JPH04254344A - インナーリード先端に補強テープを有するtab用テープキャリアの製造方法 - Google Patents
インナーリード先端に補強テープを有するtab用テープキャリアの製造方法Info
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- JPH04254344A JPH04254344A JP3009719A JP971991A JPH04254344A JP H04254344 A JPH04254344 A JP H04254344A JP 3009719 A JP3009719 A JP 3009719A JP 971991 A JP971991 A JP 971991A JP H04254344 A JPH04254344 A JP H04254344A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/50—Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、インナーリード先端に
補強テープを有するTAB用テープキャリアの製造方法
に関する。
補強テープを有するTAB用テープキャリアの製造方法
に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体素子の実装技術においては、一定
水準以上の性能を持つ製品を高速で量産するために自動
化が図られている。
水準以上の性能を持つ製品を高速で量産するために自動
化が図られている。
【0003】この自動化を目的として開発された半導体
素子の実装技術の一つに、長尺のテープキャリアにワイ
ヤレスボンディングにより半導体素子を組込んでゆくT
AB(Tape Automated Bonding
)方式がある。
素子の実装技術の一つに、長尺のテープキャリアにワイ
ヤレスボンディングにより半導体素子を組込んでゆくT
AB(Tape Automated Bonding
)方式がある。
【0004】このTABでは、半導体素子の各電極端子
にバンプを設け、このバンプと対応するテープキャリア
のインナーリードとをボンディングツールにより熱圧着
した後、絶縁性の流動レジンにより樹脂封止され、さら
に表面保護コートが施されるという操作が連続的に行な
われる。
にバンプを設け、このバンプと対応するテープキャリア
のインナーリードとをボンディングツールにより熱圧着
した後、絶縁性の流動レジンにより樹脂封止され、さら
に表面保護コートが施されるという操作が連続的に行な
われる。
【0005】通常テープキャリアは70〜125μm厚
さの有機ポリイミドフィルムまたはガラスエポキシフィ
ルム(以下、絶縁フィルムという)からなり、幅寸法は
、35,70,140mmフィルム等各種ある。この表
面には配線パターンであるインナーリード、アウターリ
ードがフォトエッチング法等により構成される。これら
の配線パターンには一般に35μm厚さの圧延銅箔また
は電解銅箔等の金属箔が用いられている。
さの有機ポリイミドフィルムまたはガラスエポキシフィ
ルム(以下、絶縁フィルムという)からなり、幅寸法は
、35,70,140mmフィルム等各種ある。この表
面には配線パターンであるインナーリード、アウターリ
ードがフォトエッチング法等により構成される。これら
の配線パターンには一般に35μm厚さの圧延銅箔また
は電解銅箔等の金属箔が用いられている。
【0006】一般に、前記金属箔は前記絶縁フィルム上
にラミネートして用いられる。そして、ラミネートした
金属箔上に感光性レジストを塗布し、露光現像後エッチ
ングにより所定のパターンを形成する。パターンを形成
後、ソルダーレジストを接合部以外の部分に塗布し、さ
らにSiチップ電極とのボンディングをするためSnあ
るいははんだめっきを行って、テープキャリアを完成さ
せていた。
にラミネートして用いられる。そして、ラミネートした
金属箔上に感光性レジストを塗布し、露光現像後エッチ
ングにより所定のパターンを形成する。パターンを形成
後、ソルダーレジストを接合部以外の部分に塗布し、さ
らにSiチップ電極とのボンディングをするためSnあ
るいははんだめっきを行って、テープキャリアを完成さ
せていた。
【0007】近年、液晶に代表される薄型で軽量のフラ
ットディスプレイの応用範囲が急速に拡大し、パソコン
、テレビ、ワープロなどに広く適用されるようになった
。特に、テレビにおいては画面サイズの大型化、高精密
化への要望が強い。液晶の場合、画素の一つ一つに信号
を送る必要があり、TABの特徴を活用できることから
、液晶テレビの実用化にはTABは不可欠な部品と言え
る。また、液晶の駆動素子としては、液晶テレビの大型
化にともない60ピン、100ピン、200ピンと多ピ
ン化している。
ットディスプレイの応用範囲が急速に拡大し、パソコン
、テレビ、ワープロなどに広く適用されるようになった
。特に、テレビにおいては画面サイズの大型化、高精密
化への要望が強い。液晶の場合、画素の一つ一つに信号
を送る必要があり、TABの特徴を活用できることから
、液晶テレビの実用化にはTABは不可欠な部品と言え
る。また、液晶の駆動素子としては、液晶テレビの大型
化にともない60ピン、100ピン、200ピンと多ピ
ン化している。
【0008】従来のTAB用テープキャリアとして、例
えば図4に示すものがある。図4において、1は絶縁フ
ィルム、2は金属箔導体(リードフレーム)、3はイン
ナーリードボンディング孔、4はスプロケットホール、
6はアウターリードボンディング孔をそれぞれ示す。
えば図4に示すものがある。図4において、1は絶縁フ
ィルム、2は金属箔導体(リードフレーム)、3はイン
ナーリードボンディング孔、4はスプロケットホール、
6はアウターリードボンディング孔をそれぞれ示す。
【0009】多ピン化にともない前記インナーリードボ
ンディング孔3内に突出したリードフレーム2のインナ
ーリード2a先端の間隔を狭くして、より多くの信号を
従来と同じあるいはより狭い実装面積で確保しようとし
ているのが実情である。このため、インナーリード2a
先端の幅は80μm前後あったものが、最近では40μ
mと細くなってきている。
ンディング孔3内に突出したリードフレーム2のインナ
ーリード2a先端の間隔を狭くして、より多くの信号を
従来と同じあるいはより狭い実装面積で確保しようとし
ているのが実情である。このため、インナーリード2a
先端の幅は80μm前後あったものが、最近では40μ
mと細くなってきている。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】この結果、インナーリ
ード2aは細く(幅40μm、厚さ30μm)なったた
め、絶対的強度が著しく低下し、テープキャリア製造中
、フィルム点検中あるいは組立実装中に何らかの機械的
な微弱な力が加わっても曲るなどの変形を起し易くなっ
た。インナーリードが1本でも変形すると素子上の電極
との接合に不具合が生じ、短絡、接合不良などの不良と
なる。インナーリードの曲りによる不良は現在も多く、
今後ますますファイン化へ進むと、さらに大きな問題と
なることが予想される。
ード2aは細く(幅40μm、厚さ30μm)なったた
め、絶対的強度が著しく低下し、テープキャリア製造中
、フィルム点検中あるいは組立実装中に何らかの機械的
な微弱な力が加わっても曲るなどの変形を起し易くなっ
た。インナーリードが1本でも変形すると素子上の電極
との接合に不具合が生じ、短絡、接合不良などの不良と
なる。インナーリードの曲りによる不良は現在も多く、
今後ますますファイン化へ進むと、さらに大きな問題と
なることが予想される。
【0011】本発明の目的は、前記した従来技術の欠点
を解消し、組立信頼性を大幅に向上させることができる
インナーリード先端に補強テープを有するTAB用テー
プキャリアの製造方法を提供することにある。
を解消し、組立信頼性を大幅に向上させることができる
インナーリード先端に補強テープを有するTAB用テー
プキャリアの製造方法を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明によれば、可撓性および絶縁性を有するフィル
ムに少くともインナーリードボンディング孔およびアウ
ターリードボンディング孔を設けたのち、前記フィルム
にリードフレーム用の金属箔を貼り付け、所定のパター
ンを形成して前記インナーリードボンディング孔上およ
びアウターリードボンディング孔上にわたって複数本の
金属箔からなるリードフレームを設けたTAB用テープ
キャリアを製造するに際し、少くとも前記所定のパター
ンを形成する前に、前記インナーリードボンディング孔
の内側に前記リードフレームの先端を固定するための固
定テープを設けておくことを特徴とするインナーリード
先端に補強テープを有するTAB用テープキャリアの製
造方法が提供される。
に本発明によれば、可撓性および絶縁性を有するフィル
ムに少くともインナーリードボンディング孔およびアウ
ターリードボンディング孔を設けたのち、前記フィルム
にリードフレーム用の金属箔を貼り付け、所定のパター
ンを形成して前記インナーリードボンディング孔上およ
びアウターリードボンディング孔上にわたって複数本の
金属箔からなるリードフレームを設けたTAB用テープ
キャリアを製造するに際し、少くとも前記所定のパター
ンを形成する前に、前記インナーリードボンディング孔
の内側に前記リードフレームの先端を固定するための固
定テープを設けておくことを特徴とするインナーリード
先端に補強テープを有するTAB用テープキャリアの製
造方法が提供される。
【0013】ここで、前記固定テープは複数個に分割さ
れているのが好ましい。
れているのが好ましい。
【0014】以下に本発明をさらに詳細に説明する。
【0015】図1は、本発明に係るTAB用テープキャ
リアの一実施例を示す平面図である。
リアの一実施例を示す平面図である。
【0016】まず、可撓性、絶縁性フィルム1に対し、
少くとも幅方向中央にインナーリードボンディング孔3
、その外側にスプロケットホール4、前記インナーリー
ドボンディング孔3の周縁の上下左右4箇所にアウター
リードボンディング孔6をそれぞれパンチング加工等に
よって開孔する。
少くとも幅方向中央にインナーリードボンディング孔3
、その外側にスプロケットホール4、前記インナーリー
ドボンディング孔3の周縁の上下左右4箇所にアウター
リードボンディング孔6をそれぞれパンチング加工等に
よって開孔する。
【0017】つぎに、前記開口と同時に、または別個に
後述するリードフレーム2のインナーリード2aの先端
を固定するための固定テープ5を、前記インナーリード
ボンディング孔3の内側に設ける。この固定テープは、
図2に示すように前記インナーリードボンディング孔3
の内側に1本の分割しないテープをハンガーテープ5a
で吊るようにして支持される。このハンガーテープ5a
は図2のようにインナーリードボンディング孔3の四隅
に設けてもよいが、これに限るものではない。
後述するリードフレーム2のインナーリード2aの先端
を固定するための固定テープ5を、前記インナーリード
ボンディング孔3の内側に設ける。この固定テープは、
図2に示すように前記インナーリードボンディング孔3
の内側に1本の分割しないテープをハンガーテープ5a
で吊るようにして支持される。このハンガーテープ5a
は図2のようにインナーリードボンディング孔3の四隅
に設けてもよいが、これに限るものではない。
【0018】つぎに、前記絶縁フィルム1に接着剤9を
介して金属箔2をラミネート法にて接着する。この際、
前記固定テープ5およびハンガーテープ5aと金属箔2
との間にも接着剤9を装入するとよい。
介して金属箔2をラミネート法にて接着する。この際、
前記固定テープ5およびハンガーテープ5aと金属箔2
との間にも接着剤9を装入するとよい。
【0019】前記固定テープ5は、図1に示すようにイ
ンナーリードボンディング孔3の各辺に平行して4本に
分割して設けるようにすれば、前記ハンガーテープ5a
は不要となる。また、この場合は前記金属箔2をラミネ
ートしてから固定テープ5を接着剤9を介して設ける。
ンナーリードボンディング孔3の各辺に平行して4本に
分割して設けるようにすれば、前記ハンガーテープ5a
は不要となる。また、この場合は前記金属箔2をラミネ
ートしてから固定テープ5を接着剤9を介して設ける。
【0020】本発明に用いる絶縁フィルム1は、可撓性
の絶縁性シートであれば、特に制限はなく、ポリイミド
フィルムを代表的に挙げることができる。
の絶縁性シートであれば、特に制限はなく、ポリイミド
フィルムを代表的に挙げることができる。
【0021】本発明に用いる固定テープ5およびハンガ
ーテープ5aとしては、絶縁性、接着性があれば、特に
制限はなく、例えば接着剤付ポリイミドテープを挙げる
ことができる。
ーテープ5aとしては、絶縁性、接着性があれば、特に
制限はなく、例えば接着剤付ポリイミドテープを挙げる
ことができる。
【0022】固定テープ5の幅については、特に制限は
なく、例えば0.1mm程度あるいはそれ以上でよい。
なく、例えば0.1mm程度あるいはそれ以上でよい。
【0023】本発明に用いる金属箔2としては、特に制
限はなく、一般的には、銅、銅合金箔が用いられる。こ
れらの金属箔2は、通常圧延または電解法により作られ
ている。
限はなく、一般的には、銅、銅合金箔が用いられる。こ
れらの金属箔2は、通常圧延または電解法により作られ
ている。
【0024】従来のようにめっき法で銅パターンを設け
る場合、パターン形成速度が遅いこともあり、パターン
を厚くして導電率を上げるのには不利である。しかし、
ラミネート法では銅箔の厚さを18、25あるいは35
μmと任意に、かつ厚いものを設けることができるので
有利である。
る場合、パターン形成速度が遅いこともあり、パターン
を厚くして導電率を上げるのには不利である。しかし、
ラミネート法では銅箔の厚さを18、25あるいは35
μmと任意に、かつ厚いものを設けることができるので
有利である。
【0025】前記絶縁フィルム1に設けるスプロケット
ホール4、インンナーリードボンディング孔3およびア
ウターリードボンディング孔6は従来のウェットエッチ
ングによる必要はなく、プレス等で開孔することができ
る。従って、抱水ヒドラジン等の危険物が不要となると
ともに、作業性が向上する。
ホール4、インンナーリードボンディング孔3およびア
ウターリードボンディング孔6は従来のウェットエッチ
ングによる必要はなく、プレス等で開孔することができ
る。従って、抱水ヒドラジン等の危険物が不要となると
ともに、作業性が向上する。
【0026】絶縁フィルム1への金属箔2の接着は、従
来のNiまたはCrの下地金属を用いる場合にくらべ強
固であるが、さらに接着力を向上させるために、絶縁フ
ィルム1と金属箔2との間に接着剤9を装入してラミネ
ートするのは有効な方法である。
来のNiまたはCrの下地金属を用いる場合にくらべ強
固であるが、さらに接着力を向上させるために、絶縁フ
ィルム1と金属箔2との間に接着剤9を装入してラミネ
ートするのは有効な方法である。
【0027】接着剤9としては、特に限定しないが、近
年絶縁フィルムと同質のものが開発されており、特に耐
熱性の優れたポリイミドの絶縁フィルムに使用可能な接
着剤としてポリイミド系の接着剤が開発されているので
これらを利用するとよい。
年絶縁フィルムと同質のものが開発されており、特に耐
熱性の優れたポリイミドの絶縁フィルムに使用可能な接
着剤としてポリイミド系の接着剤が開発されているので
これらを利用するとよい。
【0028】また、近年テープキャリアパターン上に半
導体チップを載せた後Au線などによるワイヤボンドを
150℃以上の温度で行う例もあり、接着剤の耐熱性も
重要となってきている。このため一般には接着剤の無い
2層のテープキャリアの方が有利とされていたが、ポリ
イミド系の接着剤はこの点有利である。
導体チップを載せた後Au線などによるワイヤボンドを
150℃以上の温度で行う例もあり、接着剤の耐熱性も
重要となってきている。このため一般には接着剤の無い
2層のテープキャリアの方が有利とされていたが、ポリ
イミド系の接着剤はこの点有利である。
【0029】また、金属箔2の絶縁フィルム1と接着す
る面を粗化すればアンカー効果により接着力を一層向上
させることが可能である。
る面を粗化すればアンカー効果により接着力を一層向上
させることが可能である。
【0030】つぎに、絶縁フィルム1に接着した金属箔
2の反接着面に常法によりフォトエッチングを用いて、
あらかじめ定めた寸法、形状のパターンを形成する。
2の反接着面に常法によりフォトエッチングを用いて、
あらかじめ定めた寸法、形状のパターンを形成する。
【0031】このとき、インナーリード2a先端部には
テープ5が貼り付けられているから、インナーリード2
a先端部が相互に固定される。
テープ5が貼り付けられているから、インナーリード2
a先端部が相互に固定される。
【0032】さらに、半導体チップ10をボンディング
する、あるいはプリント基板等に半田付実装するため、
金属部分の表面にSn、Au、半田等の金属めっき13
を行う。めっきを施したのち、不必要な電気的接触をさ
けるため、絶縁コート剤(ソルダーレジスト)を電気的
接続に用いない部分に塗布してこの部分の絶縁を確実に
する。
する、あるいはプリント基板等に半田付実装するため、
金属部分の表面にSn、Au、半田等の金属めっき13
を行う。めっきを施したのち、不必要な電気的接触をさ
けるため、絶縁コート剤(ソルダーレジスト)を電気的
接続に用いない部分に塗布してこの部分の絶縁を確実に
する。
【0033】その後、半導体チップ10と本発明のテー
プキャリアのインナーリード2aをボンディングあるい
はソルダリングで接続し(図3ではAuバンプ11を用
いた場合を示す)、不要な外枠部のポリイミド等のシー
ト部分(図示せず)を切断して取り除く。なお、インナ
ーリード2aはSiチップ上のAu電極11との接合時
、じゃまにならないよう多少長めにしておくと良い。
プキャリアのインナーリード2aをボンディングあるい
はソルダリングで接続し(図3ではAuバンプ11を用
いた場合を示す)、不要な外枠部のポリイミド等のシー
ト部分(図示せず)を切断して取り除く。なお、インナ
ーリード2aはSiチップ上のAu電極11との接合時
、じゃまにならないよう多少長めにしておくと良い。
【0034】また、前記ハンガーテープ5aは、必要に
応じて切断してもよいし、そのままにしておいてもよい
。
応じて切断してもよいし、そのままにしておいてもよい
。
【0035】
【実施例】以下に本発明を実施例に基づき具体的に説明
する。
する。
【0036】(実施例1)有機ポリインミドフィルム(
厚さ125μm、幅35mm)にインンナーリードボン
ディング孔(8.5×6.5mm)、アウターリードボ
ンディング孔(6.5×30mm)およびスプロケット
ホールをパンチングにより開孔した。
厚さ125μm、幅35mm)にインンナーリードボン
ディング孔(8.5×6.5mm)、アウターリードボ
ンディング孔(6.5×30mm)およびスプロケット
ホールをパンチングにより開孔した。
【0037】その際、インナーリードボンディング孔の
内側に細幅(0.3mm)の固定テープを4隅からのハ
ンガーテープを介して設けた。
内側に細幅(0.3mm)の固定テープを4隅からのハ
ンガーテープを介して設けた。
【0038】その後、35μm厚の片面粗化銅箔をエポ
キシ系接着剤を介してラミネートした。銅表面に感光性
レジストを塗布しベーク乾燥後、露光してからアルカリ
現像液にて現像した。
キシ系接着剤を介してラミネートした。銅表面に感光性
レジストを塗布しベーク乾燥後、露光してからアルカリ
現像液にて現像した。
【0039】その後、エッチング液により下記の仕様の
パターンを形成した。 インナーリード …100μmピッチ (ライン幅50μm、スペース幅50μm)引き回し部
の最小ピッチ …50μmピッチ (ライン幅25μm、スペース幅25μm)リードピン
数 …200ピン
パターンを形成した。 インナーリード …100μmピッチ (ライン幅50μm、スペース幅50μm)引き回し部
の最小ピッチ …50μmピッチ (ライン幅25μm、スペース幅25μm)リードピン
数 …200ピン
【0040】続いて、Siチップをボンディングするた
め、金属部分の表面にSnめっきを行ったのち、前記ハ
ンガーテープを切断した。
め、金属部分の表面にSnめっきを行ったのち、前記ハ
ンガーテープを切断した。
【0041】さらに、常法によりSiチップとインナー
リードをAuバンプを介しボンディングにて接続した。
リードをAuバンプを介しボンディングにて接続した。
【0042】以上によりインナーリード先端が変形した
り、位置ずれすることなくSiチップとのボンディング
ができた。
り、位置ずれすることなくSiチップとのボンディング
ができた。
【0043】
【発明の効果】本発明は以上説明したように構成されて
いるので、TAB用テープキャリアのインナーリードの
細いフィンガーの変形を、テープにより固定することに
より大幅に減少することができ、半導体装置組立歩留り
を向上することができた。即ち、インナーリード先端を
テープにより固定してそろえた結果、位置ずれ変形に伴
うSiチップ電極とのボンディングずれの発生を大幅に
減少させることができた。
いるので、TAB用テープキャリアのインナーリードの
細いフィンガーの変形を、テープにより固定することに
より大幅に減少することができ、半導体装置組立歩留り
を向上することができた。即ち、インナーリード先端を
テープにより固定してそろえた結果、位置ずれ変形に伴
うSiチップ電極とのボンディングずれの発生を大幅に
減少させることができた。
【図1】本発明に係るTAB用テープキャリアの一実施
例を示す平面図である。
例を示す平面図である。
【図2】本発明に使用する絶縁フィルムのパンチング加
工およびテープ付設後の一例を示す平面図である。
工およびテープ付設後の一例を示す平面図である。
【図3】本発明に係るテープキュアリアを用いてSiチ
ップとの接合を行った後の断面図である。
ップとの接合を行った後の断面図である。
【図4】従来のTAB用テープキャリアの平面図である
。
。
1 絶縁フィルム(ポリイミド)2 金属
箔(リードフレーム) 2a インナーリード 3 インナーリードボンディング孔4 ス
プロケットホール 5 固定テープ 5a ハンガーテープ 6 アウターリードボンディング9 接着
剤 10 Siチップ 11 電極(Auバンプ) 13 Snめっき層
箔(リードフレーム) 2a インナーリード 3 インナーリードボンディング孔4 ス
プロケットホール 5 固定テープ 5a ハンガーテープ 6 アウターリードボンディング9 接着
剤 10 Siチップ 11 電極(Auバンプ) 13 Snめっき層
Claims (2)
- 【請求項1】 可撓性および絶縁性を有するフィルム
に少くともインナーリードボンディング孔およびアウタ
ーリードボンディング孔を設けたのち、前記フィルムに
リードフレーム用の金属箔を貼り付け、所定のパターン
を形成して前記インナーリードボンディング孔上および
アウターリードボンディング孔上にわたって複数本の金
属箔からなるリードフレームを設けたTAB用テープキ
ャリアを製造するに際し、少くとも前記所定のパターン
を形成する前に、前記インナーリードボンディング孔の
内側に前記リードフレームの先端を固定するための固定
テープを設けておくことを特徴とするインナーリード先
端に補強テープを有するTAB用テープキャリアの製造
方法。 - 【請求項2】 固定テープは、複数個に分割されてい
る請求項1記載のインナーリード先端に補強テープを有
するTAB用テープキャリア。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3009719A JPH04254344A (ja) | 1991-01-30 | 1991-01-30 | インナーリード先端に補強テープを有するtab用テープキャリアの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3009719A JPH04254344A (ja) | 1991-01-30 | 1991-01-30 | インナーリード先端に補強テープを有するtab用テープキャリアの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04254344A true JPH04254344A (ja) | 1992-09-09 |
Family
ID=11728101
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3009719A Withdrawn JPH04254344A (ja) | 1991-01-30 | 1991-01-30 | インナーリード先端に補強テープを有するtab用テープキャリアの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04254344A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007048872A (ja) * | 2005-08-09 | 2007-02-22 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | プリント配線基板、その製造方法および半導体装置 |
JP2007150374A (ja) * | 1997-03-21 | 2007-06-14 | Seiko Epson Corp | 半導体装置及びフィルムキャリアテープ並びにこれらの製造方法 |
-
1991
- 1991-01-30 JP JP3009719A patent/JPH04254344A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007150374A (ja) * | 1997-03-21 | 2007-06-14 | Seiko Epson Corp | 半導体装置及びフィルムキャリアテープ並びにこれらの製造方法 |
JP2007048872A (ja) * | 2005-08-09 | 2007-02-22 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | プリント配線基板、その製造方法および半導体装置 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980514 |