JPH04231353A

JPH04231353A - ガラス物品のスカフィング−マスク用改良コ―ティング

Info

Publication number: JPH04231353A
Application number: JP3216560A
Authority: JP
Inventors: Prakash K Pawar; プラカシュ・キサナロ・パワー; Frank J Traver; フランク・ジョン・トラバー
Original assignee: General Electric Co
Current assignee: General Electric Co
Priority date: 1990-08-08
Filing date: 1991-08-02
Publication date: 1992-08-20
Also published as: EP0470442A2; US5095086A; CA2042174A1; KR920004288A; EP0470442A3

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ガラス物品上のスカフ
ィングマ―クを隠蔽（マスク）するためのコ―ティング
組成物に係る。特に本発明は、ガラスびんのスカフィン
グマ―クを隠蔽するための改良された速硬性コ―ティン
グ組成物に係る。

【０００２】

【従来の技術】いくつかの国でビ―ル、ソフトドリンク
、牛乳などに使われているガラス容器は通常通い容器で
あり、使用後小売店から回収され再使用される。このよ
うなびんは、たとえば包装などのびん詰め作業や輸送の
間に、たとえばこすったり、引掻いたり、擦りむいたり
、傷付いたり、その他類似の摩耗作用（本明細書中では
これを「スカフィングィング」と総称する）によるかな
りの摩耗損傷を受け、その結果ガラスびんの表面にスカ
フィングマ―クが残る。スカフィングィング現象は、び
んとびんとの圧力、モ―ルドライン、ガイドレ―ル、な
らびにアルカリ液によるエッチングおよび浸出に起因す
る機械的研磨作用によって増長される。その結果ガラス
びんの外観がひどく損われ、それを用いてびん詰めにさ
れた飲料の商品価値が低下する。

【０００３】びん表面のスカフィングマ―クを隠すため
のガラス組成と表面処理を改良するために研究が続けら
れている。たとえば、ヨコクラ（Ｙｏｋｏｋｕｒａ）ら
の米国特許第４，２７３，８３４号、クリタ（Ｋｕｒｉ
ｔａ）らの同第４，６５６，２２１号、およびマルヤマ
（Ｍａｒｕｙａｍａ）らの同第４，４６７，０６８号を
参照されたい。

【０００４】ヨコクラ（Ｙｏｋｏｋｕｒａ）らの米国特
許第４，２７３，８３４号には、フェニル基、メチル基
およびアルコキシ基で末端停止したオルガノポリシロキ
サンと硬化触媒（たとえばテトラブチルチタネ―トまた
はジブチルスズジラウレ―ト）からなるガラス容器のス
カフィングマスキング用組成物が開示されている。この
ヨコクラ（Ｙｏｋｏｋｕｒａ）のコ―ティングでは、フ
ェニル基、メチル基およびアルコキシ基間の比がスカフ
ィングマスキング特性にとって特に重大な意味をもって
いる。

【０００５】クリタ（Ｋｕｒｉｔａ）らの米国特許第４
，６５６，２２１号には、ケイ素に結合した有機基（フ
ェニル基、アラルキル基およびアルキル基の中から選択
される）を含有するポリジオルガノシロキサン、直鎖の
ジオルガノシロキサン部分と、アミノ基もしくは窒素基
とエポキシ基および酸素原子との反応によって形成され
た架橋部分とを含有する膜形成性のポリオルガノシロキ
サン、カチオン性界面活性剤、ならびに水からなる、透
明なガラスびんのこすり傷を隠すための組成物が開示さ
れている。

【０００６】マルヤマ（Ｍａｒｕｙａｍａ）らの米国特
許第４，４６７，０６８号は、膜形成性のポリオルガノ
シロキサンを主成分とする組成物（Ａ）と液体ポリジオ
ルガノシロキサンを主成分とする組成物（Ｂ）とから形
成されたエマルションからなる、ガラス表面のこすり傷
または引掻き傷を隠すための組成物を開示している。

【０００７】日本で現在使われている他の表面処理法と
して、オルガノオキシで連鎖停止したオルガノポリシル
セスキオキサン、高レベル（たとえば７５％以上）の揮
発性希釈剤、および低レベルの硬化触媒を含有するシリ
コ―ンコ―ティングを使用するものがある。このシリコ
―ンコ―ティングはいくつかの重大な欠点を有する。

【０００８】上記シリコ―ンコ―ティングの欠点のひと
つは、その本質的に遅い硬化速度（すなわち、周囲条件
に応じて約２〜４日）である。これはこのコ―ティング
の揮発性希釈剤含量が高く硬化触媒の含量が低い（この
ために硬化速度が抑制される）ためである。この硬化速
度が遅いために、コ―ティングが粘着質である期間が長
くなる。粘着質である時間が長くなるとひとつの問題が
生じる。すなわち、米国ではびんの表面にコ―ティング
を施した後ビ―ルやソフトドリンクのびんをクレ―をコ
―トした紙容器に包装するからである。びんに塗布した
シリコ―ンコ―ティングが硬化過程の間粘着質であると
、そのコ―ティングが紙容器からクレ―物質を拾い上げ
ることになり、その結果、コ―トされたびんの表面に汚
点が残ることになる。すなわち、コ―ティングが粘着質
である時間が長いと、拾い上げられるクレ―物質の量が
それだけ多くなると共に汚点がそれだけ多くなる。

【０００９】上記シリコ―ンコ―ティングのもうひとつ
の欠点は「湿った」びん表面を完全に被覆することがで
きないということである。米国においてビ―ルは殺菌工
程を経る。すなわち、ビ―ルを入れたびんを冷水浴に漬
けて急冷する。この滅菌工程の完了後急冷したびんを水
浴から取出し、乾燥する。しかし、この急冷したびんと
周囲雰囲気との温度の違いに基づく凝縮の結果急冷した
びんの表面上に水が生成し、びんの表面を濡らす。

【００１０】上に記載した固形分の少ないシリコ―ンコ
―ティングは、湿ったびんを完全に被覆するようにみえ
るが硬化した際のコ―ティングは一様ではなくびん表面
に汚点を形成し、その結果スカフィングマ―クを隠蔽す
るのに不完全であり、美しくない外観を呈する。

【００１１】

【発明の目的】したがって、本発明の目的は、ガラス物
品の速硬性スカフィング−マスク用コ―ティングを提供
することである。

【００１２】また、本発明の別の目的は、硬化して、湿
ったガラス表面上に均一でしみのないコ―ティングを形
成する、ガラス物品の速硬性スカフィング−マスク用コ
―ティングを提供することである。

【００１３】これらの目的は本発明で達成される。

【００１４】

【発明の概要】本発明の基礎となった発見は、オルガノ
オキシで連鎖停止したオルガノポリシルセスキオキサン
と揮発性希釈剤を含有するシリコ―ンコ―ティング組成
物の硬化速度およびマスキング特性が、高めの濃度のテ
トラオルガノチタネ―ト硬化触媒とゼロまたは低レベル
の揮発性希釈剤を使用することによって改良されるとい
うことである。

【００１５】本発明は、ガラス物品上のスカフィングマ
―クを隠すのに適切な改良された硬化性コ―ティング組
成物を提供する。この組成物は、以下の成分（Ａ）と（
Ｂ）からなる。（Ａ）次の成分（１）〜（４）からなる成分約７０〜約
１００重量％。

【００１６】（１）２５℃で約５〜約１０００センチポ
イズの粘度を有し、ＲＳｉＯ３／２　単位とＲ（Ｒ１　
Ｏ）３−２ｎＳｉＯｎ　単位で本質的に構成される、オ
ルガノオキシで連鎖停止したオルガノポリシルセスキオ
キサン約５０〜７５重量％［ただし、ｎは０、１／２ま
たは１に等しい数であり、ＲとＲ１　はそれぞれ独立し
て、１〜約２０個の炭素原子を含有する一価の炭化水素
基であり、ＲＳｉＯ３／２　単位とＲ（Ｒ１　Ｏ）３−
２ｎＳｉＯｎ　単位の比は約１：１から約５０：１まで
である］。

【００１７】（２）一般式Ｔｉ（ＯＲ２　）４　を有するテトラオルガノチタネ―ト約５〜約１５重量％
［ただし、Ｒ２は約１〜約１０個の炭素原子を含有する
一価の炭化水素基である］。

【００１８】（３）一般式Ｒ３　（Ｒ４　Ｏ）３　Ｓｉ
を有するオルガノトリオルガノオキシシラン約０〜約２
５重量％［ただし、Ｒ３　とＲ４　はそれぞれ独立して
、１〜約２０個の炭素原子を含有する一価の炭化水素基
である］。

【００１９】（４）カルボン酸エステル約０〜約１５重
量％。（Ｂ）揮発性希釈剤約０〜約３０重量％。

【００２０】本発明の組成物からは、ガラス物品（たと
えば、ガラスびんなど）上のスカフィングマ―クを隠す
ためのコ―ティングが得られる。このコ―ティングは従
来品より速く硬化して湿ったびんの表面を完全に隠蔽す
る。

【００２１】さらに、本発明は、本発明の硬化性組成物
または硬化した組成物を表面に有するガラス物品、特に
ガラスびんに関する。

【００２２】

【詳細な説明】

本発明の組成物は、（Ａ）（１）オルガノオキシで連鎖
停止したオルガノポリシルセスキオキサン約５０〜７５
％（重量）、（２）テトラオルガノチタネ―ト約５〜約
１５％、（３）オルガノトリオルガノオキシシラン約０
〜約２５％、および（４）カルボン酸エステル約０〜約
１５％からなる成分約７０〜約１００％（重量）、なら
びに（Ｂ）揮発性希釈剤約０〜約３０％からなっている
。

【００２３】成分（Ａ）は、成分（Ａ）と（Ｂ）の合計
重量を基準にして、７０〜約１００重量％、好ましくは
約８０〜１００重量％、最も好ましくは約９０〜約１０
０重量％の範囲の量で存在する。

【００２４】成分（Ａ）（１）は、約５〜約１０００、
好ましくは約５〜５００、最も好ましくは約１０〜約２
００の粘度を有し、本質的にＲＳｉＯ３／２単位とＲ（
Ｒ１　Ｏ）３−２ｎＳｉＯｎ　単位とで構成される、オ
ルガノオキシで連鎖が停止したポリオルガノシルセスキ
オキサンである。ただし、ＲとＲ１　はそれぞれ独立し
て、１〜約２０個、好ましくは約１〜１２個、最も好ま
しくは約１〜約８個の炭素原子を含有する一価の炭化水
素基であり、ＲＳｉＯ３／２　単位とＲ（Ｒ１　Ｏ）３
−２ｎＳｉＯｎ　単位の比は約１：１から約５０：１ま
で、好ましくは約３：１から約２０：１まで、最も好ま
しくは約４：１から約８：１までである。ＲとＲ１　で
表わされる基の例としては、メチル、エチルおよびイソ
プロピルなどのようなアルキル基、シクロペンチルやシ
クロヘキセニルなどのような環式脂肪族基、ビニルやア
リルなどのようなオレフィン基、ならびにフェニル基が
ある。ＲとＲ１　がどちらもメチル基であるのが好まし
い。

【００２５】成分（Ａ）（１）は、成分（Ａ）の合計重
量を基準にして、５０〜７５重量％、好ましくは約６０
〜約７０重量％、最も好ましくは約６０〜約６５重量％
の範囲内の量で存在する。

【００２６】成分（Ａ）（１）は、脂肪族アルコ―ルの
水溶液の存在下でオルガノトリオルガノオキシシランの
低度の酸部分水解によって製造することができる。触媒
のＨＣｌはオルガノトリクロロシランとして調節された
低レベルで導入する。こうすると、水を生成して臨界的
な加水分解化学量論を変化させることになるＨＣｌ／メ
タノ―ル副反応が最小限に抑制される。部分加水分解に
続いてアルカリ土類金属炭酸塩の存在下６０〜７０℃で
２０トルの減圧ストリッピングをすることによって、固
形分基準で５〜１０重量％のメトキシ含量を有する樹脂
が得られる。

【００２７】成分（Ａ）（１）の樹脂の出発原料として
適したオルガノトリオルガノオキシシランの例としては
、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラ
ン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシ
シランなどがある。メチルトリメトキシシランが好まし
い。

【００２８】適切な脂肪族アルコ―ルの例としては、メ
タノ―ル、エタノ―ル、プロパノ―ルなどがある。メタ
ノ―ルが好ましい。

【００２９】適切なオルガノトリクロロシランの例とし
ては、メチルトリクロロシラン、エチルトリクロロシラ
ンなどがある。メチルトリクロロシランが好ましい。

【００３０】成分（Ａ）（２）は次の一般式を有するテ
トラオルガノチタネ―トである。

【００３１】Ｔｉ（ＯＲ２　）４　ここで、Ｒ２　は約１〜約１０個の炭素原子、好ましく
は約２〜約８個の炭素原子を含有する一価の炭化水素基
である。Ｒ２　がブチル基であるのが最も好ましい。す
なわち、成分（Ａ）（２）はテトラブチルチタネ―トが
最も好ましい。

【００３２】成分（Ａ）（２）は成分（Ａ）（１）の樹
脂に対する触媒すなわち架橋剤として機能する。

【００３３】成分（Ａ）（２）の量は本発明にとって極
めて重要である。存在量が少な過ぎると硬化速度がかな
り遅いままとなる。成分（Ａ）（２）が多過ぎるとびん
の湿った表面上に白い膜、すなわちＴｉＯ２　が生成す
る。このような問題を避けるために成分（Ａ）（２）は
、成分（Ａ）の重量を基準にして、約５〜約１５重量％
、好ましくは約８〜約１５重量％、最も好ましくは約１
２〜約１５重量％の範囲内の量で存在する。

【００３４】成分（Ａ）（３）は一般式Ｒ３　（Ｒ４　
Ｏ）３　Ｓｉを有するオルガノトリオルガノオキシシラ
ンである。ここで、Ｒ３　とＲ４　はそれぞれ独立して
、１〜約２０個、好ましくは約１〜約１２個、最も好ま
しくは約１〜約８個の炭素原子を含有する一価の炭化水
素基である。適切なオルガノトリオルガノオキシシラン
の例としては、たとえばメチルトリメトキシシラン、メ
チルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン
およびメチルトリブトキシシランなどのようなメチルト
リアルコキシシランがある。成分（Ａ）（３）はメチル
トリエトキシシランが好ましい。

【００３５】成分（Ａ）（３）は、従来法に従ってオル
ガノトリクロロシラン（たとえばメチルトリクロロシラ
ン）を適当なアルコ―ル（たとえばエタノ―ル）でアル
コキシル化することによって得ることができる。

【００３６】成分（Ａ）（３）は、成分（Ａ）の重量を
基準にして、約０〜約２５重量％、好ましくは約１０〜
約２０重量％、最も好ましくは約１４〜約２０重量％の
範囲内の量で存在する。

【００３７】本発明の組成物中の成分（Ａ）（３）の機
能は硬化速度を促進することである。

【００３８】成分（Ａ）（４）はカルボン酸エステルで
ある。約６〜約２２個の炭素原子を有するカルボン酸エ
ステルが好ましい。これらは脂肪族でも芳香族でもよく
、１個かまたはそれ以上のエステル基を含むことができ
る。適切なカルボン酸エステルの例としては、ラウリン
酸エチル、ミリスチン酸イソプロピル、パルミチン酸イ
ソプロピル、ベヘン酸イソプロピル、酢酸デシル、酪酸
ベヘニル、酢酸ヘキサデシル、デカン酸デシル、オレイ
ン酸メチル、ラウリン酸ラウリル、酢酸オレイル、およ
びアジピン酸ジオクチルがある。本発明で使用するのに
特に好ましいのはミリスチン酸イソプロピルである。

【００３９】成分（Ａ）（４）は、成分（Ａ）の重量を
基準にして、０〜約１５重量％、好ましくは約５〜約１
５重量％、最も好ましくは約８〜約１２重量％の範囲内
の量で存在する。

【００４０】成分（Ａ）（４）は本発明の組成物中で可
塑剤として機能する。

【００４１】本発明の組成物は、揮発性希釈剤からなる
第二の成分（Ｂ）を、成分（Ａ）と（Ｂ）の合計重量を
基準にして約０〜約３０重量％含んでいる。成分（Ｂ）
は揮発性のシリコ―ンまたは有機の流体である。本明細
書中で使用する「揮発性」という用語は周囲条件で測定
可能な蒸気圧を有する物質をさしている。

【００４２】適切な揮発性シリコ―ン流体は環状でも線
状でもよい。さまざまな揮発性シリコ―ンオイルが、ト
ッド（Ｔｏｄｄ）らの「化粧品用の揮発性シリコ―ン流
体（Ｖｏｌａｔｉｌｅ　Ｓｉｌｉｃｏｎｅ　Ｆｌｕｉｄ
ｓ　ｆｏｒ　Ｃｏｓｍｅｔｉｃｓ）」、９１化粧品（Ｃ
ｏｓｍｅｔｉｃｓ　ａｎｄ　Ｔｏｉｌｅｔｒｉｅｓ）、
第２７〜３２頁（１９７６年）に記載されている。一般
に、線状の揮発性シリコ―ンは２５℃で約５センチスト
―クス未満の粘度をもっており、環状のシリコ―ンは約
１０センチスト―クス未満の粘度をもっている。

【００４３】一般に、揮発性のシリコ―ン流体はテトラ
マ―、ペンタマ―およびヘキサマ―の任意の組合せまた
は低粘度のジオルガノ流体であることができる。一般に
適切な環状の揮発性シリコ―ン流体は次式で表わすこと
ができる。

【００４４】

【化１】ここで、Ｒ５　は炭素１〜３個のアルキル基であり、ｘ
は３から１０までの数であり、３から７までの数が好ま
しい。

【００４５】本発明で有用な揮発性シリコ―ン流体の例
を挙げると、たとえば、（ａ）（ｉ）最低で９５％の量
のペンタマ―と５％の他の環状物を含むＳＦ１２０２、
（ｉｉ）８５％のペンタマ―と１５％のテトラマ―を含
むＳＦ１２０４、（ｉｉｉ）９５％のテトラマ―と５％
の他の環状物を含むＳＦ１１７３［以上すべてゼネラル
・エレクトリック社（Ｇｅｎｅｒａｌ　Ｅｌｅｃｔｒｉ
ｃ　Ｃｏｍｐａｎｙ）から入手できる］、および（ｂ）
Ｒ５　がメチルであり、通常約８８重量％のテトラマ―
、約１１．８重量％のペンタマ―ならびに微量のトリマ
―およびヘキサマ―からなるダウ・コ―ニング（Ｄｏｗ
　Ｃｏｒｎｉｎｇ）３４４流体がある。

【００４６】本発明で使用するのに好ましい揮発性のシ
リコ―ン流体は、シクロメチコンペンタマ―やシクロメ
チコンテトラマ―などのような環状物質、およびフェネ
チルペンタメチルジシロキサンなどのような線状物質で
ある。最も好ましい揮発性シリコ―ン流体はシクロメチ
コンペンタマ―である。

【００４７】適切な揮発性の有機流体の例は約６〜約１
６個の炭素原子、好ましくは約１０〜約１４個の炭素原
子を有する直鎖または分枝のイソパラフィン系炭化水素
である。最も好ましいイソパラフィン系炭化水素はエク
ソン社（Ｅｘｘｏｎ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）から入
手できるアイソパ―（ＩＳＯＰＡＲ）という名称（登録
商標）のものである。

【００４８】本発明の組成物は揮発性の流体の存在を必
要としない。存在する場合、揮発性流体の量は比較的低
いことが重要である。揮発性流体があまりに多く存在す
ると組成物の硬化速度が遅くなり、すでに論じた問題が
生じる。したがって、揮発性流体は組成物全体の重量の
０〜約３０％、好ましくは約０〜約２０％、最も好まし
くは約０〜約１０％の範囲内の量で本発明の組成物中に
存在する。

【００４９】本発明の組成物は、成分（Ａ）（３）のオ
ルガノトリオルガノオキシシランを成分（Ａ）（１）の
ポリオルガノシルセスキオキサンと混合した後成分（Ａ
）（４）の可塑剤を添加することによって製造すること
ができる。成分を均一になるまで混和する。その後この
混合物に成分（Ａ）（２）の触媒を加える。

【００５０】次に、この硬化性組成物をブラシ塗装、パ
フ塗装、浸漬塗装などによってびんやその他のガラス物
品の表面に塗布し、硬化が完了するまでそのびんを室温
に放置する。このコ―ティングの厚みは、スカフィング
マ―クを有効に隠すのに必要な厚みに応じて変化させる
ことができる。通常このコ―トの厚みは約１．３〜約４
．０ミクロンの範囲内である。ガラスびんの表面に形成
されるコ―ティングは屈折率が約１．３５〜約１．４５
、好ましくは約１．４０〜約１．４５である。

【００５１】

【実施例の記載】当業者が本発明の実施をより良く理解
できるように、限定ではなく例示の意味で以下の実施例
を挙げる。

【００５２】実　　　　験　　実施例１は以下の実施例で成分（Ａ）（１）として
使用するメトキシで連鎖停止したポリメチルシルセスキ
オキサンの製造法を例示する。

【００５３】実施例１　　還流冷却器を備えガラスライニングを有する加水分
解容器にメチルトリメトキシシラン（８１部）を仕込ん
だ。次に加水分解器にメタノ―ル（９．２部）を加えた
。その後、ＨＣｌ濃度が少なくとも９００ｐｐｍ　とな
るのに充分な量のメチルトリクロロシランを加えた。適
当な添加容器に水（９．８部）を入れ、１５〜３０分の
期間に亘って前記のシランブレンドに加えた。溶液は熱
せられて極めて容易に還流（約６５℃）した。水の添加
が終了した後必要に応じて加熱しながら１２０℃で３０
〜６０分還流を続けてメタノ―ルを除去した。還流が完
了した後、還流混合物に炭酸ナトリウム０．３１部を加
えた。次に、この混合物を１４５℃、４５トルで還流し
て固形分を９５重量％とした。

【００５４】実施例２は本発明の組成物の製造を例示す
る。

【００５５】実施例２　　実施例１で製造したメトキシで連鎖停止したポリメ
チルシルセスキオキサンを、室温で連続的にストリッピ
ングしながらメチルトリエトキシシランおよびミリスチ
ン酸イソプロピルと混合した。均質な混合物が形成され
るまで成分を撹拌した。次いでチタン酸テトラブチルを
加え、得られた混合物が均一になるまで撹拌した。その
後この組成物をブラシ塗装とパフ塗装の組合せにより湿
った１２オンスビ―ルびんの表面に塗布して硬化させた
。実験室の温度はほぼ７２°Ｆ、相対湿度はほぼ４０％で
あった。コ―ティングの厚みはひとびん当たり約１．３
〜約４．０ミクロンであった。

【００５６】以下の実施例で表に挙げた成分の量は組成
物全体の重量を基準にした重量％で表示してある。

【００５７】実施例３〜９　　上記実施例２に記載した方法に従って、下記表１に
示す組成を有する組成物を８種製造した。下記表中で「
ＭＰＭＳ」という略語は上記実施例１で製造したメトキ
シで連鎖停止したポリメチルシルセスキオキサンを表わ
している。また、「ＭＴＥＳ」という略語はメチルトリ
エトキシシランを、「ＩＰＭ」はミリスチン酸イソプロ
ピルを、「ＴＢＴ」はテトラブチルチタネ―トを表わす
。

【００５８】

【表１】　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　表　　　　１　　　　　　実施例　　　
　ＭＰＭＳ　　　　　　ＭＴＥＳ　　　　　　　　ＩＰ
Ｍ　　　　　　　　ＴＢＴ　　　　　　番　　号　　　
　　　（％）　　　　　　　　（％）　　　　　　　　
（％）　　　　　　　　（％）　　　　　　　　　　３
　　　　　　６９．７７　　　　１８．６１　　　　１
０．４７　　　　　　１．１６　　　　　　　　４　　
　　　　６３．６４　　　　１４．５５　　　　　　８
．１８　　　　１３．１４　　　　　　　　５　　　　
　　５７．６９　　　　１９．２３　　　　　　８．６
５　　　　１４．４２　　　　　　　　６　　　　　　
７０．０　　　　　　２０．０　　　　　　　　９．０
　　　　　　　　１．０　　　　　　　　７　　　　　
　５８．８２　　　　１５．６９　　　　１０．７８　
　　　１４．７１　　　　　　　　８　　　　　　７１
．４３　　　　１６．３３　　　　１１．２３　　　　
　　１．０２　　　　　　　　９　　　　　　６５．２
２　　　　２１．７４　　　　１１．９６　　　　　　
１．０９　　　　　　１０　　　　　　６０．３５　　
　　１７．２４　　　　　　９．４８　　　　１２．９
３実施例３〜１０で製造した組成物の硬化時間、マスキ
ング特性および密着力を試験した。硬化時間は、コ―テ
ィングがその厚さ全体に亘って硬化するのに要する時間
のことである。マスキング度は裸眼で観察して決定した
。硬化の完了と密着性は擦り取り試験と移行試験によって
決定した。シリコ―ンコ―ティングが基材に密着してな
くて硬化したシリコ―ンが軽い指圧で小さい球状に擦り
取ることができる場合、擦り取られたと評価する。移行
はスコッチ（Ｓｃｏｔｃｈ）（商標）セロファンテ―プ
試験によって検出する。６１０番のスコッチ（Ｓｃｏｔ
ｃｈ）テ―プ片がこれをまずシリコ―ンコ―ティングに
きつく押付けてから剥がして折畳んだ後自身に粘着する
場合、コ―ティングは充分硬化していて移行がないもの
と考える。結果は下記表２に示す。

【００５９】

【表２】　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　表　　　　２　　　　　　　　　　実施
例　　　　　　　　硬化時間　　　　　　　　　　番　
　号　　　　　　　　（時間）　　　　　　　　マスク
　　　　　　　　密着力　　　　　　　　　　　　３　
　　　　　　　　　２４　　　　　　　　　　　　完　
　全　　　　　　　　優　　秀　　　　　　　　　　　
　４　　　　　　　　　　　　０．５　　　　　　　　
完　　全　　　　　　　　優　　秀　　　　　　　　　
　　　５　　　　　　　　　　　　０．５　　　　　　
　　完　　全　　　　　　　　優　　秀　　　　　　　
　　　　　６　　　　　　　　　　２４　　　　　　　
　　　　　完　　全　　　　　　　　優　　秀　　　　
　　　　　　　　７　　　　　　　　　　　　０．５　
　　　　　　　完　　全　　　　　　　　優　　秀　　
　　　　　　　　　　８　　　　　　　　　　２４　　
　　　　　　　　　　完　　全　　　　　　　　優　　
秀　　　　　　　　　　　　９　　　　　　　　　　２
４　　　　　　　　　　　　完　　全　　　　　　　　
優　　秀　　　　　　　　　　１０　　　　　　　　　
　　　０．５　　　　　　　　完　　全　　　　　　　
　優　　秀実施例３〜１０で製造したサンプルすべてで
、湿ったびん表面の完全な隠蔽（マスキング）、ならび
にコ―ティングとガラス表面との優秀な密着性が得られ
た。しかし、硬化時間は触媒（すなわちＴＢＴ）の使用
量に応じて変化することが判明した。約１３〜約１５重
量％のＴＢＴを含有する組成物、すなわち実施例４、５
、７および１０では硬化時間が３０分であったのに、約
１重量％のＴＢＴを含有する実施例３、６、８および９
の組成物では硬化時間が２４時間以上であった。このよ
うに、速い硬化時間を達成するにはＴＢＴの量を多めに
することが臨界的な意味をもっていた。

【００６０】実施例１１〜１４　　実施例１１〜１４は触媒濃度が硬化時間に及ぼす効
果をさらに立証する。下記表３に示した組成を有する４
種の組成物を製造した。パ―セントの値は組成物の全重
量を基準にした重量％である。

【００６１】

【表３】　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　表　　　　３　　　　　　　　　　　　
　　　　ＭＰＭＳ　　　　　　ＭＴＥＳ　　　　　　　
　ＩＰＭ　　　　　　　　ＴＢＴ　　　　　　実施例　
　　　　　（％）　　　　　　　　（％）　　　　　　
　　（％）　　　　　　　　（％）　　　　　　　　１
１　　　　　　６９．６２　　　　１８．９９　　　　
１０．５５　　　　　　０．８４　　　　　　１２　　
　　　　６７．９０　　　　１８．５２　　　　１０．
２９　　　　　　３．２９　　　　　　１３　　　　　
　６４．７１　　　　１７．６５　　　　　　９．８０
　　　　　　７．８４　　　　　　１４　　　　　　５
９．２　　　　　　１６．３　　　　　　　　９．０４
　　　　１５．０実施例１１〜１４で製造した組成物の
硬化時間とマスキングデ―タをすでに記載した手順に従
って測定した。結果は下記表４に示す。

【００６２】

【表４】　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　表　　　　４　　　　　　　　　　　　
実施例　　　　　　　　　　　　硬化時間（時間）　　
　　　　　　マスク　　　　　　　　　　　　１１　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　６〜１０　　　　　　　　　　完　
　全　　　　　　　　　　　　１２　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　５〜８　　　　　　　　　　　
　完　　全　　　　　　　　　　　　１３　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　３〜６　　　　　　　　
　　　　完　　全　　　　　　　　　　　　１４　　　
　　　　　　　　　　　０．２５〜０．５　　　　　　
　　完　　全表４に挙げたデ―タは、触媒の使用量と硬
化時間との間に比例関係があることを示している。触媒
の存在量が多ければ多い程硬化は速い。実施例１１〜１
４で製造したサンプルはすべて、完全な硬化と完全な隠
蔽特性とを示した。

【００６３】実施例１５〜２０　　実施例１５〜２０では、希釈剤、特にペンタマ―Ｄ
５　を含有する組成物に対する触媒レベルの影響を測定
した。

【００６４】実施例１５〜２０で製造したサンプルの組
成を下記表５に示す。これらの組成物をひとびんに付き
０．０６〜０．０９グラムとして２．４〜約３．６ミク
ロンの厚さでびんに塗布した。これらのサンプルの２５
℃、湿度６０％での硬化時間とマスキング特性をすでに
記載した方法に従って試験した。結果は表５に示す。

【００６５】

【表５】　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　表　　　　５　　　　　　実施例　　　
ＭＰＭＳ　　　　ＭＴＥＳ　　　　ＩＰＭ　　　　　Ｔ
ＢＴ　　　　Ｄ５　　　硬化時間　　　　　　番　　号
　　　　％　　　　　　％　　　　　　％　　　　　　
％　　　　％　　　　（時間）　　マスク　　　　　　
　　１５　　　　６９．６２　　　１８．９９　　　１
０．５５　　　　０．８４　　　　０．０　　　　６−
１０　　　　　　Ｃ　　　　　　　　１６　　　　５５
．７　　　　１５．２　　　　　８．４４　　　　０．
６７　　　２０．０　　　　６−１２　　　　　　Ｃ　
　　　　　　　１７　　　　３４．８１　　　　９．５
　　　　　５．２８　　　　０．４２　　　５０．０　
　　１０−１５　　　　　　Ｃ　　　　　　　　１８　
　　　５８．８２　　　１５．６９　　　１０．７８　
　　１４．７１　　　　０．０　　０．５−１．０　　
　　　Ｃ　　　　　　　　１９　　　　４７．０６　　
　１２．５５　　　　８．６２　　　１１．７７　　　
２０．０　　　　２−４　　　　　　　Ｃ　　　　　　
　　２０　　　　２９．４１　　　　７．８５　　　　
５．３９　　　　７．３６　　　５０．０　　　　４−
６　　　　　　　Ｃ表５に挙げたデ―タは、触媒のレベ
ルが低くなりＤ５　のレベルが高くなると硬化時間が長
くなることを示している。

【００６６】実施例２１〜２５　　この実施例２１〜２５では、下記組成を有する組成
物の硬化時間とマスキング特性に対するＴＢＴ触媒レベ
ルの効果を試験した。

【００６７】ＭＰＭＳ　　　　　　　　　　　　　　　　６９．５％
ＩＰＭ　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０．５
％ＭＥＴＳ　　　　　　　　　　　　　　　　１９　　
　　％Ｄ５　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　７６．３％実施例２１〜２５で製造したサンプルでは
触媒レベルを表６に示したように変えた。これらのサン
プルの硬化時間とマスキング特性とを表６に示す。

【００６８】

【表６】　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　表　　　　６　　　　　　　　実施例番
号　　　　　　触媒レベル　　　　　　硬化時間　　　
　　　外　　観　　　　　　　　　　　　２１　　　　
　　　　　　　　２．５　　　　　　　　　　１　　時
間　　　　しみあり　　　　　　　　　　２２　　　　
　　　　　　　　５　　　　　　　　　　１／４　　時
間　　　　しみあり　　　　　　　　　　２３　　　　
　　　　　　　　７．５　　　　　　１／４　　時間　
　　　しみあり　　　　　　　　　　２４　　　　　　
　　　　１０　　　　　　　　　　１／４　　時間　　
　　しみあり　　　　　　　　　　２５　　　　　　　
　　　１５　　　　　　　　　　１／４　　時間　　　
　しみあり硬化時間が短くはなったが、実施例２１〜２
５で製造した組成物では高いレベルのＴＢＴ触媒で湿っ
たびん表面にしみのあるコ―ティングが生成した。これ
らの結果は、サンプルの希釈剤含量が高いと湿ったガラ
スびん表面で均一なコ―ティングの形成が妨げられると
いうことを示している。

【００６９】実施例２６〜３１　　実施例２６〜３１では、下記表７に挙げた組成を有
するコ―ティングの硬化時間と外観に対する希釈剤、特
にペンタマ―の効果を例示する。これらの実施例で製造
したサンプルはいずれも次の組成を有する固形分をもっ
ていた。

【００７０】ＭＰＭＳ　　　　　　　　　　　　　　　　６９．６　
　％ＩＰＭ　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０
．５　　％ＭＴＭＳ　　　　　　　　　　　　　　　　
１９　　　　　　％ＴＢＴ　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　０．８４％実施例２６〜３１で製造した
サンプルは含有する固形分の量が違っていた。これらの
実施例で製造したコ―ティングの硬化時間と外観特性を
下記表７に示す。

【００７１】

【表７】　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　表　　　　７　　　　　　　　実施例　
　　　　　固形分　　　　　　　　Ｄ５　　　　　　　
硬化時間　　　　　　　　番　　号　　　　　　（％）
　　　　　　　　％　　　　　　　　　　時間　　　　
　　　　外　　　　観　　　　　　　　２６　　　　　
　１００　　　　　　　　　　０　　　　　　　　　　
６〜１０　　　　良　　　　好　　　　　　　　２７　
　　　　　　　８０　　　　　　　　２０　　　　　　
　　　　６〜１２　　　　良　　　　好　　　　　　　
　２８　　　　　　　　６０　　　　　　　　４０　　
　　　　　　１０〜１５　　　　良　　　　好　　　　
　　　　２９　　　　　　　　５０　　　　　　　　５
０　　　　　　　　１０〜１５　　　　しみあり　　　
　　　　　３０　　　　　　　　３０　　　　　　　　
７０　　　　　　　　１５〜２４　　　　しみあり　　
　　　　　　３１　　　　　　　　２３．７　　　　７
６．３　　　　１５〜２４　　　　しみあり上の表７に
挙げたデ―タは、Ｄ５　のレベルが高い方が、硬化時間
が長くてマスキング特性が低下することを示している。

【００７２】高めのレベルのペンタマ―を含有する組成
物の硬化が遅いということは、深くてひどいスカフィン
グを隠蔽しなければならない場合には有利であると思わ
れる。固形分含量が高くて触媒レベルが高い溶液は硬化
速度が速いため、深くてひどいスカフィングを非常に短
い時間で隠蔽することができない。しかしながら、一般
に、ガラスびんのスカフィングはひどくても極端に深い
ことはないことが判明している。したがって、本発明の
組成物のような速硬化性組成物はガラスびん用として適
切なスカフィングマスク剤である。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】　　（Ａ）（１）２５℃で約５〜約１００
０センチポイズの粘度を有し、ＲＳｉＯ３／２　単位お
よびＲ（Ｒ１　Ｏ）３−２ｎＳｉＯｎ　単位［ただし、
ｎは０、１／２または１に等しい数であり、ＲおよびＲ
１　は、それぞれ独立して、１〜約２０個の炭素原子を
含有する一価の炭化水素基であり、ＲＳｉＯ３／２　単
位とＲ（Ｒ１　Ｏ）３−２ｎＳｉＯｎ　単位の比は約１
：１から約５０：１までである］で本質的に構成される
、オルガノオキシで連鎖停止したオルガノポリシルセス
キオキサン約５０〜７５重量％、（２）一般式Ｔｉ（Ｏ
Ｒ２　）４　［式中、Ｒ２　は約１〜約１０個の炭素原
子を含有する一価の炭化水素基である］を有するテトラ
オルガノチタネ―ト約５〜約１５重量％、（３）一般式
Ｒ３　（Ｒ４　Ｏ）３　Ｓｉ［式中、Ｒ３　およびＲ４
　は、それぞれ独立して、１〜約２０個の炭素原子を含
有する一価の炭化水素基である］を有するオルガノトリ
オルガノオキシシラン約０〜約２５重量％、および（４
）カルボン酸エステル約０〜約１５重量％からなる成分
約７０〜約１００重量％、ならびに（Ｂ）揮発性希釈剤
約０〜約３０重量％からなるガラス物品上のスカフィン
グマ―クを隠すのに適切な改良された硬化性コ―ティン
グ組成物。
【請求項２】　　成分（Ａ）（１）においてＲとＲ１　
がいずれもアルキル基である、請求項１記載の組成物。
【請求項３】　　ＲとＲ１　がいずれもメチルである、
請求項２記載の組成物。
【請求項４】　　成分（Ａ）（２）においてＲ２　が２
〜約８個の炭素原子を有する、請求項１記載の組成物。
【請求項５】　　成分（Ａ）（２）がテトラブチルチタ
ネ―トである、請求項４記載の組成物。
【請求項６】　　成分（Ａ）（３）においてＲ３　とＲ
４　がアルキル基である、請求項１記載の組成物。
【請求項７】　　成分（Ａ）（３）がメチルトリエトキ
シシランである、請求項６記載の組成物。
【請求項８】　　成分（Ａ）（４）が約６〜約２２個の
炭素原子を有するカルボン酸エステルである、請求項１
記載の組成物。
【請求項９】　　成分（Ａ）（４）がミリスチン酸イソ
プロピルである、請求項８記載の組成物。
【請求項１０】　　成分（Ｂ）がシクロメチコンシリコ
―ンテトラマ―またはシクロメチコンシリコ―ンペンタ
マ―である、請求項１記載の組成物。
【請求項１１】　　成分（Ｂ）がシクロメチコンペンタ
マ―である、請求項１０記載の組成物。
【請求項１２】　　成分（Ｂ）がフェネチルペンタメチ
ルジシロキサンである、請求項１記載の組成物。
【請求項１３】　　成分（Ａ）が約８０〜約１００重量
％の範囲内の量で存在する、請求項１記載の組成物。
【請求項１４】　　成分（Ａ）が約９０〜約１００重量
％の範囲内の量で存在する、請求項１３記載の組成物。
【請求項１５】　　成分（Ａ）（１）が約６０〜約７０
％の範囲内の量で存在する、請求項１記載の組成物。
【請求項１６】　　成分（Ａ）（１）が約６０〜約６５
％の範囲内の量で存在する、請求項１１記載の組成物。
【請求項１７】　　成分（Ａ）（２）が約８〜約１５％
の範囲内の量で存在する、請求項１記載の組成物。
【請求項１８】　　成分（Ａ）（２）が約１２〜約１５
％の範囲内の量で存在する、請求項１７記載の組成物。
【請求項１９】　　成分（Ａ）（３）が約１０〜約２０
％の範囲内の量で存在する、請求項１記載の組成物。
【請求項２０】　　成分（Ａ）（３）が約１４〜約２０
％の範囲内の量で存在する、請求項１９記載の組成物。
【請求項２１】　　成分（Ａ）（４）が約５〜約１５％
の範囲内の量で存在する、請求項１記載の組成物。
【請求項２２】　　成分（Ａ）（４）が約８〜約１２％
の範囲内の量で存在する、請求項２１記載の組成物。
【請求項２３】　　成分（Ｂ）が約０〜約２０％の範囲
内の量で存在する、請求項１記載の組成物。
【請求項２４】　　成分（Ｂ）が約０〜約１０％の範囲
内の量で存在する、請求項２３記載の組成物。
【請求項２５】　　硬化した請求項１記載の組成物。
【請求項２６】　　請求項１記載の硬化性組成物が表面
に配置されているガラス物品からなる複合体。
【請求項２７】　　ガラス物品がびんである、請求項２
６記載の複合体。
【請求項２８】　　硬化した請求項１記載の組成物が表
面に配置されているガラス物品からなる複合体。
【請求項２９】　　ガラス物品がびんである、請求項２
８記載の複合体。
【請求項３０】　　（Ａ）（１）２５℃で約５〜約１０
００センチポイズの粘度を有し、ＲＳｉＯ３／２　単位
およびＲ（Ｒ１　Ｏ）３−２ｎＳｉＯｎ　単位［ただし
、ｎは０、１／２または１に等しい数であり、Ｒおよび
Ｒ１　は、それぞれ独立して、１〜約２０個の炭素原子
を含有する一価の炭化水素基であり、ＲＳｉＯ３／２　
単位とＲ（Ｒ１　Ｏ）３−２ｎＳｉＯｎ　単位の比は約
４：１から約８：１までである］で本質的に構成される
、オルガノオキシで連鎖停止したオルガノポリシルセス
キオキサン約６０〜６５重量％、（２）テトラブチルチ
タネ―ト約１２〜約１５重量％、（３）メチルトリエト
キシシラン約１４〜約２０重量％、および（４）ミリス
チン酸イソプロピル約８〜約１２重量％からなる成分約
９０〜約１００重量％、ならびに（Ｂ）シクロメチコン
シリコ―ンペンタマ―約０〜約１０重量％からなるガラ
ス物品上のスカフィングマ―クを隠すのに適切な改良さ
れたコ―ティング組成物。
【請求項３１】　　硬化した請求項３０記載の組成物。
【請求項３２】　　請求項３０記載の硬化性組成物が表
面に配置されているガラス物品からなる複合体。
【請求項３３】　　ガラス物品がびんである、請求項３
２記載の複合体。
【請求項３４】　　硬化した請求項３０記載の組成物が
表面に配置されているガラス物品からなる複合体。
【請求項３５】　　ガラス物品がびんである、請求項３
４記載の複合体。