JPH04252441A - 光情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は光情報記録媒体に係わり
、特に記録に要するエネルギーが小さく、記録部に顕著
な光学的特性の変化が見られ、かつ耐熱性ならびに耐光
性に優れた保存性の良好な追記型の光情報記録媒体に関
する。

【０００２】

【従来の技術】現在、高い反射率を持ち、データ（記録
情報）の再生に際してＣＤ（コンパクトディスク）フォ
ーマットに準拠する出力信号が得られる書き込み可能な
光情報記録媒体、いわゆる追記型ＣＤの開発が活発に行
われている。この追記型ＣＤの構成は、例えば特開平２
−４２６５２号公報に提案されているごとく、所定形状
をした透明基板の片面に、有機色素系ヒートモード記録
材料からなる記録層と、金属材料からなる反射層とを順
次積層して形成したものである。

【０００３】この種の光情報記録媒体では、透明基板側
から、レーザ光などの記録用放射線ビームを情報信号に
応じて照射し、記録層がこれを吸収して熱エネルギーに
変換し、この熱によって記録層と接する透明基板の一部
が局部的に変形または変性し、穴または泡などよりなる
記録ピットが形成されデータ記録が行われるものである
。

【０００４】しかし、従来の光情報記録媒体は、透明基
板上に、有機色素系ヒートモード記録材料からなる記録
層と金属からなる反射層とが積層して設けられているた
め、記録層にて発生した熱エネルギーは透明基板または
反射層から放散され易く熱効率が悪いので、それだけ大
きなエネルギーを持つ記録用レーザ光の照射が必要であ
った。加えて、光情報記録媒体の透明基板として、通常
の場合には、例えば１００℃以上の耐熱性のあるものが
用いられる関係上、透明基板を局部的に変形させて記録
ピットを形成させてデータ記録を行う光情報記録媒体に
おいては、透明基板と接する記録層に、上記基板の変形
温度以上の高温を発生させる必要があり、大きなパワー
の記録用放射線源を必要とする問題があった。

【０００５】また、従来の光情報記録媒体においては、
記録用レーザ光の照射により記録層の温度を透明基板の
変形温度以上の高温に加熱する必要があることから、有
機色素ヒートモード記録材料からなる記録層が熱的な悪
影響を受け記録ピットの光学的特性が劣化するなどの問
題があった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】上述したごとく、従来
の有機色素系ヒートモード記録材料よりなる記録層と金
属よりなる反射層を有する光情報記録媒体は、データ記
録に際し記録層にレーザ光などの記録用放射線ビームを
照射して発生させた熱が、透明基板または反射層から放
散され易く、また透明基板の熱変形温度以上の高温に加
熱して記録ピットを形成させることから、大きなパワー
のレーザ光などの記録用放射線源を必要とし、また記録
層が熱的な悪影響を受けて記録ピットの光学的特性、す
なわち記録特性が劣化するなどの問題があった。

【０００７】本発明の目的は、上記従来技術における問
題点を解消し、透明基板の熱変形または変性温度よりも
低い温度で記録ピットの形成が可能で、記録層において
発生した熱エネルギーが透明基板または反射層に伝わら
ない構造にして、それらの熱変形または変性を防止し光
学的特性に優れた記録ピットの形成を可能とし、低パワ
ーのレーザ光などの記録用放射線源でデータ記録が行え
る耐熱性ならびに耐光性が良好で保存性に優れた追記型
の光情報記録媒体を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記本発明の目的を達成
するために、透明基板の片面に、少なくとも有機色素系
ヒートモード記録材料よりなる記録層と、この記録層上
に積層された金属よりなる反射層とを担持してなる光情
報記録媒体において、上記記録層の片側もしくは両側に
、光透過性で熱伝導性のある薄膜からなる中間層を設け
、記録層にて発生した熱エネルギーが上記中間層に沿っ
て分散されるように構成して、透明基板または反射層に
伝わらないようにし、その熱変形または変性を防止する
ものである。

【０００９】このような構成にすることにより、レーザ
光などの記録用放射線ビームの照射によって発生した記
録層の熱エネルギーにより、透明基板または反射層が熱
変形または変性されることがなくなり、記録層において
整った形の記録ピットが形成され、記録部に顕著な光学
的特性変化が得られることになる。

【００１０】そして、本発明の光情報記録媒体は、従来
の耐熱性のある透明基板を高温で熱変形または変性させ
てデータ記録を行う方法に比べて、記録に要するエネル
ギーが極めて小さくて良く、これに伴って、記録パワー
の低減化をはかることができ、さらに高密度記録化をは
かり易いという優れた長所を有するものである。

【００１１】本発明の光情報記録媒体において、有機色
素系ヒートモード記録材料よりなる記録層の片側もしく
は両側に設ける光透過性で熱伝導性の薄膜よりなる中間
層は、ＣｅＯ２、Ｌａ２Ｏ３、ＳｉＯ、ＳｉＯ２、Ｉｎ
２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＧｅＯ、ＧｅＯ２、ＰｂＯ、Ｓｎ
Ｏ、ＳｎＯ２、Ｂｉ２Ｏ３、ＴｅＯ２、Ｔａ２Ｏ５、Ｓ
ｃ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｖ２Ｏ５、
Ｎｂ２Ｏ５、Ｃｒ２Ｏ３、ＷＯ２、ＷＯ３、ＩＴＯ（イ
ンジウムとスズの酸化物…例えばＩｎ２Ｏ３＋ＳｎＯ２
）の酸化物、およびＣｄＳ、ＺｎＳ、Ｉｎ２Ｓ３、Ｓｂ
２Ｓ３、Ｇａ２Ｓ３、ＧｅＳ、ＳｎＳ、ＳｎＳ２、Ｐｂ
Ｓ、Ｂｉ２Ｓ３などの硫化物、およびＭｇＦ２、ＣｅＦ
３、ＣａＦ２などのフッ化物、およびＴａＮ、Ｓｉ３Ｎ
４、ＡｌＮ、ＢＮなどの窒化物、およびＴｉＢ２などの
ホウ化物、およびＢ４Ｃ、ＳｉＣなどの炭化物、および
Ｓｉ、Ｂ、Ｃなどのうちの少なくとも１種を含む無機質
材料、またはＣｅ、Ｌａ、Ｉｎ、Ａｌ、Ｇｅ、Ｐｂ、Ｓ
ｎ、Ｂｉ、Ｔｅ、Ｔａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｎ
ｂ、Ｃｒ、Ｗ、Ｃｄ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｅ、Ｇａ、Ｍｇ、
Ｃａなどの単体金属、および上記金属を主成分とする合
金またはＣｄＳｅ、ＺｎＳｅ、Ｉｎ２Ｓｅ３、Ｓｂ２Ｓ
ｅ３、Ｇａ２Ｓｅ３、ＧｅＳｅ、ＧｅＳｅ２、ＳｎＳｅ
、ＳｎＳｅ２、ＰｂＳｅ、Ｂｉ２Ｓｅ３などの合金のう
ちの少なくとも１種を含む金属材料よりなる薄膜が好ま
しく、真空成膜法、特にスパッタ法により成膜したもの
が好適に用いられる。

【００１２】そして、上記光透過性で熱伝導性の薄膜よ
りなる中間層の膜厚は、１０〜１００ｎｍの範囲が好ま
しく、１０ｎｍ未満では、ピンホールなどが発生しやす
く、このピンホールを通って水やその他の異物が記録層
に侵入してエラーの発生の原因となり、また中間層上に
オーバコート層を設ける場合には、オーバコート材が上
記ピンホールを通って記録層に侵入し汚染するので好ま
しくない、中間層の膜厚が１００ｎｍを超えると、記録
層において発生した熱の伝導性が頭打ちとなり、それ以
上厚くしても効果が少なく、また光透過性や光学的性質
が変化しやすく記録特性の劣化を招くので好ましくない
。

【００１３】本発明の光情報記録媒体の記録層を構成す
る有機色素系ヒートモード記録材料は、例えばポリメチ
ン系色素、アントラキノン系色素、シアニン系色素、フ
タロシアニン系色素、キサンテン系色素、トリフェニル
メタン系色素、ピリリウム系色素、アズレン系色素、含
金属アゾ染料などを挙げることができる。

【００１４】本発明の有機色素系ヒートモード記録材料
よりなる記録層中に、一重項酸素クエンチャー、アミニ
ウム系色素、酸化防止剤（還元性を有する酸化防止剤も
含む）のうちから選択される少なくとも１種の色素劣化
抑制剤を、有機色素系ヒートモード記録材料１００重量
部に対し、１００重量部以下の範囲で添加することがで
きる。なお、上記色素劣化防止剤の添加量が１００重量
部を超えると記録層の光学的特性が変化し記録特性が低
下するので好ましくない。

【００１５】本発明の有機色素系ヒートモード記録材料
よりなる記録層、および該記録層に、上記一重項酸素ク
エンチャー、有機アミニウム系色素、酸化防止剤などを
添加した記録層の膜厚は、３０〜１５０ｎｍの範囲が好
ましく、３０ｎｍ未満では記録層の劣化が著しくなるの
で好ましくなく、記録層の厚さが大きい程その劣化は小
さいが、記録層を厚くしすぎると記録層の光学的特性が
変化しやすくなるので、通常の場合は１５０ｎｍ以下が
望ましい。

【００１６】本発明の有機色素系ヒートモード記録材料
に添加する一重項酸素クエンチャーとして、種々の化合
物を用いることができるが、特に記録層の安定性や耐光
性の向上効果が大きいこと、および長波長の書き込み用
レーザ光の吸収率が増大すること、さらには再生劣化が
減少すること、および色素との相溶性が良好であること
などから遷移金属キレート化合物を用いることが好まし
い。なお、遷移金属キレート化合物としては、７００〜
８５０ｎｍに極大吸収波長を持つものが好ましく、上記
キレート化合物の中心金属としては、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｕ
、Ｍｎ等を含むものが好適で、例えば、アセチルアセト
ナートキレート系、ビスジチオ−α−ジケトン系、ビス
フェニルジチオール系、サリチルアルデヒドオキシム系
、チオビスフェノレートキレート系などの化合物が用い
られる。

【００１７】次に、色素劣化抑制剤として用いるアミニ
ウム系色素は、下記の（化１）、（化２）の構造式で示
される化合物が好ましい。

【００１８】

【化１】

【００１９】

【化２】

【００２０】（式中、Ｒは水素、アルキル基またはアリ
ル基を表わし、Ｘは過塩素酸イオン、ヘキサフルオロア
ンチモン酸イオン、ヘキサフルオロヒ酸イオン、フッ化
ホウ素酸イオンを表わす。）そして、具体的に、下記の
（化３）で示される化合物が特に好ましい。

【００２１】

【化３】

【００２２】さらに、色素劣化抑制剤として用いる酸化
防止剤または還元性を有する酸化防止剤として、例えば
、インドール、共役６π電子系化合物、５員環共役ジエ
ンなどの共役ジエン、アリル型オレフィン、フェノール
誘導体、芳香族アミン誘導体などを好適に用いることが
できる。

【００２３】本発明の光情報記録媒体に用いられる基板
材料としては、ポリカーボネート、ポリメチンメタクリ
レート、ポリメチルペンテン、エポキシ等の透明樹脂材
料、あるいは透明ガラス材料、透明セラミック材料など
が挙げられる。

【００２４】本発明の光情報記録媒体は、透明基板を熱
変形させてデータ記録を行う方法ではないので、透明基
板材料としては、任意に耐熱性に優れたものを随時適用
することができるので、記録媒体自身の耐熱性をいっそ
う向上させることが可能である。

【００２５】

【作用】一般に、有機色素系ヒートモード記録材料より
なる記録層を有する追記型の光情報記録媒体は、ビスマ
ス（Ｂｉ）、テルル（Ｔｅ）などの低融点金属薄膜を記
録層とする媒体よりも低温度で熱変形または溶融、分解
気化されるので、記録に要するエネルギーが極めて小さ
くてよく、これに伴って記録用パワーの低減化をはかる
ことができ、さらには高密度記録化を達成することがで
きる。

【００２６】しかも、本発明の有機色素系ヒートモード
記録材料を主成分とする記録層を有する光情報記録媒体
は、透明基板と記録層との間、または透明基板と記録層
および記録層と反射層との間に、上述した光透過性の熱
伝導性薄膜（酸化物、硫化物、フッ化物、窒化物などよ
りなる無機質薄膜または単体金属もしくはその合金など
よりなる金属質薄膜）よりなる中間層を設けているため
、レーザ光などの記録用放射線ビームの照射により有機
色素系ヒートモード記録層に発生した熱エネルギーによ
って、記録層が局部的に熱変形、溶融、蒸発、分解、昇
華あるいは変性されることにより記録ピットが形成され
、そして上記熱エネルギーは上記熱伝導性薄膜である中
間層に沿って流れて分散されるため、透明基板または反
射層の部分が熱変形または熱変性を受けることがないの
で、記録層の記録部に形成される記録ピットは整った形
状の穴や泡などとなり、記録部に顕著な光学的特性変化
を持った光情報記録媒体を実現することができる。

【００２７】

【実施例】以下に本発明の一実施例を挙げ、図面を用い
てさらに詳細に説明する。

【００２８】〈実施例１〉図１は、本実施例において作
製した光ディスクの断面構成の一例を示す模式図で、透
明樹脂材料であるポリカーボネート製の円板状の透明基
板１を充填成形法にて作製し、これをスパッタ装置にセ
ットし、透明基板１のプリフォーマットパターン面に、
８５ｎｍの膜厚の二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）よりなる光
透過性で熱伝導性のある中間層２を成膜した。

【００２９】ついで、上記中間層２の上に、シアニン系
色素材料をメタノールに溶解した溶液をスピンコートし
て、膜厚が９０ｎｍの有機色素系記録層３を成膜した。

【００３０】次に、上記有機色素系記録層３上に、真空
蒸着法により厚さ６０ｎｍの金（Ａｕ）層を成膜して反
射層４を形成し、さらに反射層４上に、紫外線硬化樹脂
であるアクリレート樹脂をスピンコートした後、紫外線
を照射して硬化させ保護層５を形成し光ディスクを作製
した。

【００３１】〈比較例１〉ＳｉＯ２よりなる中間層２の
形成を省略した他は、実施例１と同様にして光ディスク
を作製した。

【００３２】上記実施例１および比較例１において作製
した光ディスクを、ディスク駆動装置に装着し、記録、
再生特性を測定したところ、比較例１の光ディスクでは
良好な再生信号を得るに必要な最小レーザパワー（膜面
上のパワー）が７ｍＷであったのに対し、本発明の実施
例１の光ディスクでは５ｍＷで良好な記録、再生特性を
得ることができた。なお、上記の記録、再生特性の測定
に際して、光ディスクとレーザビームスポットとの相対
速度を１．２５ｍ／ｓに調整し、案内溝上にレーザビー
ムスポットを合わせてデータ記録を行った。また、相隣
接する案内溝の間の平面部にレーザビームスポットを合
わせてデータ記録を行った場合には、上記の良好な再生
信号を得るに必要なそれぞれの最小レーザパワー値は増
大した。

【００３３】上記実施例１の光ディスクでは、記録用レ
ーザビームが有機色素系記録層３に吸収され、吸収され
た光エネルギーが熱エネルギーに変換され、この熱によ
り有機色素系記録層３が局部的に熱変形または熱変性し
て整った穴または泡が形成され、光学的に高い変調度を
持つ記録ピットが形成された。そして、記録されたピッ
ト列は長さが０．９〜３．３μｍで、間隔が０．９〜３
．３μｍの良好な記録ピットが得られた。なお、上記記
録ピットに対応する透明基板１または反射層４の部分に
は全く熱変形または熱変性が認められなかった。また、
実施例１の光ディスクは、有機色素系記録層３における
記録後のピット形状が記録特性に大きな影響を与え、特
に案内溝上に記録ピットを形成した場合と、平坦部に記
録ピットを形成した場合とでは記録特性に大きな違いが
見られ、案内溝上に記録ピットを形成した場合の方が再
生信号に大きな変調度合を示した。

【００３４】これに対し、比較例１の光ディスクでは、
記録用レーザビームが照射された部分の透明基板１およ
び反射層４の部分が大きく熱変形または変性し、記録、
再生特性が著しく劣化していることを確認した。

【００３５】上記実施例１においては、光透過性で熱伝
導性の薄膜よりなる中間層２として、ＳｉＯ２に代表さ
れる酸化ケイ素薄膜を用いたが、この他に、ＣｅＯ２、
Ｌａ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３、ＧｅＯ、ＧｅＯ
２、ＰｂＯ、ＳｎＯ、ＳｎＯ２、Ｂｉ２Ｏ３、ＴｅＯ２
、Ｔａ２Ｏ５、Ｓｃ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、ＴｉＯ２、Ｚｒ
Ｏ２、Ｖ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５、Ｃｒ２Ｏ３、ＷＯ２、Ｗ
Ｏ３、ＩＴＯなどの酸化物、ＣｄＳ、ＺｎＳ、Ｉｎ２Ｓ
３、Ｓｂ２Ｓ３、Ｇａ２Ｓ３、ＧｅＳ、ＳｎＳ、ＳｎＳ
２、ＰｂＳ、Ｂｉ２Ｓ３などの硫化物、ＭｇＦ２、Ｃｅ
Ｆ３、ＣａＦ２などのフッ化物、ＴａＮ、Ｓｉ３Ｎ４、
ＡｌＮ、ＢＮなどの窒化物、ＴｉＢ２などのホウ化物、
Ｂ４Ｃ、ＳｉＣなどの炭化物、またはＳｉ、Ｂ、Ｃなど
の無機質材料よりなる薄膜またはＣｅ、Ｌａ、Ｉｎ、Ａ
ｌ、Ｇｅ、Ｐｂ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｔｅ、Ｔａ、Ｓｃ、Ｙ、
Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｎｂ、Ｃｒ、Ｗ、Ｃｄ、Ｚｎ、Ｓｂ、
Ｓｅ、Ｇａ、Ｍｇ、Ｃａの単体金属、または上記金属を
主成分とする合金、あるいはＣｄＳｅ、ＺｎＳｅ、Ｉｎ
２Ｓｅ３、Ｓｂ２Ｓｅ３、Ｇａ２Ｓｅ３、ＧｅＳｅ、Ｇ
ｅＳｅ２、ＳｎＳｅ、ＳｎＳｅ２、ＰｂＳｅ、Ｂｉ２Ｓ
ｅ３などの合金よりなる薄膜を用いた場合においても、
上記実施例１と同様の効果が得られることを確認してい
る。

【００３６】また、上記実施例１では光ディスクを例に
とって説明したが、光カードなど他の形態の光情報記録
媒体に適用できることは言うまでもない。

【００３７】〈実施例２〉図２は、本実施例において作
製した光ディスクの断面構成の一例を示す模式図で、有
機色素系記録層３と反射層４との間に、光透過性で熱伝
導性を有する二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）よりなる中間層
２を形成した他は、実施例１と同様にして光ディスクを
作製した。

【００３８】このようにして作製した光ディスクを、実
施例１と同様の試験装置を用いて記録、再生特性を評価
したところ、良好な再生信号を得るに必要な最小レーザ
パワーは５ｍＷ以下の低パワー化が実現でき、記録ピッ
トの形状および配列も実施例１と同様の良好な結果が得
られ、かつ記録ピットに対応する透明基板１および反射
層５の部分には全く熱変形または変性が見られず実施例
１と同等ないしはそれ以上の良好な記録特性および再生
信号が得られた。

【００３９】〈実施例３〉実施例１と同様にして、有機
色素系ヒートモード記録材料（シアニン系色素を使用）
よりなる記録層の膜厚を、２０ｎｍから２００ｎｍの範
囲で変え、１０種類の光ディスクを作製し、実施例１と
同様の試験方法で記録、再生特性を評価した。その結果
、記録層の膜厚が３０〜１５０ｎｍの範囲では実施例１
と同様の良好な記録、再生特性が得られ、低パワー化を
実現することができたが、記録層の膜厚が３０ｎｍ未満
では反射率が低く、また１５０ｎｍを超えると記録層の
光学的特性が変化し良好な記録特性が得られなかった。

【００４０】〈実施例４〉記録層を構成する有機色素系
ヒートモード記録材料１００重量部に対し、１００重量
部、６０重量部と３０重量部の下記の色素劣化抑制剤の
少なくとも１種を添加して記録層を形成した他は、実施
例１と同様にして光ディスクを作製した。

【００４１】（１）一重項酸素クエンチャーとして、ニ
ッケルアセチルアセトナートキレート化合物。

【００４２】（２）アミニウム系色素として、上記（化
３）の構造式で示される化合物。

【００４３】（３）酸化防止剤として、芳香族アミン誘
導体であるＮ，Ｎ′−ジフェニル−Ｐ−フェニレンジア
ミン。

【００４４】上記の色素劣化抑制剤を記録層に添加して
作製した３種の光ディスクを、温度３０℃、相対湿度８
０％、照度９０００ｌｘ（キセノンランプ）の環境下に
置き、光ディスクの反射率の上昇率を測定した結果、そ
の上昇率が極めて小さく、記録層の光による劣化が少な
く優れた耐光性を示した。

【００４５】さらに、実施例１と同様の試験方法を用い
て記録、再生特性を評価したところ、実施例１と同等の
良好な光学的特性が得られ、かつ低パワー化が実現でき
た。

【００４６】

【発明の効果】以上詳細に説明したごとく、透明基板上
に少なくとも有機色素系ヒートモード記録材料を主成分
とする記録層と、金属材料からなる反射層を有する本発
明の光情報記録媒体において、透明基板と記録層との間
、または透明基板と記録層との間および記録層と反射層
の間に、光透過性で熱伝導性を有する薄膜よりなる中間
層を設けているため、記録用放射線ビームの照射により
発生した記録層の熱エネルギーは、上記中間層に沿って
分散され透明基板または反射層に伝わらないため、透明
基板または反射層が熱変形または変性されることなく、
記録層において整った形の記録ピットを形成することが
できるので記録部に顕著な光学的特性変化のある記録特
性に優れた光情報記録媒体が得られる。

【００４７】また、本発明は透明基板を熱変形もしくは
変性させて記録する方式ではなく、透明基板よりも低温
で熱変形または変性する記録層でデータ記録を行うこと
ができるので、記録用レーザ光の低パワー化をはかるこ
とができ、さらに耐熱性の良好な透明基板を用いること
により光情報記録媒体全体としての耐熱性の向上をはか
ることもできる。

【００４８】また、有機色素系ヒートモード記録材料中
に、一重項酸素クエンチャー、アミニウム系色素あるい
は酸化防止剤（還元性を有する酸化防止剤も含む）のう
ちの少なくとも１種の色素劣化抑制剤を添加した記録層
を用いることにより、耐光性ならびに保存性に優れた信
頼性の高い光情報記録媒体が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例１において作製した光ディスク
の断面構成の一例を示す模式図

【図２】本発明の実施例２において作製した光ディスク
の断面構成の一例を示す模式図

【符号の説明】

１…透明基板　　　　　　　　　　　　　　　　２…中
間層３…有機色素系記録層　　　　　　　　４…反射層
５…保護層

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】所定形状をした透明基板の片面に、少なく
   とも有機色素系ヒートモード記録材料を主成分とする記
   録層と、該記録層上に積層された金属材料よりなる反射
   層とを有し、透明基板側より放射線ビームを照射して記
   録、再生を行う光情報記録媒体において、上記透明基板
   と記録層との間に、光透過性で熱伝導性を有する無機質
   材料もしくは金属材料よりなる所定膜厚の中間層を設け
   たことを特徴とする光情報記録媒体。
2. 【請求項２】所定形状をした透明基板の片面に、少なく
   とも有機色素系ヒートモード記録材料を主成分とする記
   録層と、該記録層上に積層された金属材料よりなる反射
   層とを有し、透明基板側より放射線ビームを照射して記
   録、再生を行う光情報記録媒体において、上記透明基板
   と記録層との間および記録層と反射層との間に、光透過
   性で熱伝導性を有する無機質材料もしくは金属材料より
   なる所定膜厚の中間層を設けたことを特徴とする光情報
   記録媒体。
3. 【請求項３】請求項１または請求項２において、光透過
   性で熱伝導性を有する無機質材料よりなる中間層は、Ｃ
   ｅＯ２、ＬａＯ３、ＳｉＯ、ＳｉＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、Ａ
   ｌ２Ｏ３、ＧｅＯ、ＧｅＯ２、ＰｂＯ、ＳｎＯ、ＳｎＯ
   ２、Ｂｉ２Ｏ３、ＴｅＯ２、Ｔａ２Ｏ５、Ｓｃ２Ｏ３、
   Ｙ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｖ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５
   、Ｃｒ２Ｏ３、ＷＯ２、ＷＯ３、ＩＴＯ（インジウムと
   スズの酸化物）の酸化物、およびＣｄＳ、ＺｎＳ、Ｉｎ
   ２Ｓ３、Ｓｂ２Ｓ３、Ｇａ２Ｓ３、ＧｅＳ、ＳｎＳ、Ｓ
   ｎＳ２、ＰｂＳ、Ｂｉ２Ｓ３の硫化物、およびＭｇＦ２
   、ＣｅＦ３、ＣａＦ２のフッ化物、およびＴａＮ、Ｓｉ
   ３Ｎ４、ＡｌＮ、ＢＮの窒化物、およびＴｉＢ２、Ｂ４
   Ｃ、ＳｉＣ、Ｓｉ、Ｂ、Ｃのうちより選択される少なく
   とも１種を含む無機質材料からなることを特徴とする光
   情報記録媒体。
4. 【請求項４】請求項１または請求項２において、光透過
   性で熱伝導性を有する金属材料よりなる中間層は、Ｃｅ
   、Ｌａ、Ｉｎ、Ａｌ、Ｇｅ、Ｐｂ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｔｅ、
   Ｔａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｎｂ、Ｃｒ、Ｗ、Ｃ
   ｄ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｅ、Ｇａ、Ｍｇ、Ｃａの単体金属、
   および上記金属を主成分とする合金またはＣｄＳｅ、Ｚ
   ｎＳｅ、Ｉｎ２Ｓｅ３、Ｓｂ２Ｓｅ３、Ｇａ２Ｓｅ３、
   ＧｅＳｅ、ＧｅＳｅ２、ＳｎＳｅ、ＳｎＳｅ２、ＰｂＳ
   ｅ、Ｂｉ２Ｓｅ３の合金のうちより選択される少なくと
   も１種を含む金属材料からなることを特徴とする光情報
   記録媒体。
5. 【請求項５】請求項１ないし請求項４のいずれか１項に
   おいて、中間層の膜厚が１０〜１００ｎｍであることを
   特徴とする光情報記録媒体。
6. 【請求項６】請求項１ないし請求項５のいずれか１項に
   おいて、記録層は、有機色素系ヒートモード記録材料１
   ００重量部に対し、１００重量部以下の一重項酸素クエ
   ンチャー、アミニウム系色素、酸化防止剤または還元性
   を有する酸化防止剤のうちより選択される少なくとも１
   種の色素劣化抑制剤を含有することを特徴とする光情報
   記録媒体。
7. 【請求項７】請求項６において、記録層の膜厚を３０〜
   １５０ｎｍとすることを特徴とする光情報記録媒体。