JPH04231484A - フェニルメルカプトテトラゾール/トリルトリアゾール腐食抑制組成物 - Google Patents
フェニルメルカプトテトラゾール/トリルトリアゾール腐食抑制組成物Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F11/00—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
- C23F11/08—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
- C23F11/10—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using organic inhibitors
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】ベンゾトリアゾール、メルカプトベンゾチ
アゾール、トリルトリアゾールはよく知られた銅腐食抑
制剤である。たとえば、米国特許第4,675,158
号及びそこに引用された文献を参照されたい。この特許
は銅腐食抑制剤としてトリルトリアゾール/メルカプト
ベンゾチアゾール組成物の使用を開示している。また、
腐食抑制剤として低級(C3〜C6)アルキルベンゾト
リアゾールの使用を開示している米国特許第4,744
,950号及び対応EPO出願第85304467.5
号を参照されたい。
アゾール、トリルトリアゾールはよく知られた銅腐食抑
制剤である。たとえば、米国特許第4,675,158
号及びそこに引用された文献を参照されたい。この特許
は銅腐食抑制剤としてトリルトリアゾール/メルカプト
ベンゾチアゾール組成物の使用を開示している。また、
腐食抑制剤として低級(C3〜C6)アルキルベンゾト
リアゾールの使用を開示している米国特許第4,744
,950号及び対応EPO出願第85304467.5
号を参照されたい。
【0002】米国特許第4,338,209号はメルカ
プトベンゾチアゾール、トリルトリアゾール、ベンゾト
リアゾールの1種またはそれ以上を含む金属腐食抑制剤
を開示している。ベンゾトリアゾールとトリルトリアゾ
ールを含む処方物、メルカプトベンゾチアゾールとベン
ゾトリアゾールを含む処方物の実施例が示されている。
プトベンゾチアゾール、トリルトリアゾール、ベンゾト
リアゾールの1種またはそれ以上を含む金属腐食抑制剤
を開示している。ベンゾトリアゾールとトリルトリアゾ
ールを含む処方物、メルカプトベンゾチアゾールとベン
ゾトリアゾールを含む処方物の実施例が示されている。
【0003】係属中の特許出願U.S.S.N.第34
8,521号は銅及び銅合金の腐食抑制剤として高級ア
ルキルベンゾトリアゾールの使用に関するものであり、
係属中の特許出願U.S.S.N.第348,532号
は銅及び銅合金の腐食抑制剤としてアルコキシベンゾト
リアゾールの使用に関するものである。
8,521号は銅及び銅合金の腐食抑制剤として高級ア
ルキルベンゾトリアゾールの使用に関するものであり、
係属中の特許出願U.S.S.N.第348,532号
は銅及び銅合金の腐食抑制剤としてアルコキシベンゾト
リアゾールの使用に関するものである。
【0004】米国特許第4,406,811号はトリル
トリアゾール、ベンゾトリアゾール又はメルカプトベン
ゾトリアゾールのようなトリアゾール、脂肪族モノ又は
ジカルボン酸、及び非イオン性湿潤剤を含む組成物を開
示している。
トリアゾール、ベンゾトリアゾール又はメルカプトベン
ゾトリアゾールのようなトリアゾール、脂肪族モノ又は
ジカルボン酸、及び非イオン性湿潤剤を含む組成物を開
示している。
【0005】米国特許第4,873,139号は耐腐食
性の銀及び銅表面を得るために1−フェニル−1H−テ
トラゾール−5−チオールの使用を開示している。硝酸
溶液中の炭素鋼の腐食抑制のため1−フェニル−5−メ
ルカプトテトラゾールの使用も知られている。ケミカル
・アブストラクトCA95巻(6号):47253m(
1979年)を参照されたい。
性の銀及び銅表面を得るために1−フェニル−1H−テ
トラゾール−5−チオールの使用を開示している。硝酸
溶液中の炭素鋼の腐食抑制のため1−フェニル−5−メ
ルカプトテトラゾールの使用も知られている。ケミカル
・アブストラクトCA95巻(6号):47253m(
1979年)を参照されたい。
【0006】本発明は、a)1−フェニル−5−メルカ
プトテトラゾール、1−フェニル−5−メルカプトテト
ラゾールの異性体、置換フェニルメルカプトテトラゾー
ル、又はその塩、及びb)トリルトリアゾール、ベンゾ
トリアゾール、及びその塩からなる群から選ばれる化合
物からなる組成物、及び腐食抑制剤、特に銅及び銅合金
の腐食抑制剤として上記組成物を使用することに関する
。上記組成物は水性系と接触する金属表面、特に銅及び
銅合金表面に有効な不動態化を与え、また高溶解固体水
において特に有効である。
プトテトラゾール、1−フェニル−5−メルカプトテト
ラゾールの異性体、置換フェニルメルカプトテトラゾー
ル、又はその塩、及びb)トリルトリアゾール、ベンゾ
トリアゾール、及びその塩からなる群から選ばれる化合
物からなる組成物、及び腐食抑制剤、特に銅及び銅合金
の腐食抑制剤として上記組成物を使用することに関する
。上記組成物は水性系と接触する金属表面、特に銅及び
銅合金表面に有効な不動態化を与え、また高溶解固体水
において特に有効である。
【0007】さらに詳しくは、この発明の組成物の使用
は銅含有金属に改良された腐食保護を与える。ここで使
う「不動態化」の用語は、腐食から保護しようとする金
属表面に膜が形成されることを意味する。「不動態化速
度」は金属表面に保護膜を形成するのに要する時間を意
味し、「持続性」とは腐食抑制剤の不存在下で保護膜が
存在する時間の長さを意味する。また「高固体水」とは
多量の固体、特に約1500mg/l以上の溶解固体、
を含む水を意味する。
は銅含有金属に改良された腐食保護を与える。ここで使
う「不動態化」の用語は、腐食から保護しようとする金
属表面に膜が形成されることを意味する。「不動態化速
度」は金属表面に保護膜を形成するのに要する時間を意
味し、「持続性」とは腐食抑制剤の不存在下で保護膜が
存在する時間の長さを意味する。また「高固体水」とは
多量の固体、特に約1500mg/l以上の溶解固体、
を含む水を意味する。
【0008】本発明の組成物は、当該技術において未知
であり又は提案されていない。本発明は、a)1−フェ
ニル−5−メルカプトテトラゾール、その異性体、置換
フェニルメルカプトテトラゾール、又はその塩、好まし
くはその水溶性塩、及びb)トリルトリアゾール、ベン
ゾトリアゾール、及びその塩からなる群から選ばれる化
合物からなり、a)対b)の重量比が約0.1:100
〜100:0.1の範囲である組成物に関する。上記組
成物は水性系と接触する金属、特に銅及び銅含有金属の
腐食抑制に有用である。
であり又は提案されていない。本発明は、a)1−フェ
ニル−5−メルカプトテトラゾール、その異性体、置換
フェニルメルカプトテトラゾール、又はその塩、好まし
くはその水溶性塩、及びb)トリルトリアゾール、ベン
ゾトリアゾール、及びその塩からなる群から選ばれる化
合物からなり、a)対b)の重量比が約0.1:100
〜100:0.1の範囲である組成物に関する。上記組
成物は水性系と接触する金属、特に銅及び銅含有金属の
腐食抑制に有用である。
【0009】本発明はまた、a)1−フェニル−5−メ
ルカプトテトラゾール、その異性体、置換フェニルメル
カプトテトラゾール、又はその塩、好ましくはその水溶
性塩、及びb)トリルトリアゾール、ベンゾトリアゾー
ル、及びその塩からなる群から選ばれる化合物からなり
、a)対b)の重量比が約0.1:100〜100:0
.1の範囲である組成物の有効量、好ましくは処理しよ
うとする水性系の水の重量に対して少なくとも約0.1
ppmを上記水性系に維持することからなる、水性系と
接触する金属、特に銅及び銅含有金属の腐食抑制法に関
する。
ルカプトテトラゾール、その異性体、置換フェニルメル
カプトテトラゾール、又はその塩、好ましくはその水溶
性塩、及びb)トリルトリアゾール、ベンゾトリアゾー
ル、及びその塩からなる群から選ばれる化合物からなり
、a)対b)の重量比が約0.1:100〜100:0
.1の範囲である組成物の有効量、好ましくは処理しよ
うとする水性系の水の重量に対して少なくとも約0.1
ppmを上記水性系に維持することからなる、水性系と
接触する金属、特に銅及び銅含有金属の腐食抑制法に関
する。
【0010】本発明はまた、少なくとも1種の本発明の
組成物の有効量を含んでいる、金属表面、特に銅又は銅
合金表面と接触する水性系に関する。
組成物の有効量を含んでいる、金属表面、特に銅又は銅
合金表面と接触する水性系に関する。
【0011】水、特に冷却水、と本発明の組成物とから
なる組成物も特許請求の範囲である。本発明の発明者は
、この発明の組成物は特に銅及び銅含有金属に対し有効
な腐食抑制剤であることを発見した。この組成物は、特
に高溶解固体水中で金属表面、特に銅含有表面に改良さ
れた不動態化を与える。この発明の組成物は銅及び銅合
金の腐食の特に有効な抑制剤であるから、多金属系、特
に銅又は銅合金と1種又はそれ以上の他の金属を含む多
金属系の保護に使用できる。
なる組成物も特許請求の範囲である。本発明の発明者は
、この発明の組成物は特に銅及び銅含有金属に対し有効
な腐食抑制剤であることを発見した。この組成物は、特
に高溶解固体水中で金属表面、特に銅含有表面に改良さ
れた不動態化を与える。この発明の組成物は銅及び銅合
金の腐食の特に有効な抑制剤であるから、多金属系、特
に銅又は銅合金と1種又はそれ以上の他の金属を含む多
金属系の保護に使用できる。
【0012】本発明者らは、また、フェニルメルカプト
テトラゾール及び関連化合物と1種又はそれ以上のトリ
ルトリアゾール、ベンゾトリアゾール、及びその塩との
間の驚くべきかつ有益な相互作用を発見した。上記組成
物は冷却水系においてコスト上有効な腐食抑制を与える
事実に加えて、これらのブレンドはその成分単独よりも
速い不動態化速度を与え、また高溶解固体の腐食的な水
の中で不動態化するために使用されるときに特に有効で
ある。
テトラゾール及び関連化合物と1種又はそれ以上のトリ
ルトリアゾール、ベンゾトリアゾール、及びその塩との
間の驚くべきかつ有益な相互作用を発見した。上記組成
物は冷却水系においてコスト上有効な腐食抑制を与える
事実に加えて、これらのブレンドはその成分単独よりも
速い不動態化速度を与え、また高溶解固体の腐食的な水
の中で不動態化するために使用されるときに特に有効で
ある。
【0013】本発明者らはまた、本発明の組成物は可溶
性銅イオンを不活化し、銅イオンの存在において鉄又は
アルミニウムの電気化学的溶解によって同時に生じる銅
の電気化学的析出を防止するということを見出した。こ
れはアルミニウム及び鉄の腐食を減少する。この組成物
はまた、銅及び銅合金の腐食による可溶性銅イオンの形
成を防ぐことにより、上記電気化学的反応を間接的に制
限する。
性銅イオンを不活化し、銅イオンの存在において鉄又は
アルミニウムの電気化学的溶解によって同時に生じる銅
の電気化学的析出を防止するということを見出した。こ
れはアルミニウム及び鉄の腐食を減少する。この組成物
はまた、銅及び銅合金の腐食による可溶性銅イオンの形
成を防ぐことにより、上記電気化学的反応を間接的に制
限する。
【0014】本発明の組成物の成分a)は1−フェニル
−5−メルカプトテトラゾール(PMT)、その異性体
、置換フェニルメルカプトテトラゾール、及びそれらの
塩類、好ましくはその水溶性塩からなる群から選ばれる
。PMTの異性体は1−フェニル−5−テトラゾリンチ
オンのような互変異性体、2−フェニル−5−メルカプ
トテトラゾールのような位置異性体、及びその互変異性
体を含む。置換フェニルメルカプトテトラゾールは、フ
ェニル基がC1〜C22(直鎖又は枝分れの)アルキル
、C1〜C12(直鎖又は枝分れの)アルコキシ、ニト
ロ、ハロ、スルホンアミド、又はカルボキシアミドで置
換されている化合物を含むが、これに限定されない。
−5−メルカプトテトラゾール(PMT)、その異性体
、置換フェニルメルカプトテトラゾール、及びそれらの
塩類、好ましくはその水溶性塩からなる群から選ばれる
。PMTの異性体は1−フェニル−5−テトラゾリンチ
オンのような互変異性体、2−フェニル−5−メルカプ
トテトラゾールのような位置異性体、及びその互変異性
体を含む。置換フェニルメルカプトテトラゾールは、フ
ェニル基がC1〜C22(直鎖又は枝分れの)アルキル
、C1〜C12(直鎖又は枝分れの)アルコキシ、ニト
ロ、ハロ、スルホンアミド、又はカルボキシアミドで置
換されている化合物を含むが、これに限定されない。
【0015】この発明の組成物の成分b)はトリルトリ
アゾール(TT)及びその塩、好ましくはTTのナトリ
ウム塩、カリウム塩、及びベンゾトリアゾール(BT)
及びその塩類、好ましくはBTのナトリウム塩、カリウ
ム塩からなる群から選ばれる化合物である。TT又はそ
の塩が好ましい。成分a)対b)の重量比は約0.1:
100〜100:0.1、好ましくは約0.1:20〜
20:1、最も好ましくは約5:1〜1:5の範囲であ
るべきである。
アゾール(TT)及びその塩、好ましくはTTのナトリ
ウム塩、カリウム塩、及びベンゾトリアゾール(BT)
及びその塩類、好ましくはBTのナトリウム塩、カリウ
ム塩からなる群から選ばれる化合物である。TT又はそ
の塩が好ましい。成分a)対b)の重量比は約0.1:
100〜100:0.1、好ましくは約0.1:20〜
20:1、最も好ましくは約5:1〜1:5の範囲であ
るべきである。
【0016】本発明の組成物の一つの有効量を使うべき
である。ここで使う、本組成物に関する「有効量」の用
語は、活性成分基準で、所定の水性系で金属の腐食を有
効に抑制する本発明の組成物の量を意味する。好ましく
は、この発明の組成物は処理される水性系中の水の全重
量に対して、少なくとも0.1ppm、さらに好ましく
は約0.1〜500ppm、最も好ましくは約0.5〜
100ppmの活性濃度で添加される。
である。ここで使う、本組成物に関する「有効量」の用
語は、活性成分基準で、所定の水性系で金属の腐食を有
効に抑制する本発明の組成物の量を意味する。好ましく
は、この発明の組成物は処理される水性系中の水の全重
量に対して、少なくとも0.1ppm、さらに好ましく
は約0.1〜500ppm、最も好ましくは約0.5〜
100ppmの活性濃度で添加される。
【0017】この発明の組成物の最高濃度は、特別な適
用での経済的考慮により決定される。最高の経済的濃度
は一般に匹敵する効果を有する別の方法による処理の価
格により決められよう。価格因子は、処理される系の全
量、排出の処理又は処分費用、運転費用、供給装置費、
監視費用を含むが、これらに限定されない。他方、最低
濃度はpH、溶解固体、温度のような操作条件により決
定される。
用での経済的考慮により決定される。最高の経済的濃度
は一般に匹敵する効果を有する別の方法による処理の価
格により決められよう。価格因子は、処理される系の全
量、排出の処理又は処分費用、運転費用、供給装置費、
監視費用を含むが、これらに限定されない。他方、最低
濃度はpH、溶解固体、温度のような操作条件により決
定される。
【0018】a)1−フェニル−5−メルカプトテトラ
ゾール(PMT)、PMTの異性体、置換フェニルメル
カプトテトラゾール及び/又はその塩、及びb)トリル
トリアゾール、ベンゾトリアゾール、及び/又はその塩
のどの組合せも使えるが、成分a)対成分b)の重量比
が約0.1:100〜100:0.1である組成物が好
ましい。約0.5:20〜20:0.5の重量比がさら
に好ましく、約1:10〜10:1の重量比が最も好ま
しい。
ゾール(PMT)、PMTの異性体、置換フェニルメル
カプトテトラゾール及び/又はその塩、及びb)トリル
トリアゾール、ベンゾトリアゾール、及び/又はその塩
のどの組合せも使えるが、成分a)対成分b)の重量比
が約0.1:100〜100:0.1である組成物が好
ましい。約0.5:20〜20:0.5の重量比がさら
に好ましく、約1:10〜10:1の重量比が最も好ま
しい。
【0019】この発明の組成物で使用される好ましい化
合物は市販されている。たとえば、トリルトリアゾール
、ベンゾトリアゾールはPMC社から市販されている、
PMTは 1)Fairmount Chemical
Co., Inc., 2)Aceto Corpo
ration, 3)TripleCrown Ame
rica, Inc. から市販されている。一般に、
TTはナトリウム塩として売られ、一方BTとPMTは
純粋固体として売られている。
合物は市販されている。たとえば、トリルトリアゾール
、ベンゾトリアゾールはPMC社から市販されている、
PMTは 1)Fairmount Chemical
Co., Inc., 2)Aceto Corpo
ration, 3)TripleCrown Ame
rica, Inc. から市販されている。一般に、
TTはナトリウム塩として売られ、一方BTとPMTは
純粋固体として売られている。
【0020】成分化合物を単にブレンドすることにより
、本発明の組成物を製造できる。適当な製造技術は、水
処理技術においてまたトリアゾール供給者によりよく知
られている。たとえば、水酸化ナトリウム又は水酸化カ
リウムのようなアルカリ塩を含む水中に固体成分をブレ
ンドすることによって水溶液をつくることができ;標準
手段により粉末をブレンドすることにより固体混合物を
つくることができ;固体抑制剤を適当な有機溶剤に溶か
すことにより有機溶液をつくることができる。とりわけ
、アルコール、グリコール、ケトン、芳香族が適当な溶
剤である。
、本発明の組成物を製造できる。適当な製造技術は、水
処理技術においてまたトリアゾール供給者によりよく知
られている。たとえば、水酸化ナトリウム又は水酸化カ
リウムのようなアルカリ塩を含む水中に固体成分をブレ
ンドすることによって水溶液をつくることができ;標準
手段により粉末をブレンドすることにより固体混合物を
つくることができ;固体抑制剤を適当な有機溶剤に溶か
すことにより有機溶液をつくることができる。とりわけ
、アルコール、グリコール、ケトン、芳香族が適当な溶
剤である。
【0021】成分化合物を同時に(単一組成物として)
添加することによりこの発明の方法を実施できるし、又
は成分化合物を別々に加えることによりこの発明の方法
を実施できる。いずれも比較的便利である。適当な添加
法は水処理技術でよく知られている。
添加することによりこの発明の方法を実施できるし、又
は成分化合物を別々に加えることによりこの発明の方法
を実施できる。いずれも比較的便利である。適当な添加
法は水処理技術でよく知られている。
【0022】この発明の組成物は、工業的冷却水系、ガ
ススクラバー系、又は金属表面、特に銅及び/又は銅合
金を含む表面と接触するどの水系用の水処理添加剤とし
ても使用できる。この組成物は単独で、又は殺菌剤、ス
ケール抑制剤、分散剤、消泡剤、他の腐食抑制剤を含む
(これらに制限されないが)処理パッケージの一部とし
て供給できる。また、この発明の組成物を間けつ的に又
は連続的に供給できるが、最適結果を得るためには連続
供給が好ましい。間けつ的供給には、高級アルキル又は
アルコキシ(すなわちC6〜C12)置換フェニルメル
カプトテトラゾールを含む組成物が一層適していると考
えられる。
ススクラバー系、又は金属表面、特に銅及び/又は銅合
金を含む表面と接触するどの水系用の水処理添加剤とし
ても使用できる。この組成物は単独で、又は殺菌剤、ス
ケール抑制剤、分散剤、消泡剤、他の腐食抑制剤を含む
(これらに制限されないが)処理パッケージの一部とし
て供給できる。また、この発明の組成物を間けつ的に又
は連続的に供給できるが、最適結果を得るためには連続
供給が好ましい。間けつ的供給には、高級アルキル又は
アルコキシ(すなわちC6〜C12)置換フェニルメル
カプトテトラゾールを含む組成物が一層適していると考
えられる。
【0023】アドミラルティ−黄銅又は90/10銅−
ニッケルのような銅又は銅合金表面と接触する冷却水の
処理は、特別の銅抑制剤を使う必要がある。この抑制剤
は一般腐食、脱合金、電気化学的腐食を含む銅又は銅合
金表面の腐食を最小にし;可溶性銅イオンの鉄又はアル
ミニウム上への電気化学的「めっき析出」の問題を最小
にする。可溶性銅イオンは水性系と接触する鉄及び/又
はアルミニウム成分の腐食を加速する。これは鉄又はア
ルミニウム金属による銅イオンの還元により起り、同時
に鉄又はアルミニウム金属は酸化され、鉄表面上への銅
金属の「めっき析出」を生じる。この化学反応は鉄又は
アルミニウム保護膜を破壊するだけでなく局部ガルバニ
電池をつくり出し、鉄又はアルミニウムの点食(孔食)
をひき起す。
ニッケルのような銅又は銅合金表面と接触する冷却水の
処理は、特別の銅抑制剤を使う必要がある。この抑制剤
は一般腐食、脱合金、電気化学的腐食を含む銅又は銅合
金表面の腐食を最小にし;可溶性銅イオンの鉄又はアル
ミニウム上への電気化学的「めっき析出」の問題を最小
にする。可溶性銅イオンは水性系と接触する鉄及び/又
はアルミニウム成分の腐食を加速する。これは鉄又はア
ルミニウム金属による銅イオンの還元により起り、同時
に鉄又はアルミニウム金属は酸化され、鉄表面上への銅
金属の「めっき析出」を生じる。この化学反応は鉄又は
アルミニウム保護膜を破壊するだけでなく局部ガルバニ
電池をつくり出し、鉄又はアルミニウムの点食(孔食)
をひき起す。
【0024】本発明のPMT/TT又はPMT/BT組
成物の使用によりこの発明の目的を達成できる。この組
成物は金属表面、特に銅及び銅合金表面に迅速に保護膜
を与える。この組成物は、塩素及び/又は高溶解固体の
存在で特に有効である。
成物の使用によりこの発明の目的を達成できる。この組
成物は金属表面、特に銅及び銅合金表面に迅速に保護膜
を与える。この組成物は、塩素及び/又は高溶解固体の
存在で特に有効である。
【0025】
【実施例】塩化ナトリウム3.0重量%(Cl−18,
200ppm)を含む水中で50℃、8.0のpHで完
全通気下に腐食試験を実施した。表に示した腐食速度は
銅PAIRプローブを用いて得られたもので、ミル/年
(mpy)で表されている。実施例の腐食速度データは
、分極アドミタンス瞬時速度(PAIR)技術として知
られる電気化学的方法を用いて得られたものである。 この技術によると、問題の金属を±10MV分極し、生
じる電流を測定する。試験電極電位のわずかのシフトを
「線分極(Linear Polarization)
」と呼ぶ。10mVの小さな分極を生じた測定電流は、
もとの乱されない腐食電流に比例する。Stern、G
earyにより開発された式は次の通りである。
200ppm)を含む水中で50℃、8.0のpHで完
全通気下に腐食試験を実施した。表に示した腐食速度は
銅PAIRプローブを用いて得られたもので、ミル/年
(mpy)で表されている。実施例の腐食速度データは
、分極アドミタンス瞬時速度(PAIR)技術として知
られる電気化学的方法を用いて得られたものである。 この技術によると、問題の金属を±10MV分極し、生
じる電流を測定する。試験電極電位のわずかのシフトを
「線分極(Linear Polarization)
」と呼ぶ。10mVの小さな分極を生じた測定電流は、
もとの乱されない腐食電流に比例する。Stern、G
earyにより開発された式は次の通りである。
【化1】
Icorrは腐食速度に対応する電流であり、Iは測定
された分極電流であり、Eは電位シフトであり、Baは
陽極ターフェル傾斜であり、そしてBcは陰極ターフェ
ル傾斜である。
された分極電流であり、Eは電位シフトであり、Baは
陽極ターフェル傾斜であり、そしてBcは陰極ターフェ
ル傾斜である。
【0026】腐食速度(CR)、必要な分極電流(I)
、及び電極電位シフト(E)の間の関係は、基本的に下
記のPAIR式により表される。
、及び電極電位シフト(E)の間の関係は、基本的に下
記のPAIR式により表される。
【化2】
【0027】試片を3.0重量%NaCl溶液中、50
℃で、pH8.0に調節して試験した。試片をMeta
ls Samples, Inc.、ムンフォード、ア
ラバマから得た。 試片を次の方法で処理した。35%硝酸に10〜20秒
浸漬して酸化皮膜を除去し、次いで試料を脱イオン水を
使って十分にすすぎ、次いでアセトンですすぎ、空気中
で乾燥した。次いで、試料を軟質ナイロンパッドで光沢
仕上まで研磨した。この試験ではトリルトリアゾールの
ナトリウム塩を使った。純粋な1−フェニル−5−メル
カプトテトラゾールを使った。試片は銅99.9重量%
を含んでいた。
℃で、pH8.0に調節して試験した。試片をMeta
ls Samples, Inc.、ムンフォード、ア
ラバマから得た。 試片を次の方法で処理した。35%硝酸に10〜20秒
浸漬して酸化皮膜を除去し、次いで試料を脱イオン水を
使って十分にすすぎ、次いでアセトンですすぎ、空気中
で乾燥した。次いで、試料を軟質ナイロンパッドで光沢
仕上まで研磨した。この試験ではトリルトリアゾールの
ナトリウム塩を使った。純粋な1−フェニル−5−メル
カプトテトラゾールを使った。試片は銅99.9重量%
を含んでいた。
【0028】実施例1
表Iは、個々の成分で得られる腐食抑制と比較したPM
T/TT 1対1混合物により得られる改良された腐
食抑制を示す。上記混合物はTTまたはPMT単独より
も低い腐食速度を与えた。9日の長期間さらした後、混
合物はなお有効であり、一方個々の成分は無効であった
。 事実、PMTは48時間で無効となった。
表 I
銅抑制剤の比較:
3%NaCl、50℃、pH
7.0での銅腐食速度 抑 制 剤
瞬時
腐食速度(mpy)
1Hr. 3Hrs. 2
0Hrs. 24Hrs. 48Hrs.
対 照
18 −−− −−−
−−− −−− トリル
トリアゾールの 0.16 0.12
0.15 0.17 −−
− ナトリウム塩 (5mg/l) TT(2.5 mg/l)+ 0.
04 0.05 0.04 0.
04 −−− PMT(2.5 mg
/l) PMT(5 mg/l) 0.
6 0.4 0.6 −
−− 7.5
T/TT 1対1混合物により得られる改良された腐
食抑制を示す。上記混合物はTTまたはPMT単独より
も低い腐食速度を与えた。9日の長期間さらした後、混
合物はなお有効であり、一方個々の成分は無効であった
。 事実、PMTは48時間で無効となった。
表 I
銅抑制剤の比較:
3%NaCl、50℃、pH
7.0での銅腐食速度 抑 制 剤
瞬時
腐食速度(mpy)
1Hr. 3Hrs. 2
0Hrs. 24Hrs. 48Hrs.
対 照
18 −−− −−−
−−− −−− トリル
トリアゾールの 0.16 0.12
0.15 0.17 −−
− ナトリウム塩 (5mg/l) TT(2.5 mg/l)+ 0.
04 0.05 0.04 0.
04 −−− PMT(2.5 mg
/l) PMT(5 mg/l) 0.
6 0.4 0.6 −
−− 7.5
【0029】実施例2
この実施例は、他の条件は実施例1と同一にし、pH8
.3でのTT/PMT混合物の有効性を比較した。結果
を表IIに示す。表IIからわかるように、高腐食性3
%NaClでPMT/TT混合物は個々の成分よりも迅
速に銅試片を不動態化し、かつ一層低い腐食速度を与え
た。腐食性3%NaCl溶液に14日さらした後でさえ
、保護は劣化しなかった。
表 II
銅抑制剤の比較:
3%NaCl、50℃、pH
8.3での銅腐食速度 抑 制 剤
瞬時腐食速度(
mpy)
1Hr. 2Hrs. 18Hrs. 2
0Hrs. 23Hrs. 48Hrs. 14
日 対 照 18
20 19 19 1
9 19 − TT(5m
g/L) 0.4 0.26 0.
1 0.1 0.1 0.1
0.14 PMT(5mg/L) 0.
3 0.22 0.2 0.3
0.3 8.0 16 2.
5 mg/L TT+ 0.08 0.07
0.04 0.04 0.05
0.04 0.07 2.5 mg/L P
MT
.3でのTT/PMT混合物の有効性を比較した。結果
を表IIに示す。表IIからわかるように、高腐食性3
%NaClでPMT/TT混合物は個々の成分よりも迅
速に銅試片を不動態化し、かつ一層低い腐食速度を与え
た。腐食性3%NaCl溶液に14日さらした後でさえ
、保護は劣化しなかった。
表 II
銅抑制剤の比較:
3%NaCl、50℃、pH
8.3での銅腐食速度 抑 制 剤
瞬時腐食速度(
mpy)
1Hr. 2Hrs. 18Hrs. 2
0Hrs. 23Hrs. 48Hrs. 14
日 対 照 18
20 19 19 1
9 19 − TT(5m
g/L) 0.4 0.26 0.
1 0.1 0.1 0.1
0.14 PMT(5mg/L) 0.
3 0.22 0.2 0.3
0.3 8.0 16 2.
5 mg/L TT+ 0.08 0.07
0.04 0.04 0.05
0.04 0.07 2.5 mg/L P
MT
Claims (9)
- 【請求項1】 a)1−フェニル−5−メルカプトテ
トラゾール、その異性体、置換フェニルメルカプトテト
ラゾール、及びその塩からなる群から選ばれる化合物、
b)トリルトリアゾール、ベンゾトリアゾール、及びそ
の塩からなる群から選ばれる化合物からなり、a)対b
)の重量比が約0.1:100〜約100:1の範囲で
ある、水性系と接触する金属の腐食の抑制に有用な組成
物。 - 【請求項2】 a)対b)の重量比が約1:100〜
約100:1の範囲である請求項1の組成物。 - 【請求項3】 a)対b)の重量比が約5:1〜1:
5の範囲である請求項2の組成物。 - 【請求項4】 a)1−フェニル−5−メルカプトテ
トラゾール、その異性体、置換フェニルメルカプトテト
ラゾール、及びその塩からなる群から選ばれる化合物、
b)トリルトリアゾール、ベンゾトリアゾール、及びそ
の塩からなる群から選ばれる化合物からなり、a)対b
)の重量比が約0.1:100〜100:0.1の範囲
である組成物の有効量を水性系内に維持することからな
る、水性系と接触する金属の腐食の抑制法。 - 【請求項5】 a)対b)の重量比が約1:10〜1
0:1の範囲である請求項4の方法。 - 【請求項6】 a)対b)の重量比が約5:1〜1:
5の範囲である請求項4の方法。 - 【請求項7】 前記系の水の全重量に対して少なくと
も約0.1ppmの前記組成物を前記系に維持する請求
項4の方法。 - 【請求項8】 少なくとも約0.1ppmの前記組成
物を前記系に維持する請求項5の方法。 - 【請求項9】 少なくとも約0.1ppmの前記組成
物を前記系に維持する請求項6の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US540597 | 1983-10-11 | ||
US07/540,597 US5156769A (en) | 1990-06-20 | 1990-06-20 | Phenyl mercaptotetrazole/tolyltriazole corrosion inhibiting compositions |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04231484A true JPH04231484A (ja) | 1992-08-20 |
Family
ID=24156136
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3144645A Withdrawn JPH04231484A (ja) | 1990-06-20 | 1991-06-17 | フェニルメルカプトテトラゾール/トリルトリアゾール腐食抑制組成物 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5156769A (ja) |
EP (1) | EP0462666A1 (ja) |
JP (1) | JPH04231484A (ja) |
AU (1) | AU7915491A (ja) |
CA (1) | CA2044833A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07145491A (ja) * | 1993-11-24 | 1995-06-06 | Chiyoda Chem Kk | 水溶性金属防食剤 |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5411677A (en) * | 1993-04-26 | 1995-05-02 | The Penn State Research Foundation | Method and composition for preventing copper corrosion |
US5342548A (en) * | 1993-09-23 | 1994-08-30 | Betz Laboratories, Inc. | Methods for inhibiting the corrosion and deposition of iron and iron-containing metals in aqueous systems |
AU2394695A (en) | 1994-05-13 | 1995-12-05 | Henkel Corporation | Aqueous metal coating composition and process with reduced staining and corrosion |
US5547595A (en) * | 1995-02-07 | 1996-08-20 | Henkel Corporation | Aqueous lubricant and process for cold forming metal, particularly pointing thick-walled metal tubes |
FR2736935B1 (fr) * | 1995-07-21 | 1997-08-14 | Lorraine Laminage | Solution aqueuse de traitement contre la corrosion de toles d'acier revetues sur une face de zinc ou d'alliage de zinc |
PT767145E (pt) | 1995-10-06 | 2000-09-29 | Calgon Corp | Utilizacao de uma composicao sinergica para controlo de incrustacao |
US6083309A (en) * | 1996-10-09 | 2000-07-04 | Natural Coating Systems, Llc | Group IV-A protective films for solid surfaces |
US5874026A (en) * | 1997-12-01 | 1999-02-23 | Calgon Corporation | Method of forming corrosion inhibiting films with hydrogenated benzotriazole derivatives |
US6265667B1 (en) | 1998-01-14 | 2001-07-24 | Belden Wire & Cable Company | Coaxial cable |
US5964928A (en) * | 1998-03-12 | 1999-10-12 | Natural Coating Systems, Llc | Protective coatings for metals and other surfaces |
US6585933B1 (en) | 1999-05-03 | 2003-07-01 | Betzdearborn, Inc. | Method and composition for inhibiting corrosion in aqueous systems |
US7855130B2 (en) * | 2003-04-21 | 2010-12-21 | International Business Machines Corporation | Corrosion inhibitor additives to prevent semiconductor device bond-pad corrosion during wafer dicing operations |
WO2005068559A1 (ja) * | 2004-01-19 | 2005-07-28 | Chubu Chelest Co., Ltd. | 気化性防錆剤、これを用いた成形材料及び成形品 |
US8470238B2 (en) * | 2008-11-20 | 2013-06-25 | Nalco Company | Composition and method for controlling copper discharge and erosion of copper alloys in industrial systems |
CZ304078B6 (cs) * | 2011-12-19 | 2013-10-02 | Sellier & Bellot | Speciální paliva vhodná pro pyrotechnické smesi emitující v blízké IR oblasti |
CA2932347C (en) | 2013-12-02 | 2023-02-14 | Ecolab Usa Inc. | Tetrazole based corrosion inhibitors |
CA2987055C (en) | 2015-05-28 | 2023-10-17 | Ecolab Usa Inc. | Purine-based corrosion inhibitors |
WO2016191667A2 (en) | 2015-05-28 | 2016-12-01 | Ecolab Usa Inc. | Novel corrosion inhibitors |
WO2016191672A1 (en) | 2015-05-28 | 2016-12-01 | Ecolab Usa Inc. | 2-substituted imidazole and benzimidazole corrosion inhibitors |
CN107667094B (zh) | 2015-05-28 | 2022-06-14 | 艺康美国股份有限公司 | 作为腐蚀抑制剂的水溶性吡唑衍生物 |
ES2909449T3 (es) | 2018-01-03 | 2022-05-06 | Ecolab Usa Inc | Derivados de benzotriazol como inhibidores de la corrosión |
Family Cites Families (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2941953A (en) * | 1956-07-27 | 1960-06-21 | Hagan Chemicals & Controls Inc | Method of inhibiting corrosion of copper and cuprous alloys in contact with water |
GB1065995A (en) * | 1963-12-06 | 1967-04-19 | Geigy Uk Ltd | Benzotriazoles and their production |
US3342749A (en) * | 1964-06-02 | 1967-09-19 | Monsanto Co | Corrosion inhibited phosphate solutions |
US3887481A (en) * | 1971-06-14 | 1975-06-03 | Sherwin Williams Co | Benzotriazole and tolyltriazole mixture with tetrachloroethylene |
US3803049A (en) * | 1971-06-14 | 1974-04-09 | Sherwin Williams Co | Benzotriazole and tolyltriazole mixtures |
JPS5233583B2 (ja) * | 1972-06-15 | 1977-08-29 | ||
US3985503A (en) * | 1975-03-17 | 1976-10-12 | The Sherwin-Williams Company | Process for inhibiting metal corrosion |
JPS5323635A (en) * | 1976-08-18 | 1978-03-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | Conductive formation material an d its conductive picture recording method |
US4149969A (en) * | 1977-03-23 | 1979-04-17 | Amax Inc. | Process and composition for inhibiting corrosion of metal parts in water systems |
JPS5456040A (en) * | 1977-09-20 | 1979-05-04 | Otsuka Chem Co Ltd | Metal corrosion preventing composition |
JPS5456041A (en) * | 1977-10-01 | 1979-05-04 | Otsuka Chem Co Ltd | Metal corrosion preventing composition |
US4184991A (en) * | 1978-03-13 | 1980-01-22 | Zimmite Corporation | Corrosion inhibiting composition for ferrous metals and method of treating with same |
JPS558465A (en) * | 1978-07-05 | 1980-01-22 | Chiyoda Kagaku Kenkyusho:Kk | Acid corrosion inhibitor |
US4202796A (en) * | 1978-07-31 | 1980-05-13 | Chemed Corporation | Anti-corrosion composition |
US4406811A (en) * | 1980-01-16 | 1983-09-27 | Nalco Chemical Company | Composition and method for controlling corrosion in aqueous systems |
JPS56142873A (en) * | 1980-04-08 | 1981-11-07 | Johoku Kagaku Kogyo Kk | Anticorrosive agent for metal |
JPS57152476A (en) * | 1981-03-14 | 1982-09-20 | Chiyoda Kagaku Kenkyusho:Kk | Corrosion inhibitor |
US4744950A (en) * | 1984-06-26 | 1988-05-17 | Betz Laboratories, Inc. | Method of inhibiting the corrosion of copper in aqueous mediums |
NZ212126A (en) * | 1984-06-26 | 1988-05-30 | Betz Int | Copper-corrosion inhibitor composition and use in water cooling systems |
US4668474A (en) * | 1985-07-22 | 1987-05-26 | Calgon Corporation | Mercaptobenzothiazole and ferrous ion corrosion inhibiting compositions |
US4675158A (en) * | 1985-07-30 | 1987-06-23 | Calgon Corporation | Mercaptobenzothiazole and tolyltriazole corrosion inhibiting compositions |
US4613481A (en) * | 1985-08-16 | 1986-09-23 | Calgon Corporation | Mercapthothiazoline corrosion inhibiting compositions |
US4657785A (en) * | 1985-12-11 | 1987-04-14 | Nalco Chemical Company | Use of benzo and tolyltriazole as copper corrosion inhibitors for boiler condensate systems |
US4728452A (en) * | 1986-01-17 | 1988-03-01 | Pony Industries, Inc. | Metal corrosion inhibition in closed cooling systems |
US4686059A (en) * | 1986-02-12 | 1987-08-11 | First Brands Corporation | Antimony tartrate corrosion inhibitive composition for coolant systems |
US4873139A (en) * | 1988-03-29 | 1989-10-10 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Corrosion resistant silver and copper surfaces |
-
1990
- 1990-06-20 US US07/540,597 patent/US5156769A/en not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-06-14 EP EP91201494A patent/EP0462666A1/en not_active Withdrawn
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07145491A (ja) * | 1993-11-24 | 1995-06-06 | Chiyoda Chem Kk | 水溶性金属防食剤 |
Also Published As
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CA2044833A1 (en) | 1991-12-21 |
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