JPH0425611Y2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0425611Y2
JPH0425611Y2 JP1986056035U JP5603586U JPH0425611Y2 JP H0425611 Y2 JPH0425611 Y2 JP H0425611Y2 JP 1986056035 U JP1986056035 U JP 1986056035U JP 5603586 U JP5603586 U JP 5603586U JP H0425611 Y2 JPH0425611 Y2 JP H0425611Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
measured
light
laser scanning
scanning surface
opposing wall
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP1986056035U
Other languages
English (en)
Other versions
JPS62168411U (ja
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP1986056035U priority Critical patent/JPH0425611Y2/ja
Publication of JPS62168411U publication Critical patent/JPS62168411U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPH0425611Y2 publication Critical patent/JPH0425611Y2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、被測定物の外形寸法などを測定する
寸法測定装置に関する。
〔従来の技術〕
投光部のレーザ光源からレーザ光を走査させて
被測定物に照射し、照射した光を投光部で集光し
て被測定物によつて散乱された光量の変化特性か
ら被測定物の寸法を非接触で測定する装置が提案
されている。(第3図と第4図参照) このタイプの装置では投光部Xと受光部Yの間
に凹部Zを形成してあり、この凹部Zに長体状の
被測定物Bを矢印方向に通してレーザ光の走査面
LSを貫通させている。
〔考案が解決しようとする問題点〕
ところが、第3図や第4図の装置では長体状の
被測定物B(たとえばガラスフアイバなど)をレ
ーザー走査面LSに通してその外径寸法を測定す
るのは容易であるが、短体状の被測定物(たとえ
ば磁気ヘツドなど)をレーザ走査面LSに通して
外径寸法を測定するのが難しい。
この考案は上記問題点を解消して、長体状およ
び短体状の被測定物の外径寸法を測定できる寸法
測定装置を提供することを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
第2図a,b,cを参照すると、この考案は、
投光部よりレーザ光を走査させて被測定物に照射
し、被測定物に照射した光を受光部で集光し、被
測定物によつて散乱された光量の変化特性から被
測定物の寸法を被接触測定する寸法測定装置にお
いて、 投光部2外筐と受光部3外筐とは、間隔を置い
て対設されるとともにその外筐の対向壁面間の一
側の隅部は結合体26によつて結合されており、
該対向壁面間の他側には、レーザ走査面LSが形
成され、さらに、該対向壁面間には、該測定物が
レーザ走査面LSを貫通するように、レーザ走査
面LSを法線方向に通過する一方の切欠き30と、
レーザ走査面LSを水平線方向に通過する他方の
切欠き40とが、該対向壁面と結合体26の外周
壁面により凹欠溝状に形成されていることを特徴
としている。
〔作用〕
長体状の被測定物Bは、レーザ走査面LSを貫
通するように法線方向(P方向)に通過する。短
体状の被測定物Cは、れーざ走査面LSを横切る
ように水平方向(θ方向)に通過する。
〔実施例〕
第1図は、第1の実施例を示している。
寸法測定装置1は、投光部2、受光部3および
投光部2と受光部3との間に設けられた測定部4
を有している。
投光部2には移動テーブル5(基板)が内蔵さ
れている。移動テーブル5はボールねじ6に取付
けられており、モータ7の正逆転により案内部材
12に沿つて矢印A方向に所定量移動可能であ
る。すなわちモータ7のプーリ8とボールねじ6
のプーリ9とはたとえば段付きベルト10により
連動できるようになつている。このモータ7はド
ライバコントローラ11により回転方向と回転時
間が制御される。案内部材12、ボールねじ6、
モータ7、プーリ8,9および段付きベルト10
は案内手段を構成している。
移動テーブル5上には光源であるHe−Neレー
ザ13、ビームエキスパンダー14、ミラー1
5、偏向器16、レンズ17、ハーフミラー1
8、ミラー19およびモニタ系20が設定してあ
る。なお、ロツク機構25は移動テーブル5の移
動をルツクできるものである。ルツクされた時
は、その信号がドライバコントローラ11に与え
られてモータ7は回転しない。
He−Neレーザ13の光はビームエキスパンダ
ー14により拡げられたあとミラー15により反
射されて偏向器16に至る。偏向器16は音又形
のもので偏向器16からレンズ17を通つた偏向
されたビーム、たとえば500Hzの平行な振動スポ
ツトとして光軸に沿つて平行に走査される。この
光軸は移動テーブル5の移動方向Aに沿つてい
る。
レンズ17は偏向器16の反射位置を焦点とし
ており、レンズ17を通つた走査ビームはハーフ
ミラー18とミラー19により2つに分割され
る。
ハーフミラー18から固定ミラーM1により反
射された走査ビームは、被測定物Bの直径軸S上
に収斂する(ビームウエストを形成する)。そし
て集光レンズ20を通り受光器D1に集光され
る。
また、ミラー19から固定ミラーM2により反
射された走査ビームは、被測定物Bのエツジ付近
のみを走査する。そして集光レンズ21を通り受
光器D2に集光される。受光器D1,D2は被測
定物により散乱されたビームの光量の変化特性を
とらえる。
受光素子D1,D2の受光信号S1,S2から
得られる被測定物Bのエツジ位置の測定値l1,l2
に予め判明しているビーム中心間距離Lを加える
ことで被測定物Bの外径寸法Dを知ることができ
る。
モータ7を駆動して案内部材12に沿つて移動
テーブル5を矢印A方向に動かすことで、ハー
フ、ミラー18とミラー19は、固定ミラーM
1,M2に対して相対的に移動する。すなわち、
ハーフミラー18とミラー19にそれぞれ反射さ
れビーム光は、固定ミラーM1,M2の反射表面
に沿つて移動する。このとき、ハーフミラー18
と固定ミラーM1を平行に、そしてミラー19と
固定ミラーM2を平行にしておくと、移動テーブ
ル5の移動量は、ビーム収斂位置Pの直径軸Sに
沿う横ずれに変換される。すなわち、移動テーブ
ル5の移動距離lは中心間距離2lの変化とな
る。さらに、レンズ17から直径軸Sまでの光軸
に沿う距離は、移動テーブル5の移動量の大小に
かかわらず一定に保たれる。したがつてレンズ1
7によるビームの収斂位置Pは常に直径軸S上に
ある。
なお、移動に伴つて移動テーブル5が回転して
も2つのビームの平行度は保たれる。また、一方
のビームに着目しても移動テーブル5の回転θ
は、「シフト量+2θ」の位置ずれを生じさせるが、
直径軸S以上からのずれは(シフト量×tan2θ)
で非常に小さい。したがつてハーフミラー18と
固定ミラーM1、ミラー19と固定ミラーM1を
それぞれ平行に必ずしもしなくてもよい。
このように、ビームに収斂位置Pは常に直径軸
S上にあり、光軸方向にずれることがな測定の分
解能が低下しない。
本考案の要部である寸法測定装置の形状は第2
図に示すようになつている。
投光部2外筐と受光部3外筐は、間隔を置いて
対設され、その外筐の対向壁面間の一側の下隅部
は断面角形の結合体26によつて結合されてい
る。該対向壁面間の他側の上隅部にはレーザ走査
面LSが形成され、測定部4となつている。さら
に、該外向壁面間には、対向壁面と結合体26の
前壁面により凹欠溝状に法線方向(矢印P方向)
に貫通する一方の切欠き30と、対向壁面と結合
体26の上壁面により凹欠溝状に水平方向(矢印
Q方向)に貫通する他方の切欠き40とが形成さ
れている。
これにより、被測定物Bが一方の切欠き30内
を通つてレーザの走査面LSを貫通するようにそ
の法線方向(矢印P方向)に通過できるととも
に、被測定物Cが他方の切欠き40内を通つてレ
ーザ走査面と水平方向(矢印Q方向)に横切るこ
とができるようになつている。
被測定物Bは、ガラスフアイバや金属線などの
長体状のものである。また被測定物Cは磁気ヘツ
ドなどの短体状のものである。
被測定物Cは好ましくはベルトコンベアなどの
搬送体50にのせて順次レーザの走査面LSを正
確に横切らせるようにすれば大量の被測定物Cの
外径寸法を測定できる。
ところでこの考案は第1の実施例に限定され
ず、第1の実施例ではダブルビーム方式である
が、単ビーブ方式のものでもよい。すなわち一つ
の走査ビームを被測定物B,Cに照射する方式の
ものである。
〔考案の効果〕 以上説明したように、本考案によれば、投光部
2外筐と受光部3外筐の、対向壁面間の一側の隅
部を結合体26によつて結合し、該対向壁面間の
他側にはレーザ走査面LSを形成するとともに、
被測定物がレーザ走査面LSを貫通するように、
レーザ走査面LSを法線方向に通過する一方の切
欠き30と、レーザ走査面LSを水平線方向に通
過する他方の切欠き線40とを形成させるように
したので、長体状の被測定物Bは上記一方の切欠
き30を通過させて、また短体状の被測定物Cは
上記他方の切欠き40を通過させて、夫々その寸
法を効率良く測定できる。
また、被測定物B,Cを夫々通過させてその寸
法を測定する上記一方及び他方の切欠き30,4
0は、いずれも、対向壁面と結合体26の外周壁
面により凹欠溝状に形成されているので、被測定
物B,Cの通過測定位置が規制されて、づれると
いうことがなく、正確な測定が可能となり、ま
た、両端部が予じめ固定されているような被測定
物、又は本体が一方及び他方の切欠き30,40
の外にあるような被測定物のエツジ部物でも、容
易に一方及び他方の切欠き30,40内に側方開
口から挿入させてその寸法を測定させることがで
きる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この考案の寸法測定装置の内部構造
を示す図、第2図a,b,cは同装置の外部構造
を示す斜視図、第3図と第4図は従来の寸法測定
装置の外部構造を示す斜視図である。 1……寸法測定装置、2……投光部、3……受
光部、4……測定部、26……結合体、30……
一方の切欠き、40……他方の切欠き、B,C…
…被測定物。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 投光部よりレーザ光を走査させて被測定物に照
    射し、被測定物に照射した光を受光部で集光し、
    被測定物によつて散乱された光量の変化特性から
    被測定物の寸法を被接触測定する寸法測定装置に
    おいて、 投光部2外筐と受光部3外筐とは、間隔を置い
    て対設されるとともにその外筐の対向壁面間の一
    側の隅部は結合体26によつて結合されており、
    該対向壁面間の他側には、レーザ走査面LSが形
    成され、さらに、該対向壁面間には、該測定物が
    レーザ走査面LSを貫通するように、レーザ走査
    面LSを法線方向に通過する一方の切欠き30と、
    レーザ走査面LSを水平線方向に通過する他方の
    切欠き40とが、該対向壁面と結合体26の外周
    壁面により凹欠溝状に形成されていることを特徴
    とする寸法測定装置。
JP1986056035U 1986-04-16 1986-04-16 Expired JPH0425611Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1986056035U JPH0425611Y2 (ja) 1986-04-16 1986-04-16

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1986056035U JPH0425611Y2 (ja) 1986-04-16 1986-04-16

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62168411U JPS62168411U (ja) 1987-10-26
JPH0425611Y2 true JPH0425611Y2 (ja) 1992-06-19

Family

ID=30884488

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1986056035U Expired JPH0425611Y2 (ja) 1986-04-16 1986-04-16

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0425611Y2 (ja)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5280050A (en) * 1975-12-22 1977-07-05 Monsanto Co Method of and apparatus for optical measurement

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5280050A (en) * 1975-12-22 1977-07-05 Monsanto Co Method of and apparatus for optical measurement

Also Published As

Publication number Publication date
JPS62168411U (ja) 1987-10-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4813782A (en) Method and apparatus for measuring the floating amount of the magnetic head
US4502785A (en) Surface profiling technique
JP3768822B2 (ja) 三次元測定装置
JPH0425611Y2 (ja)
US4831272A (en) Apparatus for aligning a reticle mark and substrate mark
JPH0411124Y2 (ja)
KR100240259B1 (ko) 원통 렌즈와 레이저 스캐너를 이용한 3차원 측정장치
JPS6044810A (ja) スポット光位置検出装置
JPS6334963B2 (ja)
JPH0124242B2 (ja)
JPH05322529A (ja) 表面形状測定装置
JPH0334563B2 (ja)
JP2717250B2 (ja) 光学式測長方法
JPS62287107A (ja) 中心位置測定装置
JP2992075B2 (ja) 光ビームの走査装置
JPH0746044B2 (ja) 光学的測長装置
JPH0535286Y2 (ja)
JPH067290Y2 (ja) レーザ干渉計用反射鏡
JPH02276908A (ja) 三次元位置認識装置
JPH0749219A (ja) Icリード高さ測定装置
JPH0311682Y2 (ja)
JPH0412802B2 (ja)
JPH0744386Y2 (ja) 強度均一化レーザビーム加工光学系
JPH0626842A (ja) 一次元走査型表面変位計
JPH049525Y2 (ja)