JPH04261188A - メルカプトシランの製造法 - Google Patents
メルカプトシランの製造法Info
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- JPH04261188A JPH04261188A JP3205021A JP20502191A JPH04261188A JP H04261188 A JPH04261188 A JP H04261188A JP 3205021 A JP3205021 A JP 3205021A JP 20502191 A JP20502191 A JP 20502191A JP H04261188 A JPH04261188 A JP H04261188A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/1892—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions not provided for in C07F7/1876 - C07F7/1888
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明の対象は、相応するハロゲ
ン化オルガニルシラン化合物と、アルカリ金属硫化水素
化物とを極性の非プロトン性媒体の存在下で反応させる
ようにしてメルカプトシランを製造する方法である。
ン化オルガニルシラン化合物と、アルカリ金属硫化水素
化物とを極性の非プロトン性媒体の存在下で反応させる
ようにしてメルカプトシランを製造する方法である。
【0002】
【従来の技術】メルカプトシランを1工程反応で、この
反応に適当なハロゲン化オルガニルシラン化合物と、チ
オ尿素およびアンモニアとの変換によって製造すること
は、公知である(西ドイツ国特許出願公告第20356
19号/米国特許第3590065号明細書)。この方
法は、経済的に許容できる変換率の達成のために長い装
入時間(24時間以上)を必要とするという欠点を有す
る。この方法を使用した場合に達成可能な収率は、変動
しかつ使用されたハロゲン化オルガニルシラン化合物の
変換に対して75〜80%の値を達成するにすぎない。 更にこの方法は、グアニジン塩酸塩の不可避的な生成量
で負荷されており、この塩酸塩の分離には、付加的な費
用が必要とされる。
反応に適当なハロゲン化オルガニルシラン化合物と、チ
オ尿素およびアンモニアとの変換によって製造すること
は、公知である(西ドイツ国特許出願公告第20356
19号/米国特許第3590065号明細書)。この方
法は、経済的に許容できる変換率の達成のために長い装
入時間(24時間以上)を必要とするという欠点を有す
る。この方法を使用した場合に達成可能な収率は、変動
しかつ使用されたハロゲン化オルガニルシラン化合物の
変換に対して75〜80%の値を達成するにすぎない。 更にこの方法は、グアニジン塩酸塩の不可避的な生成量
で負荷されており、この塩酸塩の分離には、付加的な費
用が必要とされる。
【0003】西ドイツ国特許出願公告第2035619
号明細書に記載の方法を改善することが試みられた。反
応体の混合物に反応促進剤を添加することによって、約
6時間への装入時間の短縮化は、惹起することができた
。しかしながら、収率および使用すべき反応温度に関し
ては、何ら改善が達成されなかった(米国特許第440
1826号明細書)。
号明細書に記載の方法を改善することが試みられた。反
応体の混合物に反応促進剤を添加することによって、約
6時間への装入時間の短縮化は、惹起することができた
。しかしながら、収率および使用すべき反応温度に関し
ては、何ら改善が達成されなかった(米国特許第440
1826号明細書)。
【0004】相応するチオアセトシラン化合物と、アル
コールとの反応によるメルカプトシランの製造方法は、
この方法の収率の低さおよび使用可能性の制約のために
何ら技術的意味を生じなかった(米国特許第36328
26号、第3565937号、第3565935号明細
書、西ドイツ国特許出願公告第2038715号明細書
)。
コールとの反応によるメルカプトシランの製造方法は、
この方法の収率の低さおよび使用可能性の制約のために
何ら技術的意味を生じなかった(米国特許第36328
26号、第3565937号、第3565935号明細
書、西ドイツ国特許出願公告第2038715号明細書
)。
【0005】また、例えば、チオプロピオン酸−アミド
−シランから出発しかつ加圧水素添加によって相応する
メルカプトシランへ変換するような、メルカプトシラン
の製造方法は、何ら技術的意味を生じなかった。それと
いうのも得られた収率は不満足なものであったからであ
る(欧州特許第0018094号明細書)。同様にシア
ノアルキルシラン化合物を元素状硫黄または硫化水素の
存在下で水素添加し、かつこうしてメルカプトシランを
得るという試みは、何一つ満足するような収量成果をも
たらさなかった(米国特許第4012403号明細書)
。
−シランから出発しかつ加圧水素添加によって相応する
メルカプトシランへ変換するような、メルカプトシラン
の製造方法は、何ら技術的意味を生じなかった。それと
いうのも得られた収率は不満足なものであったからであ
る(欧州特許第0018094号明細書)。同様にシア
ノアルキルシラン化合物を元素状硫黄または硫化水素の
存在下で水素添加し、かつこうしてメルカプトシランを
得るという試みは、何一つ満足するような収量成果をも
たらさなかった(米国特許第4012403号明細書)
。
【0006】また、特殊なチオエーテルシランをフリー
デル−クラフツ−触媒を用いて意図的に分解することに
よってメルカプトシランを製造することも試みられた。 この方法は、相応する前駆物質の製造に費用がかかるた
めに経済的に実現不可能である(西ドイツ国特許第23
40886号明細書)。
デル−クラフツ−触媒を用いて意図的に分解することに
よってメルカプトシランを製造することも試みられた。 この方法は、相応する前駆物質の製造に費用がかかるた
めに経済的に実現不可能である(西ドイツ国特許第23
40886号明細書)。
【0007】エチレンジアミンおよび多量の重金属硫化
物の存在下での相応したハロゲン化オルガニルシラン化
合物と、硫化水素との変換によってメルカプトシランを
製造することは、種々の副生成物の形成をまねき、この
副生成物は、費用をかけてのみ目的生成物から分離する
ことができかつ2相の粗生成物系を生じ、この粗生成物
系の後処理は、西ドイツ国特許第3346910号明細
書に記載の問題を負っている(米国特許第384947
1号明細書も参照のこと)。
物の存在下での相応したハロゲン化オルガニルシラン化
合物と、硫化水素との変換によってメルカプトシランを
製造することは、種々の副生成物の形成をまねき、この
副生成物は、費用をかけてのみ目的生成物から分離する
ことができかつ2相の粗生成物系を生じ、この粗生成物
系の後処理は、西ドイツ国特許第3346910号明細
書に記載の問題を負っている(米国特許第384947
1号明細書も参照のこと)。
【0008】米国特許第3849471号明細書に記載
の方法に対するある程度の改善は、出発物質シランと、
硫化水素との変換を、ジアミンの存在下ではなく、アン
モニア、第1、第2または第3アミンの存在下、場合に
よっては付加的に極性のプロトン性または非プロトン性
媒体の存在下で行なうことにより達成される(米国特許
第4082790号明細書)。この方法の場合の欠点は
、反応体の変換に必要とされる反応温度を達成するため
に反応をオートクレーブ中で実施しなければならないと
いうことにある。反応を極性媒体の不在下で行なう場合
には、許容できる変換率を達成するために不経済にも長
い反応時間を甘受しなければならない。また、反応混合
物に極性媒体を添加することにより、反応時間それ自体
の極く僅かな短縮がもたらされるが;しかし、反応の副
生成物として生じる塩酸塩の上昇した可溶性のために、
西ドイツ国特許第3346910号明細書に記載されか
つ相応する費用のかかる手段によってのみ排除されうる
あらゆる困難が生じ、このことは、この方法に付加的に
負荷されている。
の方法に対するある程度の改善は、出発物質シランと、
硫化水素との変換を、ジアミンの存在下ではなく、アン
モニア、第1、第2または第3アミンの存在下、場合に
よっては付加的に極性のプロトン性または非プロトン性
媒体の存在下で行なうことにより達成される(米国特許
第4082790号明細書)。この方法の場合の欠点は
、反応体の変換に必要とされる反応温度を達成するため
に反応をオートクレーブ中で実施しなければならないと
いうことにある。反応を極性媒体の不在下で行なう場合
には、許容できる変換率を達成するために不経済にも長
い反応時間を甘受しなければならない。また、反応混合
物に極性媒体を添加することにより、反応時間それ自体
の極く僅かな短縮がもたらされるが;しかし、反応の副
生成物として生じる塩酸塩の上昇した可溶性のために、
西ドイツ国特許第3346910号明細書に記載されか
つ相応する費用のかかる手段によってのみ排除されうる
あらゆる困難が生じ、このことは、この方法に付加的に
負荷されている。
【0009】硫化水素と、エチレン性不飽和シランとを
UV線を用いてかまたは周期律表の第VIII副族の金
属の存在下で反応させることによるメルカプトシランの
製造は、僅かな収量の目的生成物を生じ;この反応は、
強い副生成物形成によって特徴付けられている(米国特
許第3890312号明細書、西ドイツ国特許出願公告
第1000817号明細書)。
UV線を用いてかまたは周期律表の第VIII副族の金
属の存在下で反応させることによるメルカプトシランの
製造は、僅かな収量の目的生成物を生じ;この反応は、
強い副生成物形成によって特徴付けられている(米国特
許第3890312号明細書、西ドイツ国特許出願公告
第1000817号明細書)。
【0010】更に、アルカリ金属硫化水素化物と、ハロ
ゲン化アルキルシランとをメタノール性媒体中で相応す
るメルカプトシランに変換することは記載されている(
英国特許第1102251号明細書)。この方法は、高
い変換率の達成のため並外れて長い反応時間が必要とさ
れ、この場合に得られた収率が満足できないものである
ことによって特徴付けられている。反応時間の短縮およ
び収率の上昇に関連する方法の改善は、硫化水素を同時
に導入しながら反応を進行させることにより達成される
。粗製生成物の後処理は、飽和するまで反応混合物中に
溶解された硫化水素の除去および蒸溜による後処理の際
にアルカリ金属塩化物の不断の沈殿により生ずる困難に
関連して依然として問題を残す。
ゲン化アルキルシランとをメタノール性媒体中で相応す
るメルカプトシランに変換することは記載されている(
英国特許第1102251号明細書)。この方法は、高
い変換率の達成のため並外れて長い反応時間が必要とさ
れ、この場合に得られた収率が満足できないものである
ことによって特徴付けられている。反応時間の短縮およ
び収率の上昇に関連する方法の改善は、硫化水素を同時
に導入しながら反応を進行させることにより達成される
。粗製生成物の後処理は、飽和するまで反応混合物中に
溶解された硫化水素の除去および蒸溜による後処理の際
にアルカリ金属塩化物の不断の沈殿により生ずる困難に
関連して依然として問題を残す。
【0011】
【発明が解決しょうとする課題】従って、本発明の課題
は、公知方法の欠点が排除されるようにメルカプトシラ
ンを製造すること、即ち、安価な原料を使用した際に工
業的に僅かな費用で高い空時収量を生じかつこの際に粗
製生成物の後処理が晶出された塩および後混濁する生成
物溜出物によって特徴付けられないような方法を見い出
すことであった。
は、公知方法の欠点が排除されるようにメルカプトシラ
ンを製造すること、即ち、安価な原料を使用した際に工
業的に僅かな費用で高い空時収量を生じかつこの際に粗
製生成物の後処理が晶出された塩および後混濁する生成
物溜出物によって特徴付けられないような方法を見い出
すことであった。
【0012】
【課題を解決するための手段】この課題は、反応体の変
換を極性の非プロトン性媒体の存在下に進行させること
によって特徴付けられるような、相応するハロゲン化オ
ルガニルシラン化合物と、アルカリ金属硫化水素化物と
の反応によるメルカプトシランの製造方法を見い出すこ
とで満たされる。
換を極性の非プロトン性媒体の存在下に進行させること
によって特徴付けられるような、相応するハロゲン化オ
ルガニルシラン化合物と、アルカリ金属硫化水素化物と
の反応によるメルカプトシランの製造方法を見い出すこ
とで満たされる。
【0013】本発明による方法を用いる場合に上述の欠
点は回避される。意外なことに、反応体の変換は最も短
い反応時間で、並外れて高い空時収量に至るような高い
収量の達成を生ずることを示している。
点は回避される。意外なことに、反応体の変換は最も短
い反応時間で、並外れて高い空時収量に至るような高い
収量の達成を生ずることを示している。
【0014】本方法は、一般式
【0015】
【化3】
【0016】〔式中、Rは、1〜8個のC原子を有する
アルキレン基、アルカリーレン基 アリールアルキレン基または アリール基であってよく、R1は、0原子によって中断
されていてよい1〜6個のC原子を有するアルキル基ま
たはアリール基であってよく、R2は、1〜8個のC原
子を有するアルキル基、アリール基、アルカリール基ま
たはアルアルキル基であってよく、pは、0〜3の整数
を表し、aは、1〜3の整数であってよい〕および一般
式:
アルキレン基、アルカリーレン基 アリールアルキレン基または アリール基であってよく、R1は、0原子によって中断
されていてよい1〜6個のC原子を有するアルキル基ま
たはアリール基であってよく、R2は、1〜8個のC原
子を有するアルキル基、アリール基、アルカリール基ま
たはアルアルキル基であってよく、pは、0〜3の整数
を表し、aは、1〜3の整数であってよい〕および一般
式:
【0017】
【化4】
【0018】〔式中、a、R、R1およびR2は上記の
意味を有し、bは2または3であり、pは0、1または
2を表してよく、この場合にはb+P≦4である〕で示
されるメルカプトシランの製造の際に使用することがで
きる。前記の一般式に相応する化合物(但し、HS基は
、塩素−または臭素原子によって代替されているものと
する)とアルカリ金属硫化水素化物との極性の非プロト
ン性媒体の存在下での反応によって、望ましいメルカプ
トシランは得られる。以下の化合物が本発明による方法
によって有利に製造される: 3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン3−メルカ
プトプロピルトリエトキシシラン3−メルカプトプロピ
ルメチルジメトキシシラン2−メルカプトエチルトリエ
トキシシラン2−メルカプトエチルメチルジエトキシシ
ランメルカプトメチルトリメトキシシラン 3−メルカプトプロピルジメチルメトキシシラン。
意味を有し、bは2または3であり、pは0、1または
2を表してよく、この場合にはb+P≦4である〕で示
されるメルカプトシランの製造の際に使用することがで
きる。前記の一般式に相応する化合物(但し、HS基は
、塩素−または臭素原子によって代替されているものと
する)とアルカリ金属硫化水素化物との極性の非プロト
ン性媒体の存在下での反応によって、望ましいメルカプ
トシランは得られる。以下の化合物が本発明による方法
によって有利に製造される: 3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン3−メルカ
プトプロピルトリエトキシシラン3−メルカプトプロピ
ルメチルジメトキシシラン2−メルカプトエチルトリエ
トキシシラン2−メルカプトエチルメチルジエトキシシ
ランメルカプトメチルトリメトキシシラン 3−メルカプトプロピルジメチルメトキシシラン。
【0019】本方法は以下のような化合物の製造にとっ
ても好適である: p−メルカプトフェニルトリメトキシシランp−(メル
カプトメチル)フェニルトリメトキシシラン2−(p−
メルカプトフェニル−)エチルトリメトキシシラン 3−メルカプトプロピルエチルジメトキシシラン3−メ
ルカプトプロピルフェニルジメトキシシラン3−メルカ
プトプロピル(2−フェニルエチル)ジメトキシシラン 2−メルカプトエチルジメチルメトキシシラン3−メル
カプトプロピルトリメチルシラン1,3−ジメルカプト
プロピルトリメトキシシラン2,4−ジメルカプトブチ
ルメチルジメトキシシラン1,2−ジメルカプトエチル
トリメトキシシラン2−(m,p−ジメルカプトフェニ
ル)エチルトリメトキシシラン メルカプトメチルジメチルメトキシシランメルカプトプ
ロピルジメチルメトキシシランメルカプトメチルトリメ
チルシラン ジ(3−メルカプトプロピル)ジメトキシシラン3−メ
ルカプトプロピル−2−メルカプトエチルジメトキシシ
ラン 1,2−ジメルカプトエチルジメチルメトキシシラン等
。
ても好適である: p−メルカプトフェニルトリメトキシシランp−(メル
カプトメチル)フェニルトリメトキシシラン2−(p−
メルカプトフェニル−)エチルトリメトキシシラン 3−メルカプトプロピルエチルジメトキシシラン3−メ
ルカプトプロピルフェニルジメトキシシラン3−メルカ
プトプロピル(2−フェニルエチル)ジメトキシシラン 2−メルカプトエチルジメチルメトキシシラン3−メル
カプトプロピルトリメチルシラン1,3−ジメルカプト
プロピルトリメトキシシラン2,4−ジメルカプトブチ
ルメチルジメトキシシラン1,2−ジメルカプトエチル
トリメトキシシラン2−(m,p−ジメルカプトフェニ
ル)エチルトリメトキシシラン メルカプトメチルジメチルメトキシシランメルカプトプ
ロピルジメチルメトキシシランメルカプトメチルトリメ
チルシラン ジ(3−メルカプトプロピル)ジメトキシシラン3−メ
ルカプトプロピル−2−メルカプトエチルジメトキシシ
ラン 1,2−ジメルカプトエチルジメチルメトキシシラン等
。
【0020】相応するハロゲン化オルガニルシラン化合
物と、アルカリ金属硫化水素化物との反応によるメルカ
プトシランの製造の際の本発明による効果を惹起させる
ために、窒素原子で2回置換した酸アミドの群に属する
ような極性の非プロトン性化合物の存在は、反応混合物
中で特に有効であることが判明した。本発明の範囲内で
好ましい化合物は、ジメチルホルムアミド、ジエチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミドおよびジエチルアセ
トアミドであり、この場合ジメチルホルムアミドは特別
な位置を占める。また、この置換された酸アミドの混合
物を使用することもできる。
物と、アルカリ金属硫化水素化物との反応によるメルカ
プトシランの製造の際の本発明による効果を惹起させる
ために、窒素原子で2回置換した酸アミドの群に属する
ような極性の非プロトン性化合物の存在は、反応混合物
中で特に有効であることが判明した。本発明の範囲内で
好ましい化合物は、ジメチルホルムアミド、ジエチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミドおよびジエチルアセ
トアミドであり、この場合ジメチルホルムアミドは特別
な位置を占める。また、この置換された酸アミドの混合
物を使用することもできる。
【0021】反応の進行にとって如何なる順序で反応体
が相互に作用するのかということは、本質的なことでは
ない。反応進行の有利な形は、アルカリ金属硫化水素化
物および極性の非プロトン性媒体を一緒に予め装入し、
シランを供給し、かつ反応体の混合物を適切な反応温度
で反応させることにある。
が相互に作用するのかということは、本質的なことでは
ない。反応進行の有利な形は、アルカリ金属硫化水素化
物および極性の非プロトン性媒体を一緒に予め装入し、
シランを供給し、かつ反応体の混合物を適切な反応温度
で反応させることにある。
【0022】反応は、連続的にも断続的にも実施するこ
とができ;有利には反応は断続的に行なわれる。連続的
な作業方法の場合、化学量論的割合を考慮してアルカリ
金属硫化水素化物の懸濁液は、シランおよび極性の非プ
ロトン性媒体からなる混合物で、適切な反応器中、例え
ばスクリューを備えた管状反応器中に供給され、かつ相
応する滞留時間の後に反応してメルカプトシランおよび
アルカリ金属塩化物に変わり駆出される。
とができ;有利には反応は断続的に行なわれる。連続的
な作業方法の場合、化学量論的割合を考慮してアルカリ
金属硫化水素化物の懸濁液は、シランおよび極性の非プ
ロトン性媒体からなる混合物で、適切な反応器中、例え
ばスクリューを備えた管状反応器中に供給され、かつ相
応する滞留時間の後に反応してメルカプトシランおよび
アルカリ金属塩化物に変わり駆出される。
【0023】本発明による方法の実施のために使用され
た極性の非プロトン性媒体の量は、使用されたシランの
少なくとも50容量%となる。有利には、80〜140
%の容量の割合が使用される。シランとの混合物中にお
ける極性の非プロトン性媒体の高い割合は欠点ではない
が、しかし沈殿する反応混合物の引き続く蒸溜による後
処理がを課されることとなる。
た極性の非プロトン性媒体の量は、使用されたシランの
少なくとも50容量%となる。有利には、80〜140
%の容量の割合が使用される。シランとの混合物中にお
ける極性の非プロトン性媒体の高い割合は欠点ではない
が、しかし沈殿する反応混合物の引き続く蒸溜による後
処理がを課されることとなる。
【0024】反応成分のシランとアルカリ金属硫化水素
化物とはモル比1:1で反応させるのが有利であること
が判明した。他のものと比べて1つの成分の僅かな過剰
量および不足量は、その都度の不足量の成分の変換に関
する収量に対して何ら本質的な影響はない。反応成分の
シランおよぴアルカリ金属硫化水素化物の反応は、有利
に0〜140℃の温度で実施される。目的生成物の収量
および反応容量の利用に関してその都度の最適な反応温
度は、使用されたシラン成分の構造に応じて変動する。 100〜120℃の反応温度を選択した際に本発明によ
る方法を使用した場合には、記載した方法を50%より
も下廻る反応時間が維持されるということを示した。1
20℃を上廻る反応温度を使用した場合には、僅かな収
量の劣化が生じ;100℃を下廻る反応温度を使用した
場合には、反応速度は減少する。
化物とはモル比1:1で反応させるのが有利であること
が判明した。他のものと比べて1つの成分の僅かな過剰
量および不足量は、その都度の不足量の成分の変換に関
する収量に対して何ら本質的な影響はない。反応成分の
シランおよぴアルカリ金属硫化水素化物の反応は、有利
に0〜140℃の温度で実施される。目的生成物の収量
および反応容量の利用に関してその都度の最適な反応温
度は、使用されたシラン成分の構造に応じて変動する。 100〜120℃の反応温度を選択した際に本発明によ
る方法を使用した場合には、記載した方法を50%より
も下廻る反応時間が維持されるということを示した。1
20℃を上廻る反応温度を使用した場合には、僅かな収
量の劣化が生じ;100℃を下廻る反応温度を使用した
場合には、反応速度は減少する。
【0025】本発明による方法の1つの特別な利点は、
反応が、反応体の変換のためにオートクレーブを必要と
するような別の方法とは異なり常圧で行なわれるという
点にある。このことは、硫化物の反応成分として本発明
による方法の場合に必要な反応温度で崩壊も昇華もしな
いような化合物が使用されるので可能である。
反応が、反応体の変換のためにオートクレーブを必要と
するような別の方法とは異なり常圧で行なわれるという
点にある。このことは、硫化物の反応成分として本発明
による方法の場合に必要な反応温度で崩壊も昇華もしな
いような化合物が使用されるので可能である。
【0026】さらに、意外なことに本発明による方法の
利点は、別の方法とは異なり、本発明による方法を用い
て1工程反応で高い収率を達成しながらメルカプト置換
反応は、ハロゲン原子が珪素原子に対してβ−位に存在
するオルガノ珪素−化合物を用いて実施されることがで
きるという点にある。この種のβ−ハロゲン原子の置換
の際に常法でエチレンの発生下に種々の規模および主と
して自然な反応で、目的生成物の収量を激減させるβ−
離脱生成物が形成されることは、公知である。
利点は、別の方法とは異なり、本発明による方法を用い
て1工程反応で高い収率を達成しながらメルカプト置換
反応は、ハロゲン原子が珪素原子に対してβ−位に存在
するオルガノ珪素−化合物を用いて実施されることがで
きるという点にある。この種のβ−ハロゲン原子の置換
の際に常法でエチレンの発生下に種々の規模および主と
して自然な反応で、目的生成物の収量を激減させるβ−
離脱生成物が形成されることは、公知である。
【0027】メルカプトシランは、絶えず割合を上昇さ
せながら、重合体と無機質の固体との間の付着助剤とし
ておよびシリコーンの変性の際に使用される。
せながら、重合体と無機質の固体との間の付着助剤とし
ておよびシリコーンの変性の際に使用される。
【0028】
【実施例】A)比較例
例1
撹拌機、還流冷却器、温度測定位置およびガス導入管を
装備する6リットル−ガラス2重壁フラスコに3−クロ
ルプロピルトリメトキシシラン2000g(10.1モ
ル)およびチオ尿素766g(10.1モル)を充填し
た。混合物を撹拌しながら110℃に加熱し、アンモニ
アの導入によってこの温度で反応させた。48時間後、
反応を中断させ、反応混合物を後処理した。3−メルカ
プトプロピルトリメトキシシランの収率は、使用した3
−クロルプロピルトリメトキシシランに対して、77%
であった。
装備する6リットル−ガラス2重壁フラスコに3−クロ
ルプロピルトリメトキシシラン2000g(10.1モ
ル)およびチオ尿素766g(10.1モル)を充填し
た。混合物を撹拌しながら110℃に加熱し、アンモニ
アの導入によってこの温度で反応させた。48時間後、
反応を中断させ、反応混合物を後処理した。3−メルカ
プトプロピルトリメトキシシランの収率は、使用した3
−クロルプロピルトリメトキシシランに対して、77%
であった。
【0029】例2
例1の装置中で、例1で規定された生成物量を用いての
反応をジメチルホルムアミド200gの添加の下に前記
の方法で実施した。7時間の反応時間の後、反応混合物
中で、ガスクロマトグラフィー分析によって、もはや3
−クロルプロピルトリメトキシシランは検出することが
できず;反応混合物の蒸溜的後処理により使用された3
−クロルプロピルトリメトキシシランに対して、78%
の3−メルカプトプロピルトリメトキシシランの収率が
得られる。
反応をジメチルホルムアミド200gの添加の下に前記
の方法で実施した。7時間の反応時間の後、反応混合物
中で、ガスクロマトグラフィー分析によって、もはや3
−クロルプロピルトリメトキシシランは検出することが
できず;反応混合物の蒸溜的後処理により使用された3
−クロルプロピルトリメトキシシランに対して、78%
の3−メルカプトプロピルトリメトキシシランの収率が
得られる。
【0030】例3
例1の装置中に3−クロルプロピルトリメトキシシラン
2000g(10.1モル)および硫化水素ナトリウム
566g(10.1モル)をメタノール400mlと共
に装入した。撹拌しながら混合物を加熱し、この場合同
時にフラスコ内の温度が110℃に上昇するまで、接続
された水流ポンプを用いてメタノールを溜去した。この
温度で反応を続行させ;1時間毎にフラスコから対照試
料を取り出し、ガスクロマトグラフィーで検査した。反
応は約5時間後に途絶えたことが示され、この場合約6
5%の変換率が達成され、変換に対して収率は約47%
である。
2000g(10.1モル)および硫化水素ナトリウム
566g(10.1モル)をメタノール400mlと共
に装入した。撹拌しながら混合物を加熱し、この場合同
時にフラスコ内の温度が110℃に上昇するまで、接続
された水流ポンプを用いてメタノールを溜去した。この
温度で反応を続行させ;1時間毎にフラスコから対照試
料を取り出し、ガスクロマトグラフィーで検査した。反
応は約5時間後に途絶えたことが示され、この場合約6
5%の変換率が達成され、変換に対して収率は約47%
である。
【0031】例4
例1の装置中で反応を例3で規定された使用生成物量を
用いて、テトラブチル臭化アンモニウム80gの添加の
下、例3に記載の方法で実施した。2時間の反応時間の
後に使用したシラン量の4%が初めて反応したことが示
された。その結果反応を中断した。
用いて、テトラブチル臭化アンモニウム80gの添加の
下、例3に記載の方法で実施した。2時間の反応時間の
後に使用したシラン量の4%が初めて反応したことが示
された。その結果反応を中断した。
【0032】例5
例1の装置中で、2−クロルエチルトリエトキシシラン
2000g(8.8モル)およびチオ尿素670g(8
.8モル)を装置入し、かつ例1記載の方法で反応させ
た。
2000g(8.8モル)およびチオ尿素670g(8
.8モル)を装置入し、かつ例1記載の方法で反応させ
た。
【0033】反応されずに通過するアンモニアガスの反
応媒体は、2−クロルエチルトリエトキシシランのβ−
崩壊に由来するエチレンで著しく汚染されている。ガス
クロマトグラフィーで測定された2−メルカプトエチル
トリエトキシシランの収率は、シラン成分の使用に対し
て約24%となる。
応媒体は、2−クロルエチルトリエトキシシランのβ−
崩壊に由来するエチレンで著しく汚染されている。ガス
クロマトグラフィーで測定された2−メルカプトエチル
トリエトキシシランの収率は、シラン成分の使用に対し
て約24%となる。
【0034】例6
例1の装置中にp−ブロムフェニルトリメトキシシラン
2000g(6.35モル)、チオ尿素485g(6.
35モル)およびジメチルホルムアミド400mlを装
入し、例1に記載の方法で反応させた。48時間の反応
の後、反応混合物中で、化合物のp−メルカプトフェニ
ルトリメトキシシランは確認されることはできない。
2000g(6.35モル)、チオ尿素485g(6.
35モル)およびジメチルホルムアミド400mlを装
入し、例1に記載の方法で反応させた。48時間の反応
の後、反応混合物中で、化合物のp−メルカプトフェニ
ルトリメトキシシランは確認されることはできない。
【0035】例7
例1の装置中に1,3−ジクロルプロピルトリメトキシ
シラン2000g(8.6モル)およびチオ尿素130
7g(8.6モル)を装入し、例1に記載の方法で反応
させた。48時間の反応の後、反応を中断させ、反応混
合物を後処理した。化合物の1,3−ジメルカプトプロ
ピルトリメトキシシランは、検出されることはできない
。
シラン2000g(8.6モル)およびチオ尿素130
7g(8.6モル)を装入し、例1に記載の方法で反応
させた。48時間の反応の後、反応を中断させ、反応混
合物を後処理した。化合物の1,3−ジメルカプトプロ
ピルトリメトキシシランは、検出されることはできない
。
【0036】B)本発明による例
例8
例1の装置中に硫化水素ナトリウム566g(10.1
モル)をジメチルホルムアミド2400gと共に装入し
た。60分間で3−クロルプロピルトリメトキシシラン
2000g(10.1モル)を撹拌しながら添加し、こ
の場合フラスコ内容物は約100℃に加熱した。後加熱
によって温度を110℃に上げ、この値を維持した。1
5分間隔で、反応混合物から試料を取り出し、これをガ
スクロマトグラフィーで検査した。すでに75分の反応
時間の経過後に、使用されたシラン化合物は痕跡しか検
出することができなかった。反応−粗混合物の蒸溜的後
処理により、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ンの84%の収率が得られた。
モル)をジメチルホルムアミド2400gと共に装入し
た。60分間で3−クロルプロピルトリメトキシシラン
2000g(10.1モル)を撹拌しながら添加し、こ
の場合フラスコ内容物は約100℃に加熱した。後加熱
によって温度を110℃に上げ、この値を維持した。1
5分間隔で、反応混合物から試料を取り出し、これをガ
スクロマトグラフィーで検査した。すでに75分の反応
時間の経過後に、使用されたシラン化合物は痕跡しか検
出することができなかった。反応−粗混合物の蒸溜的後
処理により、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ンの84%の収率が得られた。
【0037】例9
例1の装置中に硫化水素ナトリウム493g(8.8モ
ル)をジメチルホルムアミド2400gと共に装入した
。10分間で2−クロルエチルトリエトキシシラン20
00g(8.8モル)を滴下瀘斗上で撹拌しながら添加
し、この場合フラスコ内容物の温度は90℃に上昇した
。後加熱の後にフラスコ内容物を110℃に加熱し、こ
の温度を維持した(11時間)。約98%の変換率で7
9%の2−メルカプトエチルトリエトキシシランの収率
を得た。
ル)をジメチルホルムアミド2400gと共に装入した
。10分間で2−クロルエチルトリエトキシシラン20
00g(8.8モル)を滴下瀘斗上で撹拌しながら添加
し、この場合フラスコ内容物の温度は90℃に上昇した
。後加熱の後にフラスコ内容物を110℃に加熱し、こ
の温度を維持した(11時間)。約98%の変換率で7
9%の2−メルカプトエチルトリエトキシシランの収率
を得た。
【0038】例10
例1の装置中に硫化水素ナトリウム566g(10.1
モル)をジメチルホルムアミド2400gと共に装入し
た。30分間で撹拌しながら3−クロルプロピルメチル
ジメトキシシラン1844g(10.1モル)を懸濁液
に供給した。この際温度はフラスコ内で100℃に上昇
した。フラスコ内容物を更に2時間110℃で維持し、
引き続きガスクロマトグラフィーで検査した。98%を
上廻る変換率の場合、76%を上廻る3−メルカプトプ
ロピルメチルジメトキシシランの収率を測定した。
モル)をジメチルホルムアミド2400gと共に装入し
た。30分間で撹拌しながら3−クロルプロピルメチル
ジメトキシシラン1844g(10.1モル)を懸濁液
に供給した。この際温度はフラスコ内で100℃に上昇
した。フラスコ内容物を更に2時間110℃で維持し、
引き続きガスクロマトグラフィーで検査した。98%を
上廻る変換率の場合、76%を上廻る3−メルカプトプ
ロピルメチルジメトキシシランの収率を測定した。
【0039】例11
例1の装置中に硫化水素ナトリウム356g(6.35
モル)をジメチルホルムアミド1500gと共に装入し
た。30分間でp−ブロムフエニルトリメトキシシラン
2000g(6.35モル)を撹拌しながら添加した。 この際フラスコ内容物を95℃に加熱した。すでに11
0〜130℃で3時間の反応時間後に化合物のp−メル
カプトフェニルトリメトキシシランはガスクロマトグラ
ム中に確認されることができた。
モル)をジメチルホルムアミド1500gと共に装入し
た。30分間でp−ブロムフエニルトリメトキシシラン
2000g(6.35モル)を撹拌しながら添加した。 この際フラスコ内容物を95℃に加熱した。すでに11
0〜130℃で3時間の反応時間後に化合物のp−メル
カプトフェニルトリメトキシシランはガスクロマトグラ
ム中に確認されることができた。
【0040】例12
例1の装置中に硫化水素ナトリウム730g(13.0
モル)をジメチルホルムアミド2400gと共に装入し
た。90分間で1,3−ジクロルプロピルトリメトキシ
シラン1515g(6.5モル)を撹拌しながら添加し
、この場合、温度がフラスコ内で100℃を越えないよ
うに冷却によって調節した。後反応段階で、110℃で
反応を完結させ、引き続き反応混合物の後処理を行なっ
た。95%の変換率に対する1,3−ジメルカプトプロ
ピルトリエトキシシランの収率は76.2%となった。
モル)をジメチルホルムアミド2400gと共に装入し
た。90分間で1,3−ジクロルプロピルトリメトキシ
シラン1515g(6.5モル)を撹拌しながら添加し
、この場合、温度がフラスコ内で100℃を越えないよ
うに冷却によって調節した。後反応段階で、110℃で
反応を完結させ、引き続き反応混合物の後処理を行なっ
た。95%の変換率に対する1,3−ジメルカプトプロ
ピルトリエトキシシランの収率は76.2%となった。
【0041】例13
例1の装置中に硫化水素ナトリウム730g(13.0
モル)をジメチルホルムアミド2400gと共に装入し
た。45分間でビス(3−クロルプロピル)ジメトキシ
シラン1593g(6.5モル)を撹拌しながら添加し
、この場合温度をフラスコ内で84℃に上昇させた。 120℃で3時間30分の反応時間の後に、反応混合物
を後処理した。99%の変換率に対して、ビス(3−メ
ルカプトプロピル)ジメトキシシランの収率は86%と
なった。
モル)をジメチルホルムアミド2400gと共に装入し
た。45分間でビス(3−クロルプロピル)ジメトキシ
シラン1593g(6.5モル)を撹拌しながら添加し
、この場合温度をフラスコ内で84℃に上昇させた。 120℃で3時間30分の反応時間の後に、反応混合物
を後処理した。99%の変換率に対して、ビス(3−メ
ルカプトプロピル)ジメトキシシランの収率は86%と
なった。
Claims (6)
- 【請求項1】 一般式: 【化1】 〔式中、Rは1〜8個のC原子を有するアルキレン基、
アルカリーレン基、アリールアルキレン基またはアリー
ル基であってよく、R1は0原子によって中断されてい
てよい1〜6個のC原子を有するアルキル基またはアリ
ール基であってよく、R2は1〜8個のC原子を有する
アルキル基、アリール基アルカリール基またはアルアル
キル基であってよく、pは0〜3の整数を表し、aは1
〜3の整数であってよい〕および一般式:【化2】 〔式中、a、R、R1およびR2は上記の意味を有し、
bは2または3であり、pは0,1または2を意味して
よく、この場合には、b+p≦である〕で示されるメル
カプトシランを、前記の一般式に相応する化合物(この
場合HS基は塩素原子または臭素原子によって代替され
ている)と、アルカリ金属硫化水素化物との反応によっ
て製造する方法において、反応体の変換を極性の非プロ
トン性媒体の存在下で進行させることを特徴とする、メ
ルカプトシランの製造法。 - 【請求項2】 極性の非プロトン性媒体としてN,N
−置換されたジアルキルアシルアミドを使用する、請求
項1記載の方法。 - 【請求項3】 極性の非プロトン性媒体としてジメチ
ルホルムアミドを使用する、請求項2記載の方法。 - 【請求項4】 極性の非プロトン性媒体を、使用され
たシランに対して、50〜140容量%の量で使用する
、請求項1から3までのいずれか1項記載の方法。 - 【請求項5】 反応を0〜140℃、有利に100〜
120℃の温度範囲内で実施する、請求項1から4まで
のいずれか1項記載の方法。 - 【請求項6】 シランおよびアルカリ金属硫化水素化
物をモル比1:1で反応させる、請求項1から5までの
いずれか1項記載の方法。
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DE4025866A DE4025866A1 (de) | 1990-08-16 | 1990-08-16 | Verfahren zur herstellung von mercaptosilanen |
DE4025866.1 | 1990-08-16 |
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---|---|
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2009515968A (ja) * | 2005-11-16 | 2009-04-16 | モーメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・インク | メルカプトアルコキシシランの調製方法 |
JP2013181029A (ja) * | 2012-03-05 | 2013-09-12 | Daiso Co Ltd | 高純度のメルカプトシラン化合物の製造法。 |
JP2014108922A (ja) * | 2012-11-30 | 2014-06-12 | Daiso Co Ltd | 有機珪素化合物の混合物およびゴム組成物 |
JP2014108923A (ja) * | 2012-11-30 | 2014-06-12 | Daiso Co Ltd | 有機珪素化合物 |
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DE19860439C1 (de) * | 1998-12-28 | 2000-07-06 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von Silylalkylthiolen |
DE19950608A1 (de) | 1999-10-21 | 2001-05-03 | Degussa | Organosiliziumverbindung, Verfahren zu ihrer Herstellung und deren Verwendung |
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US6384255B1 (en) | 2001-06-29 | 2002-05-07 | Dow Corning Corporation | Process for the preparation of sulfur-containing organosilicon compounds |
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FR2830014B1 (fr) * | 2001-09-21 | 2005-02-18 | Rhodia Chimie Sa | Procede d'obtention de monoorganoxysilanes halogenes utilisables notamment en tant qu'intermediaires de synthese |
DE10326538A1 (de) | 2003-06-12 | 2005-01-05 | Institut für Neue Materialien Gemeinnützige GmbH | Abriebfeste optische Schichten und Formkörper |
DE10351735B3 (de) | 2003-11-06 | 2004-12-09 | Degussa Ag | Verfahren zur Herstellung von (Mercaptoorganyl)-alkoxysilanen |
DE10351736B3 (de) | 2003-11-06 | 2005-01-13 | Degussa Ag | Verfahren zur Herstellung von (Mercaptoorganyl)-alkoxysilanen |
DE102004030737A1 (de) * | 2004-06-25 | 2006-01-12 | Degussa Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Extraktion von Stoffen aus silanmodifizierten Füllstoffen |
DE102005052233A1 (de) | 2005-03-07 | 2006-09-21 | Degussa Ag | Verfahren zur Herstellung von Organosilanen |
DE102005020535B3 (de) | 2005-05-03 | 2006-06-08 | Degussa Ag | Verfahren zur Herstellung von Mercaptoorganyl(alkoxysilanen) |
DE102005038791A1 (de) | 2005-08-17 | 2007-02-22 | Degussa Ag | Organosiliciumverbindungen, ihre Herstellung und ihre Verwendung |
DE102005060122A1 (de) | 2005-12-16 | 2007-06-21 | Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von (Mercaptoorganyl)alkylpolyethersilanen |
DE102006027235A1 (de) | 2006-06-09 | 2008-01-17 | Evonik Degussa Gmbh | Kautschukmischungen |
DE102006041356A1 (de) | 2006-09-01 | 2008-03-20 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Organosilanen |
DE102007050199A1 (de) * | 2007-10-20 | 2009-04-23 | Evonik Degussa Gmbh | Entfernung von Fremdmetallen aus anorganischen Silanen |
EP2557083A1 (de) | 2011-08-12 | 2013-02-13 | LANXESS Deutschland GmbH | Vernetzte Organosilizium-polysulfide |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1102251A (en) * | 1964-02-04 | 1968-02-07 | Union Carbide Corp | Treatment of metal surfaces |
US3590065A (en) * | 1969-07-18 | 1971-06-29 | Dow Corning | Method of preparing mercaptoalkylalkoxy silanes |
USRE28129E (en) * | 1969-07-18 | 1974-08-20 | Method of preparing mercapto- alkylalkoxy silanes | |
US3849471A (en) * | 1972-12-14 | 1974-11-19 | Union Carbide Corp | Process for reacting weak acids with chloroalkyl substituted silicon compounds |
US4082790A (en) * | 1974-12-11 | 1978-04-04 | Dow Corning Corporation | Method of preparing mercaptans |
US4217294A (en) * | 1979-03-30 | 1980-08-12 | Union Carbide Corporation | Method for producing mercaptan-containing organosilicon compounds |
DE3346910C1 (de) * | 1983-12-24 | 1985-05-02 | Dynamit Nobel Ag, 5210 Troisdorf | Verfahren zur Herstellung von Mercaptoalkylsilanen |
JPS63156794A (ja) * | 1986-12-19 | 1988-06-29 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 新規ω−メルカプトアルキルシラン及びその製法 |
-
1990
- 1990-08-16 DE DE4025866A patent/DE4025866A1/de not_active Withdrawn
-
1991
- 1991-06-17 ES ES91109869T patent/ES2080192T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1991-06-17 DE DE59106899T patent/DE59106899D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-06-17 EP EP91109869A patent/EP0471164B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1991-07-31 US US07/738,348 patent/US5107009A/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-08-15 JP JP3205021A patent/JP2815496B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009515968A (ja) * | 2005-11-16 | 2009-04-16 | モーメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・インク | メルカプトアルコキシシランの調製方法 |
JP2013181029A (ja) * | 2012-03-05 | 2013-09-12 | Daiso Co Ltd | 高純度のメルカプトシラン化合物の製造法。 |
JP2014108922A (ja) * | 2012-11-30 | 2014-06-12 | Daiso Co Ltd | 有機珪素化合物の混合物およびゴム組成物 |
JP2014108923A (ja) * | 2012-11-30 | 2014-06-12 | Daiso Co Ltd | 有機珪素化合物 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
DE4025866A1 (de) | 1992-02-20 |
US5107009A (en) | 1992-04-21 |
JP2815496B2 (ja) | 1998-10-27 |
DE59106899D1 (de) | 1995-12-21 |
ES2080192T3 (es) | 1996-02-01 |
EP0471164A1 (de) | 1992-02-19 |
EP0471164B1 (de) | 1995-11-15 |
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