、凸版印刷、金属表面加工、インキ、
プリント基盤作成用、レジストまたはフォトマスク、白
黒またはカラーの転写発色用シートもしくは発色シート
作成、複写機用トナー、複写機用カプセルトナーなどの
用途に使用することができる。また、この光重合開始剤
とエチレン性不飽和化合物及びロイコ系染料または可視
領域に吸収をもつ染料とからなる組成物は、黒またはカ
ラーの転写発色用シートもしくは発色シート作製に使用
することができ、さらに、これら組成物はマイクロカプ
セルに内包して使用することもできる。また、この他、
有床義歯、歯用補欠材料及び歯の充填組成物、及び歯の
目的に対する被覆及び接着組成物など歯科治療用の光重
合組成物として適用することができる。しかし、本発明
による光重合開始剤は、これらの適用例に限定されるも
のではない。
としては光重合が使用される写真、スクリーン印刷、枚
葉印刷、平版印刷、凸版印刷、金属表面加工、インキ、
プリント基盤作成用、レジストまたはフォトマスク、白
黒またはカラーの転写発色用シートもしくは発色シート
作成、複写機用トナー、複写機用カプセルトナーなどの
用途に使用することができる。また、この光重合開始剤
とエチレン性不飽和化合物及びロイコ系染料または可視
領域に吸収をもつ染料とからなる組成物は、黒またはカ
ラーの転写発色用シートもしくは発色シート作製に使用
することができ、さらに、これら組成物はマイクロカプ
セルに内包して使用することもできる。また、この他、
有床義歯、歯用補欠材料及び歯の充填組成物、及び歯の
目的に対する被覆及び接着組成物など歯科治療用の光重
合組成物として適用することができる。しかし、本発明
による光重合開始剤は、これらの適用例に限定されるも
のではない。
【0019】転写発色用シートへの適用の具体的な例と
しては光重合開始剤とエチレン性不飽和及びロイコ染料
からなる組成物をマイクロカプセルに内包させ、このマ
イクロカプセルをポリビニルアルコールによって原紙ま
たはフィルム上に塗布し、近赤外光ランプを用いて露光
し後、転写用の原紙を重ねて加圧ロールで加圧すると画
像に従ってマイクロカプセルが破壊し転写用の原紙に画
像を形成することができる。
しては光重合開始剤とエチレン性不飽和及びロイコ染料
からなる組成物をマイクロカプセルに内包させ、このマ
イクロカプセルをポリビニルアルコールによって原紙ま
たはフィルム上に塗布し、近赤外光ランプを用いて露光
し後、転写用の原紙を重ねて加圧ロールで加圧すると画
像に従ってマイクロカプセルが破壊し転写用の原紙に画
像を形成することができる。
【0020】
【実施例】以下、実施例をあげて本発明をさらに説明す
る。
る。
【0021】実施例1〜9
トリメチロールプロパントリアクリレート
10g
金属錯体
表2に表示 N,N,2,4,6−ペン
タメチルアニリン 0
.02gからなる混合物を調整し組成物1〜9を作成し
た。
10g
金属錯体
表2に表示 N,N,2,4,6−ペン
タメチルアニリン 0
.02gからなる混合物を調整し組成物1〜9を作成し
た。
【0022】実施例10〜14
ペンタエリスリトールトリアクリレート
10g
金属錯体
表2に表示 4級アンモニウムホウ素
塩
表2に表示 N,N,2,4,
6−ペンタメチルアニリン
0.02gからなる混合物を調整し組成物10〜
14を作成した。
10g
金属錯体
表2に表示 4級アンモニウムホウ素
塩
表2に表示 N,N,2,4,
6−ペンタメチルアニリン
0.02gからなる混合物を調整し組成物10〜
14を作成した。
【0023】実施例15〜17
トリメチロールプロパントリメタクリレート
6g
ウレタンアクリレートジメタクリレート
(新中村化学社製、U−108−A)
4g
金属錯体
表2に表示 有機過酸化物
表2に表示 N,N,2
,4,6−ペンタメチルアニリン
0.02gからなる混合物を調整し組成物
15〜17を作成した。
6g
ウレタンアクリレートジメタクリレート
(新中村化学社製、U−108−A)
4g
金属錯体
表2に表示 有機過酸化物
表2に表示 N,N,2
,4,6−ペンタメチルアニリン
0.02gからなる混合物を調整し組成物
15〜17を作成した。
【0024】実施例18〜20
トリメチロールプロパントリメタクリレート
6g
ウレタンアクリレートジメタクリレート
(新中村化学社製、U−108−A)
4g
金属錯体
表2に表示 N,N,2,4,6−ペンタメ
チルアニリン 0.0
2g 画像形成用色剤(オリエント化学社製)
表2に表示か
らなる混合物を調整し組成物18〜20を作成した。
6g
ウレタンアクリレートジメタクリレート
(新中村化学社製、U−108−A)
4g
金属錯体
表2に表示 N,N,2,4,6−ペンタメ
チルアニリン 0.0
2g 画像形成用色剤(オリエント化学社製)
表2に表示か
らなる混合物を調整し組成物18〜20を作成した。
【0025】比較例1
実施例1における金属錯体に代えて表2に示すように、
カンファーキノン及びハイドロキノンモノメチルエーテ
ルを用いた以外は同様にサンプルを調整し組成物21を
作成した。
カンファーキノン及びハイドロキノンモノメチルエーテ
ルを用いた以外は同様にサンプルを調整し組成物21を
作成した。
【0026】
【表2】
【0027】以上に示した実施例1〜20及び比較例1
によって得られた組成物1〜21をアプリケータを用い
てカルトン紙上膜厚5ミクロンになるように展色し、ジ
クロイックコート型ハロゲンランプ(1W/cm2 )
で0.1秒間照射した後、アート紙に圧着し硬化を評価
した。結果は表3に示す。
によって得られた組成物1〜21をアプリケータを用い
てカルトン紙上膜厚5ミクロンになるように展色し、ジ
クロイックコート型ハロゲンランプ(1W/cm2 )
で0.1秒間照射した後、アート紙に圧着し硬化を評価
した。結果は表3に示す。
【0028】
【表3】
【0029】
【発明の効果】本発明により、近赤外光によって重合を
開始する近赤外光重合開始剤が提供される。
開始する近赤外光重合開始剤が提供される。
Claims (1)
- 【請求項1】 一般式(1)で表わされるホウ素陰イ
オンをもつ金属錯体からなる近赤外光重合開始剤。 一般式(1); 【化1】 (式中、R1 ,R2 はアルキル基または置換アルキ
ル基を表わし、Xは水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基、アルコキシ基、またはアシルアミノ基を表わし、Y
は水素原子、ハロゲン原子、またはアルキル基を表わし
、nは2または3を表わす。また、MはNiまたはCu
を表わし、R3 ,R4 ,R5 及びR6 は、それ
ぞれ独立にアルキル、アリール、アルカリール、アリル
、アラルキル、アルケニル、アルキニル、シリル、脂環
式及び飽和または不飽和複素環式基、或いは置換アルキ
ル、置換アリール、置換アルカリール、置換アリル、置
換アラルキル、置換アルケニル、置換アルキニルを示し
、R3 ,R4 ,R5 及びR6 の中の少なくとも
1個は炭素数1〜8個のアルキル基であり、R3 〜R
6 はその2個以上の基が結合している環状構造であっ
てもよい。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7599891A JP2956245B2 (ja) | 1991-02-15 | 1991-02-15 | 光重合開始剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7599891A JP2956245B2 (ja) | 1991-02-15 | 1991-02-15 | 光重合開始剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04261405A true JPH04261405A (ja) | 1992-09-17 |
JP2956245B2 JP2956245B2 (ja) | 1999-10-04 |
Family
ID=13592471
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7599891A Expired - Fee Related JP2956245B2 (ja) | 1991-02-15 | 1991-02-15 | 光重合開始剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2956245B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0775706A2 (de) | 1995-11-24 | 1997-05-28 | Ciba SC Holding AG | Borat Photoinitiatoren aus Polyboranen |
WO1999044099A1 (en) * | 1998-02-25 | 1999-09-02 | Cycolor, Inc. | Imaging system employing encapsulated radiation sensitive composition |
WO1999046645A1 (fr) * | 1998-03-11 | 1999-09-16 | Sanyo Chemical Industries, Ltd. | Toner et procede de formation d'images |
US6174642B1 (en) | 1999-02-25 | 2001-01-16 | Cycolor, Inc. | Imaging system employing encapsulated radiation sensitive composition |
US6316089B1 (en) | 1997-12-05 | 2001-11-13 | Showa Denko K.K. | Photocurable prepreg sheet for waterproofing, method and apparatus for production of prepreg sheet, and waterproofing method using the sheet |
US7723445B2 (en) | 2004-08-06 | 2010-05-25 | Showa Highpolymer Co., Ltd. | Curable resin composition, molded product, and process for producing the same |
CN115353577A (zh) * | 2022-08-17 | 2022-11-18 | 山东大学 | 一种聚合氮化碳和有机硼酸盐光引发剂体系及其在引发自由基聚合反应中的应用 |
-
1991
- 1991-02-15 JP JP7599891A patent/JP2956245B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0775706A2 (de) | 1995-11-24 | 1997-05-28 | Ciba SC Holding AG | Borat Photoinitiatoren aus Polyboranen |
US6316089B1 (en) | 1997-12-05 | 2001-11-13 | Showa Denko K.K. | Photocurable prepreg sheet for waterproofing, method and apparatus for production of prepreg sheet, and waterproofing method using the sheet |
WO1999044099A1 (en) * | 1998-02-25 | 1999-09-02 | Cycolor, Inc. | Imaging system employing encapsulated radiation sensitive composition |
WO1999046645A1 (fr) * | 1998-03-11 | 1999-09-16 | Sanyo Chemical Industries, Ltd. | Toner et procede de formation d'images |
US6461782B1 (en) | 1998-03-11 | 2002-10-08 | Sanyo Chemical Industries, Ltd. | Toner and method for image formation |
US6174642B1 (en) | 1999-02-25 | 2001-01-16 | Cycolor, Inc. | Imaging system employing encapsulated radiation sensitive composition |
US7723445B2 (en) | 2004-08-06 | 2010-05-25 | Showa Highpolymer Co., Ltd. | Curable resin composition, molded product, and process for producing the same |
CN115353577A (zh) * | 2022-08-17 | 2022-11-18 | 山东大学 | 一种聚合氮化碳和有机硼酸盐光引发剂体系及其在引发自由基聚合反应中的应用 |
CN115353577B (zh) * | 2022-08-17 | 2024-02-13 | 山东大学 | 一种聚合氮化碳和有机硼酸盐光引发剂体系及其在引发自由基聚合反应中的应用 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2956245B2 (ja) | 1999-10-04 |
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