JPH0426118A - 基板処理装置及び塵埃除去装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 半導体装置の製造に必要なレジストの塗布、現像、ウェ
ット処理等の基板処理を、極めて清浄な環境においてな
すことができるようにする基板処理装置と塵埃除去装置
とに関し、 基板の処理をなす清浄空間を必要最小限の大きさとし、
その空間内を、塵埃を発生させることなく被処理基板を
搬送しうるようにして、清浄度の高い基板処理装置を少
ない経済的負担をもって提供することを第１の目的とし
、レジスト塗布・現像等に使用される回転をともなう基
板処理装置において、基板処理室内に回転機構等の摺動
機横部を設けないようにすることによって発塵を防止し
て、清浄度の高い基板処理装置を提供することを第２の
目的とし、処理媒体（液体・ガス）等から発生したパー
ティクルを除去して基板処理装置を清浄に保つための、
摺動機構部を有しない塵埃除去装置を提供することを第
３の目的とし、第１の目的に対しては、複数の基板処理
室が筒状体をもって相互に連接されてなるクリーントン
ネルと、このクリーントンネル内に清浄空気を送入する
清浄空気送入手段と、前記のクリーントンネルの上面上
を前記のクリーントンネルに沿って走行し、１電磁石が
装着されてなる搬送台車と、前記のクリーントンネル内
において、前記の搬送台車の前記の電磁石に１引されて
浮上し、前記の搬送台車の送行に追随して前記のクリー
ントンネル内を移動し、被処理基板を載置するトレイと
を有する基板処理装置をもって構成する。

第２の目的に対しては、基板処理室と、この基板処理室
に清浄な空気を送入する清浄空気送入手段と、前記の基
板処理室の上面に装着される電磁石と、前記の基板処理
室内において、前記のａＭ１石に吸引されて浮上し、被
処理基板を載置するトレイと、前記の基板処理室の外側
に、前記のトレイの側面に対接して配設される複数の電
磁石よりなる磁気軸受と、前記の基板処理室の外側に、
前記のトレイの下面に対接する円周上に配設される複数
の電磁石よりなるトレイ回転モータと、前記の被処理基
板に処理液を供給する処理液供給口と、前記の処理液を
排出する処理液排出口とを有する基板処理装置をもって
構成する。

第３の目的に対しては、複数の基板処理室が筒状体をも
って連接されてなるクリーントンネルの上面上をこのク
リーントンネルに沿って走行し、ｔｍ石が装着されてな
る台車と、前記の電磁石に対応する領域に磁性体が埋設
され、前記のクリーントンネルの内部において、前記の
電磁石に吸引されて浮上する導電性の集塵板と、前記の
クリーントンネルの下面に配設され、前記の集塵板に電
荷を発生させる複数の電極とを有する塵埃除去装置をも
って構成する。

〔産業上の利用分野〕

本発明は、半導体装置の製造に必要なレジストの塗布、
現像、ウェット処理等の基板処理を、極めて清浄な環境
においてなすことができるようにする基板処理装置と塵
埃除去装置とに関する。

〔従来の技術〕

半導体装置の回路パターンの微細化にともない、半導体
製造装置・設備・環境に要求されるクリーン度がますま
す厳しくなり、０．１ｎレベルのパーティクルや分子レ
ベルの汚染が問題になってきた。

一般に、半導体装置の製造には、部屋全体が清浄化され
た、いわゆるクリーンルームが使用されている。このク
リーンルーム内に各種の基板処理装置が配置されており
、処理される基板はウェーハキャリヤに収納され、自走
ロボットによって、それぞれの基板処理装置に搬送され
、そこからハンドリングアームを使用して各処理部に一
枚づ一装着され、レジスト塗布、現像、ウェット処理等
の処理がなされる。処理が終了すると再びウェーハキャ
リヤに収納され、次の基板処理装置へと搬送される。

処理装置の１例として、レジスｌ布、現像処理装置の従
来例を第１３図に示す、　４１はカップであり、４２は
カップを上下に移動するカップ昇降手段であり、４３は
被処理基板１４を保持する真空吸着パッドであり、電動
機４４によって回転される。４５は処理液を供給するノ
ズルである。カップ昇降手段４２を使用してカップ４１
を下方に移動し、ウェーハハンドリング装Ｍ４６を使用
して、ウェーハキャリヤ（図示せず）から被処理基板１
４を取り出して真空吸着パッド４３上に載置した後、カ
ップ４１を上方に移動し、電動機４４を使用して被処理
基板１４を回転し、ノズル４５から処理液を滴下してレ
ジスト塗布、現像、洗浄等の処理を実行する。

〔発明が解決しようとする課題〕

複数枚の被処理基板を収納したつェーハキャリャを搬送
する自走ロボットの走行領域の空間も清浄に保たなけれ
ばならないので、広範囲・大容積空間に清浄な空気を送
り続けなければならない。

基板に形成されるパターンの微細化にともない、フィル
タによって除去されなければならないパーティクルは益
々微細になっているため、クリーンルームのような大空
間を清浄な雰囲気にするための設備（フィルタ及び空調
設備、クリーンルーム）を実現するには真人な費用がか
＼す、経済的負担が大きくなる。

また、各処理装置におけるウェーハハンドリング装置か
らの発塵やレジスト塗布・現像処理装置のように、カッ
プ昇降手段、回転電動機等の摺動機構部からの発塵に対
する対策が必要である。特に、回転部の回転数が高い場
合には、０リングシールや磁性流体シールを使用して回
転軸の軸受からの塵埃をシールすることは困難であるか
ら、これらの発塵領域に専用の空気清浄装置を付加して
も、清浄に保つことは難しい。

本発明の目的は、これらの欠点を解消することにあり、
三つの独立した目的を有する。第１の目的は、基板の処
理をなす清浄空間を必要最小限の大きさとし、その空間
内を、塵埃を発生させることなく被処理基板を搬送しう
るようにして、清浄度の高い基板処理装置を少ない経済
的負担をもって提供することにある。第２の目的は、レ
ジスト塗布・現像等に使用される回転をともなう基板処
理装置において、基板処理室内に回転機構等の摺動機構
部を設けないようにすることによって発塵を防止して、
清浄度の高い基板処理装置を提供することにある。第３
の目的は、処理媒体（液体・ガス）等から発生したパー
ティクルを除去して基板処理装置を清浄に保つための、
摺動機構部を有しない塵埃除去装置を提供することにあ
る。

〔課題を解決するための手段〕

上記三つの目的のうち、第１の目的は、複数の基板処理
室（１）が筒状体（２）をもって相互に連接されてなる
クリーントンネル（３）と、このクリーントンネル（３
）内に清浄空気を送入する清浄空気送入手段（４）と、
前記のクリーントンネル（３）の上面上を前記のクリー
ントンネル（３）に沿って走行し、電磁石（７）が装着
されてなる搬送台車（５）と、前記のクリーントンネル
（３）内において、前記の搬送台車（５）の前記の電磁
石（７）に１引されて浮上し、前記の搬送台車（５）の
送行に追随して前記のクリーントンネル（３）内を移動
し、被処理基板（１４）を載置するトレイ（６）とを存
する基板処理装置によって達成される。なお、前記のト
レイ（６）は、耐蝕性非磁性材よりなり、前記のｉｉ電
磁石７）に対応する領域に磁性体（９）が埋設されてい
ることが好適である。

上記三つの目的のうち、第２の目的は、基板処理室（１
）と、この基板処理室（１）に清浄な空気を送入する清
浄空気送入手段（４）と、前記の基板処理室（１）の上
面に装着される１電磁石（７）と、前記の基板処理室（
１，）内において、前記の′Ｗ１磁石（７）に吸引され
て浮上し、被処理基板（１４）を載置するトレイ（６）
と、前記の基板処理室（１）の外側に、前記のトレイ（
６）の側面に対接して配設される複数の電磁石よりなる
磁気軸受（２０）と、前記の基板処理室（１）の外側に
、前記のトレイ（６）の下面に対接する円周上に配設さ
れる複数の電磁石よりなるトレイ回転モータ（２２）と
、前記の被処理基板（１４）に処理液を供給する処理液
供給口（３０）と、前記の処理液を排出する処理液排出
口（３１）とを有する基板処理装置によって達成される
。なお、前記の電磁石（７）は、基板処理室（１）の上
面上を走行する搬送台車（５）に装着されてもよい、ま
た、前記のトレイ（６）は耐蝕性非磁性材よりなり、前
記の１電磁石（７）に対接する領域と前記の磁気軸受（
２０）に対接する領域とには、それぞれ磁性体（２５）
（２１）が埋設されており、前記のトレイ回転モータ（
２２）に対接する円周上の領域には、一定間隔をもって
複数の磁性体（２４）が埋設されていることが好適であ
る。

上記三つの目的のうち、第３の目的は、複数の基板処理
室（１，）が筒状体（２）をもって連接されてなるクリ
ーントンネル（３）の上面上をこのクリーントンネル（
３）に沿って走行し、ｉ電磁石（７）が装着されてなる
台車（５）と、前記の電磁石（７）に対応する領域に磁
性体（３５）が埋設され、前記のクリーントンネル（３
）の内部において、前記の［電磁石（７）に吸引されて
浮上する導電性の集塵板（３３）と、前記のクリーント
ンネル（３）の下面に配設され、前記の集！１板（３３
）に電荷を発生させる複数の電極（３４）とを有する塵
埃除去装置によって達成される。なお、前記の複数の電
極（３４）は、前記の集塵板（３３）の走行に応答して
順次電圧が印加されることが好適である。

〔作用〕

本出願の第１と第２の発明に係る基板処理装置において
は、複数の基板処理室１が筒状体２をもって相互に連接
されて、必要最小限の容積を有するクリーントンネル３
が形成されているので、この空間に清浄な空気を送入し
て清浄な雰囲気に保つだめの設備費は少なくてよく、経
済的負担が軽くなる。また、被処理基板を載置したトレ
イ６はクリーントンネル３の上面上を送行する搬送台車
５に装着された′Ｔｌ磁石７によって吸引・浮上され、
クリーントンネル３の壁面に接触することなく搬送され
るのでクリーントンネル３内における塵埃の発生がなく
、高い清浄度が得られる。なお、電磁石７の励磁電流を
制御することによって、トレイ６を上下方向に移動させ
ることが可能である。

本出願の第３と第４と第５の発明に係る基板処理装置に
おいては、被処理基板１４を載置したトレイ６は電磁石
７によって吸引・浮上され、水平方向には、基板処理室
１の外側に配設された複数の１ｉ磁石よりなる磁気軸受
２０によってガイドされる。

基板処理室１の外側に、トレイ６の下面に対接して円周
上に配設されたトレイ回転用モータ２２の電磁石２３を
順次切り換えて、トレイ６の下面の円周上に一定間隔を
もって配設された磁性体２４を吸引することによって、
トレイ６を回転させることができる。したがって、基板
処理室１の内部には摺動機構部が存在しないので塵埃の
発生がなく、清浄度の高い環境でレジスト塗布・現像等
をなすことができる。

また、本出願の第６と第７の発明に係る塵埃除去装置に
おいては、ｉ磁石７によってクリーントンネル３内に浮
上された集塵板３３に、クリーントンネル３の下面に装
着された電極３４に電圧を印加することによって反対電
位の電荷を発生させ、この電荷による静電気力によって
クリーントンネル３内にある塵埃を吸着し除去する。電
磁石７の装着された台車５を送行させることによって集
塵板３３を移動させ、集塵板３３に対応する位置にある
電極３４に順次電圧を印加すれば、集塵板３３に常に電
荷が発生し、クリーントンネル３内のすべての領域の塵
埃を除去することができ、基板処理装置内を清浄にする
ことができる。

〔実施例〕

以下、図面を参照しつ一１本発明に係る基板処理装置及
び塵埃除去装置の実施例について説明する。

１　　　び　　２　　に 第１図参照 第１図に基板処理装置の構成図を示す。図において、３
は基板処理室１の相互間が筒状体２をもって連接された
クリーントンネルであり、４は清浄な空気を送入する清
浄空気送入手段であり、５はクリーントンネル３の上面
上に設けられたガイドレール上を走行する搬送台車であ
り、６は被処理基板１４を載置するトレイである。

第２図参照 第２図は、搬送台車５及びトレイ６の詳細図である。ク
リーントンネル３上を送行する搬送台車５には、トレイ
６を吸引・浮上させる電磁石７が装着されており、また
、トレイ６との間隙を制御するのに使用されるギャップ
センサ８が装着されている。被処理基板１４を載置する
トレイ６は石英等の耐蝕性非磁性材よりなり、電磁石７
によって吸引・浮上されるように、搬送台車５に装着さ
れた１を磁石７に対応する領域に磁性体９が埋設されて
いる。

第３図参照 第３図は、第２図のＡ−Ａ矢印方向から見た図である。

５は搬送台車であり、７は電磁石であり、８はギャップ
センサであり、１０は搬送台車５の走行するガイドレー
ルであり、電源供給用導体としても使用される。１１は
ガイドレール１０を介して供給される電源によって駆動
され、搬送台車５を送行する電動機であり、１２はクリ
ーントンネル３上に延在するエンコーダ板１３に対接し
て設けられ、搬送台車５の停止位置を検出するための位
置センサであり、６は被処理基板１４を載置するトレイ
である。

第４図参照 第４図は、制御ブロック図である。台車制御ＣＰＵ１５
は外部のホストＣＰＵ１６からの指令を受け、まず、搬
送台車５上に設けられたトレイ浮上制御回路１７を使用
して、ギャップ設定器１８の設定値とギャップセンサ８
の検出するギャップ値とが等しくなるように、電磁石７
の励磁電流をＰＩＤ制御してトレイ６を浮上させる。次
いで、台車制御Ｃｐｕｉｓはどの処理室にトレイ６を搬
送すればよいかを判断し、位置センサ１２で位置を検出
しながら、台車走行用電動機制御回路１９を使用して走
行用電動機１１を駆動し、指定の処理室にトレイ６を搬
送する。クリーントンネル３内のそれぞれの位置に応じ
てトレイ６を上下させる必要がある場合には、トレイ浮
上制御回路１７に与えるギャンブ設定器１日の設定値を
変更する。

トレイ６に埋設された磁性体９の形状と電磁石７の形状
とによって、電磁石７の進行方向にも電磁石７と磁性体
９との間に保持力を生ずるので、この進行方向の保持力
よりも大きな力が加わらないような加速度をもって搬送
台車５を走行させれば、トレイ６は搬送台車５の走行に
追随して移動する。

なお、処理室１は真空処理室であってもよく、その場合
には、処理室前後に真空バルブを設ければよい。

２　　゛　　　　３　　４　　　び、　　５　に第５図
参照 第５図に基板処理装置の構成図を示す０図において、１
は基板処理室であり、４は清浄な空気を送入する清浄空
気送入手段であり、６は被処理基板１４を載置するトレ
イであり、５はトレイ６を吸引・浮上させる！電磁石７
を有する搬送台車であり、２０は浮上したトレイ６を水
平方向にガイドする複数の電磁石よりなる磁気軸受であ
り、これに対向するトレイ６の側面には磁性体２１が埋
没されている。８は搬送台車５とトレイ６とのギャップ
を制御するのに使用されるギャップセンサであり、２２
はトレイ６の下面に対接して円周上に電磁石が配設され
ているトレイ回転用モータであり、２４．２５は磁性体
であり、３２はトレイ６０回転数を非接触で測定する回
転エンコーダであり、３０は処理液供給口であり、３１
は処理液排出口である。

第６図参照 第６図はトレイ回転用モータ２２の平面図である。

円周上に複数の電磁石２３が配設されており、順次切り
換えて励磁される。

第７図参照 第７図はトレイ６のトレイ回転用モータ２２に対接する
面に埋設された磁性体２４の配置図である。

ｌ・レイ回転用モータ２２の電磁石２３の励磁を順次切
り換えることによって磁性体２４が吸引され、トレイ６
が回転する。

第８図参照 第８図はトレイ６のｉｔｍ石磁石対接する面に埋設され
た磁性体２５の配置図である。電磁石７によって磁性体
２５が吸引され、トレイ６が浮上する。

第９図参照 第９図は制御ブロック図である０台車制御ＣＰ（Ｊ１５
がホストＣＰｔＪ１６からの指令を受けて台車を制御す
るが、トレイ浮上制御回路１７と台車走行用電動機制御
回路１９は第１例において使用されるものと同一である
ので説明を省略する０Ｍ！気軸受制御回路２７は、磁気
軸受２０とトレイ６とのギャップをギャップセンサで測
定し、このギャップが円周上で一様になるように磁気軸
受２０を構成する複数の電磁石の励磁電流を制御する。

ホスｈｃＰＵ１６からの指令を受けた処理部ＣＰＵ２６
は、回転用モータ制御回路２８を使用して、回転用モー
タ２２を構成する電磁石２３を順次切り換えてトレイ６
を回転すると−もに、回転エンコーダ３２を使用して回
転数を検出し、所定の回転数になるようにｉ電磁石２３
の励磁切り換えタイミングを制御する。次に、処理液制
御回路２９を使用して、処理液供給口３０から被処理基
板１４上に処理液を滴下する。

なお、トレイ吸引・浮上用の電磁石７は、搬送台車５に
装着しないで基板処理室１の上部に固着し、被処理基板
１４はウェーハハンドリング装置を使用して基板処理室
１に搬入・搬出するようにしてもよい。

３　　　　　　　　６　　　び　　７　　に第１０図参
照 第１０図に塵埃除去装置の構成図を示す。図において、
３はクリーントンネルであり、４は清浄な空気を送入す
る清浄空気送入手段であり、５は電磁石７が装着された
台車であり、３３は集塵板であり、３４はクリーントン
ネル３の底面に配設された電極である。

台車５は、第１例において使用される搬送用台車と同一
の構成を有している。

第１２区間時参照 集塵板３３は非磁性金属よりなり、台車５に装着された
′ｒＩ１Ｍ１石７に対応する領域に磁性体３５が装着さ
れており、その上にギャップ検知用非磁性金属板３６が
固着されている。

第１Ｉ図参照 第１１図は制御ブロック図である。集塵板浮上制御回路
３７は第１例において使用されるトレイ浮上制御回１１
７と同一であり、また、台車側１ｃＰＬＩＩ５及び台車
走行用電動機制御回路１９は、第１例において使用され
るものと同一であるので、説明を省略する。

電極制御ｊｃＰＵ３８は、ホストＣＰＵ１６からの指令
を受け、電極切換制御回路３９を使用して、台車５によ
ってクリーントンネル３内を浮上して移動する集塵板３
３に対応する電極３４に、順次電圧を印加する。

第１２図再参照 例えば、正の電圧が印加された電極３４に対接する集塵
板３３の電極は負に帯電する。集塵板３３は導電材をも
って形成されているので、集塵面４０も負に帯電し、こ
の静電気力によって塵埃が集塵面４０に吸引され、クリ
ーントンネル３の外へ排出される。

〔発明の効果〕

以上説明せるとおり、本発明に係る基板処理装置におい
ては、複数の基板処理室が筒状体をもって連接されて必
要最小限度の容積を有するクリーントンネルが形成され
、しかも、被処理基板を載置したトレイはクリーントン
ネルの壁面に接触することなくクリーントンネル内を浮
上して移動しつるので塵埃の発生がなく、少ない経済的
負担をもって、清浄度の高い基板処理室が得られる。

また、レジスｌ布・現像等に使用される基板処理装置に
おいては、回転機構等の摺動機構部がなく、磁気作用に
よって被処理基板を載置したトレイを回転するので、清
浄度の高い基板処理室が得られる。

さらに、塵埃除去装置は、摺動機構部を有しないため、
処理媒体等から発生したパーティクルを発塵をともなう
ことなく処理装置外に除去することができるので、基板
処理室内の清浄度を高めることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の一実施例に係る基板処理装！の構成
図である。 第２図は、搬送台車及びトレイの詳細図である。 第３図は、第２図のＡ−Ａ矢印方向から見た図である。 第４図は、トレイ搬送の制御ブロック図である。 第５図は、本発明の一実施例に係るレジスト塗布・現像
等に使用される基板処理装置の構成図である。 第６図は、トレイ回転用モータの平面図である。 第７図は、トレイに形成されたトレイ回転用磁性体の配
置図である。 第８図は、トレイに形成されたトレイ吸引用磁性体の配
置図である。 第９図は、レジスト塗布・現像の制御ブロック図である
。 第１０図は、塵埃除去装置の構成図である。 第１１図は、塵埃除去の制御ブロック図である。 第１２図は、集塵作用説明図である。 第１３図は、従来技術に係るレジスｌ布・現像処理装置
の構成図である。 基板処理室、 筒状体、 クリーントンネル、 清浄空気道大手段、 搬送台車、 トレイ、 ｔｉ電磁石、 ８・・・ギャップセンサ、 ９・・・磁性体、 １０・　・・ガイドレール、 １１・・・電動機、 １２・・・位置センサ、 １３・・・エンコーダ板、 １４・・・被処理基板、 １５・・・台車制御ＣＰｔＪ、 １６・・・ホストＣＰｔＪ。 １７・・・トレイ浮上制御回路、 １８・・・ギャップ設定器、 １９・・・台車走行用電動機制御回路、２０・・・磁気
軸受、 ２１．２３．２４．２５・・・磁性体、２２・・・トレ
イ回転モータ、 ２６・・・処理部ＣＰＵ、 ２７・・・磁気軸受制御回路、 ２８・・・回転用モータ制御回路、 ２９・・・処理液制御回路、 ３０・・・処理液供給口、 ３１・　・ ３２・　・ ３３・　・ ３４・　・ ３５・　・ ３６・　・ ３７・　・ ３８・　・ ３９・　・ ４０・　・ ４１・　・ ４２・　・ ４３・　・ ４４・　・ ４５・　・ ４６・　・ ・処理液排出口、 ・回転エンコーダ、 ・集塵板、 ・電極、 ・磁性体、 ・ギャップ検知用非磁性金属板、 ・集塵板浮上制御回路、 ・電極制御回路、 ・電極切換制御回路、 ・集塵面、 ・カップ、 ・カップ具陳手段、 ・真空吸着パッド、 ・電動機、 ・ノズル、 ・ウェーハハンドリング装置。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ［１］複数の基板処理室（１）が筒状体（２）をもって
   相互に連接されてなるクリーントンネル（３）と、 該クリーントンネル（３）内に清浄空気を送入する清浄
   空気送入手段（４）と、 前記クリーントンネル（３）の上面上を前記クリーント
   ンネル（３）に沿って走行し、電磁石（７）が装着され
   てなる搬送台車（５）と、前記クリーントンネル（３）
   内において、前記搬送台車（５）の前記電磁石（７）に
   吸引されて浮上し、前記搬送台車（５）の送行に追随し
   て前記クリーントンネル（３）内を移動し、被処理基板
   （１４）を載置するトレイ（６）と を有することを特徴とする基板処理装置。 ［２］前記トレイ（６）は、耐蝕性非磁性材よりなり、
   前記電磁石（７）に対応する領域に磁性体（９）が埋設
   されてなることを特徴とする請求項［１］記載の基板処
   理装置。 ［３］基板処理室（１）と、 該基板処理室（１）に清浄な空気を送入する清浄空気送
   入手段（４）と、 前記基板処理室（１）の上面に装着される電磁石（７）
   と、 前記基板処理室（１）内において、前記電磁石（７）に
   吸引されて浮上し、被処理基板（１４）を載置するトレ
   イ（６）と、 前記基板処理室（１）の外側に、前記トレイ（６）の側
   面に対接して配設される複数の電磁石よりなる磁気軸受
   （２０）と、 前記基板処理室（１）の外側に、前記トレイ（６）の下
   面に対接する円周上に配設される複数の電磁石よりなる
   トレイ回転モータ（２２）と、前記被処理基板（１４）
   に処理液を供給する処理液供給口（３０）と、前記処理
   液を排出する処理液排出口（３１）と を有することを特徴とする基板処理装置。 ［４］前記電磁石（７）は、基板処理室（１）の上面上
   を走行する搬送台車（５）に装着されてなることを特徴
   とする請求項［３］記載の基板処理装置。 ［５］前記トレイ（６）は耐蝕性非磁性材よりなり、前
   記電磁石（７）に対接する領域と前記磁気軸受（２０）
   に対接する領域とには、それぞれ磁性体（２５）（２１
   ）が埋設されてなり、前記トレイ回転モータ（２２）に
   対接する円周上の領域には、一定間隔をもって複数の磁
   性体（２４）が埋設されてなることを特徴とする請求項
   ［３］または［４］記載の基板処理装置。 ［６］複数の基板処理室（１）が筒状体（２）をもって
   連接されてなるクリーントンネル（３）の上面上を該ク
   リーントンネル（３）に沿って走行し、電磁石（７）が
   装着されてなる台車（５）と、前記電磁石（７）に対応
   する領域に磁性体（３５）が埋設され、前記クリーント
   ンネル（３）の内部において、前記電磁石（７）に吸引
   されて浮上する導電性の集塵板（３３）と、 前記クリーントンネル（３）の下面に配設され、前記集
   塵板（３３）に電荷を発生させる複数の電極（３４）と を有することを特徴とする塵埃除去装置。 ［７］前記複数の電極（３４）は、前記集塵板（３３）
   の走行に応答して順次電圧が印加されることを特徴とす
   る請求項［６］記載の塵埃除去装置。