JPH04246157A - 軟磁気特性に優れた高珪素鋼板 - Google Patents

軟磁気特性に優れた高珪素鋼板

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JPH04246157A
JPH04246157A JP2675091A JP2675091A JPH04246157A JP H04246157 A JPH04246157 A JP H04246157A JP 2675091 A JP2675091 A JP 2675091A JP 2675091 A JP2675091 A JP 2675091A JP H04246157 A JPH04246157 A JP H04246157A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、トランスやモ−タの
鉄心材料等に使用される高珪素鋼板に関するものである
【0002】
【従来技術】電磁鋼板として広く用いられている高珪素
鋼板は、Si含有量が増すほど鉄損が低減され、Si含
有量が6.5wt%程度で磁歪が0となり、最大透磁率
もピークとなるなど、最も優れた磁気特性を示すことが
知られている。従来、高珪素鋼板の製造方法として、低
珪素鋼を圧延により薄板とした後、鋼板表面からSiを
浸透拡散させる方法が知られている。この製法は、従来
の圧延技術で製造可能な鋼板を素材としているため、圧
延による形状不良等の問題を生じることはなく、原理的
には比較的容易に高珪素鋼板を製造することが可能であ
る。この製法による高珪素鋼板の製造工程は、所謂CV
D処理等による浸珪処理とSiを鋼板内部に拡散させる
拡散処理とからなっている。
【0003】ところで、この種の製造法により製造され
る鋼板については、Si含有量が板厚方向でほぼ均一で
あれば、磁気特性も優れるであろうと推論することは容
易であり、したがって、従来の製造法ではSi含有量が
板厚方向ででほぼ均一な高珪素鋼板を作ることを目的と
していた。しかし、Siを板厚方向で完全に均一に拡散
させるためには非常に時間がかかり(ほぼ均一に拡散さ
せるためには数時間を要する)、鋼板をコイル状態で連
続的に製造することは困難である。また、Siの板内へ
の拡散時間は鋼板の板厚の2乗に比例するため、板厚が
厚くなるほど長時間を要し、したがって、工業的に連続
製造することはますます困難となる。このような問題に
対し、本出願人は先に、拡散時間の短縮を図るために鉄
損値がほぼ飽和する段階、すなわち鋼板表層部のSi含
有量が6.5%となった段階で拡散処理を打ち切り、全
体の処理時間を短くすることを内容とする高珪素鋼板の
製造方法を特開昭62−227033号等において提案
した。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、本発明
者らによるその後の検討によれば、鋼板表層部のSi含
有量が6.5%の拡散処理鋼板では十分な磁気特性が得
られないことが判明した。また、上記製造方法では、鋼
板の鉄損のみに着目して拡散を完了させているが、電磁
鋼板としては、磁束密度、透磁率、磁歪等、最終的な使
用状態での磁気性能および騒音性能などに直接結び付く
磁気特性に優れていることが要求され、上記の製造条件
だけでは十分な軟磁気特性を得ることができないことも
判った。本発明者らは、このような従来の製造方法の問
題点に鑑み、鋼板板厚方向でのSi濃度と磁気特性の関
係について検討を重ね、その結果、板厚方向の平均Si
含有量と板厚方向でのSi濃度の偏差が、優れた磁気特
性を得る上での重要な因子であることを見出した。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明はこのような知見
に基づきなされたもので、その要旨は、板厚方向の平均
Si濃度が6.2〜7.2wt%であり、且つ、板表層
部のSi濃度(wt%)と板厚中心部のSi濃度(wt
%)との偏差Δ〔%Si〕が、 0.2≦Δ〔%Si〕/t≦10 但し、t:鋼板の板厚(mm) 好ましくは、 0.2≦Δ〔%Si〕/t≦5 を満足する軟磁気特性に優れた高珪素鋼板である。 また、特に優れた磁気特性を得るためには、鋼中のSo
l.Alを80ppm以下とすることが好ましい。
【0006】
【作用】以下、本発明の構成とその限定理由を説明する
。本発明は、Siの浸透拡散処理により製造される高珪
素鋼板をその対象としている。一般に、この種の鋼板は
低珪素鋼板をSiCl4、Si2Cl6、SiHCl3
、SiH4等のSi化合物を含む雰囲気中において浸珪
処理した後、上記Si化合物を含まない雰囲気中で拡散
処理を行なうことにより製造される。Siを鋼板表面か
ら浸透拡散させる過程では、Siは表面から内部へ拡散
していくため、当然Si濃度は表層部で高く、中央部で
低い分布となる。そして、拡散が進むにつれて板厚方向
でのSi濃度の偏差は小さくなる。図1は、このような
板厚方向でのSiの拡散の進行を段階的に示している。
【0007】本発明者らは板厚方向でSi濃度に偏差を
有する鋼板について、まず、板厚方向での平均Si濃度
が磁気特性に及ぼす影響について検討を加えた。図5は
その結果を示したものである。この試験では、板表層部
のSi濃度(wt%)と板厚中心部のSi濃度(wt%
)との偏差Δ〔%Si〕と板厚t(mm)が所定の比(
Δ〔%Si〕/t≒10、Δ〔%Si〕/t≒5の2水
準)となるまで拡散処理を施した鋼板について、板厚方
向の平均Si濃度(wt%)を種々変え、それらの磁気
特性を評価した。その結果、同図に示すように板厚方向
の平均Si濃度(wt%)が6.2〜7.2%の範囲に
おいて最大透磁率が最も大きく、且つ鉄損、磁歪ともに
良好な特性が得られることが判った。このため、本発明
では板厚方向の平均Si濃度を6.2〜7.2wt%と
規定した。
【0008】しかし、平均Si濃度(wt%)が6.2
〜7.2%の範囲にあっても、図1に示されるようにS
iの浸透処理直後ではSi濃度偏差は著しく大きく、十
分な磁気特性が得られないであろうことは容易に推測で
きる。そこで、拡散時間を変えることによってSi濃度
偏差を変えた試料を作成し、Si濃度偏差が磁気特性に
及ぼす影響を調べた。これによれば、まず鉄損特性につ
いては、図3に示すように板表層部のSi濃度(wt%
)と板厚中心部のSi濃度(wt%)との偏差Δ〔%S
i〕が、板厚t(mm)の10倍以下(Δ〔%Si〕/
t≦10)となれば鉄損値はほぼ飽和し、それ以上拡散
処理を続けても若干低減される程度であることが判った
。しかしながら、図4および図5に示すように他の特性
、即ち最大透磁率や磁歪は、Δ〔%Si〕/t≦10程
度では飽和値には至らず、板表層部のSi濃度(wt%
)と中心部のSi濃度(wt%)との偏差Δ〔%Si〕
が、板厚t(mm)の5倍以下(Δ〔%Si〕/t≦5
)にならなければ十分な磁気特性が得られないことが判
った。以上の理由から、本発明では鉄損特性にのみ優れ
た鋼板を得る場合にはΔ〔%Si〕/t≦10、また、
鉄損特性のみならず、透磁率、磁歪特性にも優れた鋼板
を得る場合には、Δ〔%Si〕/t≦5と規定した。
【0009】このようにΔ〔%Si〕/t≦10、Δ〔
%Si〕/t≦5で拡散を打ち切ることが可能であれば
、処理時間をかなり短くすることが可能となる。本発明
者等が行った試験結果(図1参照)では、板厚0.5m
mの鋼板の場合、Siを十分に拡散(Δ〔%Si〕/t
≦0.2)させるためには約120分の拡散時間が必要
であるのに対し、Δ〔%Si〕/t≦10の場合には約
25分の拡散時間で、また、Δ〔%Si〕/t≦5の場
合には約40分の拡散時間で、それぞれのSi濃度偏差
範囲に入り、したがって、極めて短い処理時間で優れた
磁気特性を有する鋼板を得ることが可能となる。
【0010】一方、Δ〔%Si〕/tの下限については
、この種の鋼板を連続処理により工業的に生産するため
の処理時間の観点から規定される。Si拡散処理時間は
温度依存性が高く、同じ板厚であれば高温ほど処理時間
が短くて済む。通常、Si拡散処理は1200℃以下の
温度で行なわれる。また、処理時間については、60分
を超えると、仮りにラインスピ−ドを1mpmとしても
60m以上、10mpmとすれば600m以上の炉長が
必要となり、工業的な生産性の面から現実的とは言えな
い。したがって、処理時間は一応60分以内を目安とす
ることができる。そこで、板厚0.1mm、0.3mm
、0.5mmの各鋼板について、拡散処理温度1150
℃、1200℃の2水準でSi拡散処理を実施し、Δ〔
%Si〕/tと処理時間との関係を調べた。表1はその
結果を示すもので、1200℃拡散処理であれば、0.
5mm材についても60分以内でΔ〔%Si〕/t≒0
.2となり、本発明のSi濃度偏差範囲に入ることが判
る。したがって、この1200℃×60分以内で到達す
る0.5mm材のΔ〔%Si〕/t=0.2を本発明の
Δ〔%Si〕/tの下限と規定した。以上のように、板
厚方向の平均Si濃度とSi濃度偏差とが本発明条件を
満たす場合にのみ優れた磁気特性を得ることができる。
【0011】本発明において、鋼板中のSi以外の不純
物成分は特に限定されるものではないが、優れた磁気特
性を得るために以下のように規定することが好ましい。 まず、非金属元素について説明すると、C:Cは初透磁
率、最大透磁率を低下させ、Hcを増し、鉄損を増大さ
せる。この影響は、図7に示すように0.01wt%を
超えると顕著になることが知られており、したがって、
Cは0.01wt%以下とすることが好ましい。但し、
結晶方位改善を目的として製鋼段階でCを0.01wt
%を超えて含有させ、圧延することも可能であるが、こ
の場合には、時効および特性劣化を防止するため脱炭焼
鈍を実施し、Cを0.01wt%以下とすることが好ま
しい。すなわち、C濃度の調整は溶製段階で行ってもよ
く、また、脱炭焼鈍を実施することにより行なってもよ
い。
【0012】O:Oは鉄損を高め、SiO2のようなコ
ロイド状微粒子として存在する場合には、磁気特性を著
しく劣化させる元素として知られている。また、OはC
とどの程度共存するかによっても磁気特性を変化させる
。特に、図8に示すようにO含有量とC含有量とがほぼ
同等の場合、鉄損値が最小になることも知られており、
上記C含有量の適正範囲と同様に、O含有量も0.01
wt%以下とすることが好ましい。 N、S:共に時効の原因となるため極力少なくすること
が好ましく、これらの成分もそれぞれ0.01wt%以
下とすることが好ましい。 P:Pは酸素による磁性劣化を軽減し、鉄損を減少させ
る作用があり、また、最大透磁率の改善および磁束密度
の改善を目的として若干の添加が可能であるが、その添
加量の上限は1wt%程度までである。 H:Hは鋼板を著しく脆くさせるため、高圧下でHを含
有させる等、積極的な含有は避けるべきである(通常p
pmレベル以下)。以上のように非金属元素については
、C、O、N、S等を極力低く抑え、且つCとOの比率
を適正化することが好ましい。
【0013】次に金属元素について説明すると、Mn:
熱間圧延時の展延性の改善と、脱硫作用および規則−不
規則変態における磁性改善効果を考慮すると、Mnは0
.5wt%以下の範囲で添加することが好ましい。 Ca:Caは多量に含有すると透磁率を低下させるため
、0.3wt%以下とすることが好ましい。 V:若干のVを添加することにより、Hcが改善される
ことが知られている。すなわち、Vは0.05wt%程
度添加することにより、結晶粒の発達が促進され、磁性
が改善される。このため、Vは0.1wt%を上限とし
て添加することができる。 Ti:0.05wt%程度添加することでVと同様の効
果を期待でき、このため、0.1wt%を上限として添
加することができる。
【0014】Be、As:若干の磁気特性改善効果が期
待でき、それぞれ0.1wt%を上限として添加するこ
とができる。 Cu:0.7wt%程度までは、磁性を大きく劣化させ
ることはないが、0.7wt%を超えて含有すると鉄損
が増大する。このため、Cuは0.7wt%以下、好ま
しくは0.1wt%以下とすることが望ましい。 Cr:鉄損を増大させる傾向があり、0.03wt%以
下とすることが好ましい。 Ni:磁気特性を著しく悪化させるため、極力低減させ
ることが好ましく、0.01wt%以下とすることが好
ましい。
【0015】Al:従来の珪素鋼板では、Alの電気抵
抗を高める効果と展延性の改善効果とを利用して、Si
の一部をAlで置き換える方法を採っている。例えば、
4wt%Siとする代わりにに、Siを3wt%、Al
を1wt%とし、加工性を維持させる配慮がなされてい
る。本発明では、平均Si含有量を6.2〜7.2wt
%としているため、磁性改善のために新たにAlを添加
する必要はなく、溶製段階における脱酸促進および展延
性の改善という観点から、0.5wt%以下とすること
が好ましい。また、Siの拡散処理をAr、He、H2
などの無酸化性雰囲気中で行う場合には、Alが上記の
量程度含まれていても特に問題はない。しかしながら、
N2を含んだ雰囲気中で処理を行う場合には、高温処理
のためAlが窒化し、冷却条件が適切でない場合には、
その冷却過程において磁気特性に有害なAlNが析出す
る。したがって、N2を含んだ雰囲気中で処理を行う場
合には、AlNの析出を極力防止する観点から、Alは
80ppm以下とすることが好ましい。
【0016】また、以上のような元素の他に、下記のよ
うな目的で他の元素を添加しても本発明の効果を損なう
ものではない。 ・結晶粒成長抑制元素: Se、Sb、Sn、Bi、B、Te、Mo、Ta、Zr
、Nb等 ・結晶方位改善元素:B、Co、Mo、W等・機械特性
改善元素 加工性改善:Mo、W、Co等 強度改善  :W、Mo、Co、Be、B、Nb、Ta
、Zr、Hf等
【0017】
【実施例】〔実施例1〕Si浸透拡散過程における板厚
方向のSi濃度分布が磁気特性に及ぼす影響を調べた。 Siを3wt%含み、板厚0.5mm、0.3mm、0
.1mmの冷延鋼板を、SiCl4を含む雰囲気中で1
150℃の温度で浸珪処理し、次いでN2雰囲気中にお
いて種々の拡散時間で拡散処理を行い、得られた鋼板の
板厚方向でのSi濃度分布を測定した。浸珪処理前の素
材成分は表2の通りであり、また、浸透拡散処理後の板
厚方向平均Si量は6.5〜6.7wt%であった。 なお、0.1mm材については、Sol.Alを0.2
wt%含むため、Siの浸透拡散処理はAr雰囲気中で
実施した。図1に0.5mm材の拡散過程における板厚
方向Si濃度分布の経時変化を示す。Si濃度偏差値Δ
〔%Si〕と板厚tとの比Δ〔%Si〕/tは、拡散時
間25分程度で10以下となり、さらに、拡散時間40
分程度で5以下となる。図2は、図1の結果に基づきΔ
〔%Si〕/tの拡散時間に伴う変化を示したものであ
る。図3は各板厚の素材について、拡散時間を変えたサ
ンプルの鉄損(W10/50)を測定し、Δ〔%Si〕
/tが0.2以下となったものを拡散が飽和したものと
見なし、この時の鉄損値(W0.2)を基準にして他の
サンプルの鉄損値を無次元化して整理したものである。 これによれば、Δ〔%Si〕/tが10以下であれば、
鉄損値はほぼ飽和することが判る。また、Δ〔%Si〕
/t=10に対して、Δ〔%Si〕/t=5では、約5
〜10wt%程度鉄損値が改善されている。図4は図3
と同様の各板厚の素材について、その最大透磁率を整理
して示したものである。これによれば、最大透磁率はΔ
〔%Si〕/t=10程度では十分ではなく、Δ〔%S
i〕/t≦5でほぼ飽和値に達することがわかる。図4
における、Δ〔%Si〕/t≦5での改善効果は、50
Hz程度の周波数領域においては履歴損失の影響が大き
く、すなわち、最大透磁率が大きくなることによる履歴
損失の改善効果によるものである。
【0018】〔実施例2〕板厚方向での平均Si含有量
が磁気特性に及ぼす影響調べた。表2に示す成分組成の
0.5mm材について、平均Si含有量を変えるために
浸珪量を調整しつつ浸珪処理を行ない、次いで、Δ〔%
Si〕/tが10および5程度となるまで拡散処理を施
したサンプルを作成し、それらの最大透磁率、鉄損およ
び磁歪特性を評価した。その結果を図5に示す。これに
よれば、板厚方向平均Si含有量が、6.2〜7.2w
t%の範囲にあれば、最大透磁率は最大となり、鉄損は
ほぼ最小となり、また磁歪は±0.1/106以下とな
り、優れた磁気特性を示すことが判る。また、Δ〔%S
i〕/t=10よりもΔ〔%Si〕/t=5の方が優れ
た軟磁気特性を示すことも判る。なお、図中に従来法た
る特開昭62−227033号の方法で製造したサンプ
ルの評価結果を示すが、板厚方向の平均Si含有量が5
.6wt%と低いために十分な磁気特性が得られていな
い。
【0019】〔実施例3〕Al量が磁気特性に及ぼす影
響を調べた。Si:3.2wt%、C:0.003wt
%、Mn:0.05wt%、P:0.01wt%、N:
0.004wt%、S:0.003wt%を含有し、且
つAl含有量を種々変えた0.5mmの鋼板を浸珪処理
した後、N2を含んだ雰囲気中で拡散処理して、本発明
範囲の平均Si含有量、Si濃度分布を有するサンプル
を作製し、Al含有量が最大透磁率に及ぼす影響を調べ
た。図6はその結果を示すもので、Al量が80ppm
を超えると最大透磁率が著しく劣化することが判る。こ
の傾向は、板厚を変えてもほぼ同様であった。
【0020】
【表1】
【0021】
【表2】
【0022】
【発明の効果】以上述べた本発明の高珪素鋼板は、磁気
特性に優れ、しかも連続ラインで効率的に製造すること
が可能である。また、特にAlを低く抑えることにより
、N2を含んだ雰囲気中での拡散処理が可能となり、高
価なArガス等を使用する必要がなく、低コストで製造
することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】浸珪処理後の拡散処理における板厚方向Si濃
度分布の経時変化を示すものである。
【図2】拡散処理時間とΔ〔%Si〕/tとの関係を示
すものである。
【図3】Δ〔%Si〕/tが鉄損に及ぼす影響を示すも
のである。
【図4】Δ〔%Si〕/tが最大透磁率に及ぼす影響を
示すものである。
【図5】板厚方向平均Si含有量が最大透磁率、鉄損、
磁歪特性に及ぼす影響を示すものである。
【図6】Al含有量が最大透磁率に及ぼす影響を示すも
のである。
【図7】不純物元素の含有量が鉄損に及ぼす影響を示す
ものである。。
【図8】炭素と酸素の含有量比が鉄損に及ぼす影響を示
すものである。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  板厚方向の平均Si濃度が6.2〜7
    .2wt%であり、且つ、板表層部のSi濃度(wt%
    )と板厚中心部のSi濃度(wt%)との偏差Δ〔%S
    i〕が、 0.2≦Δ〔%Si〕/t≦10 但し、t:鋼板の板厚(mm) を満足する軟磁気特性に優れた高珪素鋼板。
  2. 【請求項2】  鋼中のSol.Alが80ppm以下
    である請求項1に記載の軟磁気特性に優れた高珪素鋼板
  3. 【請求項3】  板厚方向の平均Si濃度が6.2〜7
    .2wt%であり、且つ、板表層部のSi濃度(wt%
    )と板厚中心部のSi濃度(wt%)との偏差Δ〔%S
    i〕が、 0.2≦Δ〔%Si〕/t≦5 但し、t:鋼板の板厚(mm) を満足する軟磁気特性に優れた高珪素鋼板。
  4. 【請求項4】  鋼中のSol.Alが80ppm以下
    である請求項3に記載の軟磁気特性に優れた高珪素鋼板
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