JPH04225990A - 1−アルコキシヘキサトリエン−2−カルボン酸エステルの製造法 - Google Patents
1−アルコキシヘキサトリエン−2−カルボン酸エステルの製造法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic System
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids RP(=O)(OH)2; Thiophosphonic acids, i.e. RP(=X)(XH)2 (X = S, Se)
- C07F9/40—Esters thereof
- C07F9/4003—Esters thereof the acid moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic
- C07F9/4015—Esters of acyclic unsaturated acids
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
- C07C67/30—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group
- C07C67/333—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton
- C07C67/343—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/66—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety
- C07C69/73—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety of unsaturated acids
- C07C69/734—Ethers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic System
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids RP(=O)(OH)2; Thiophosphonic acids, i.e. RP(=X)(XH)2 (X = S, Se)
- C07F9/40—Esters thereof
- C07F9/4003—Esters thereof the acid moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic
- C07F9/4006—Esters of acyclic acids which can have further substituents on alkyl
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】本発明は、抗生物質及び殺虫剤(pest
icides)として公知である1−アルコキシヘキサ
トリエン−2−カルボン酸エステルの新規な製造法、及
びその製造に対する新規な中間体に関する。
icides)として公知である1−アルコキシヘキサ
トリエン−2−カルボン酸エステルの新規な製造法、及
びその製造に対する新規な中間体に関する。
【0002】ある種の置換された1−アルコキシヘキサ
トリエン−2−カルボン酸エステルが、多段合成におい
て置換ペンタジエンカルボン酸エステルを最初に水素化
アルミニウムリチウムで還元し、続いて生成物を二酸化
マンガンで酸化し、次いで生成物を水銀塩の存在下に有
機リチウム化合物と反応させ、続いて生成物をもう一度
再び二酸化マンガンで酸化し、そしてこれを最後にメト
キシメチレントリフェニルホスホランとのウィティッヒ
反応に供する場合に得られるということは公知である[
参照、テトラヘドロン・レト(Tetrahedron
Lett.28、475〜478(1987)]。 この方法の欠点及び工業化への障害は、一方が試剤の水
素化アルミニウムリチウム、水銀塩、及び有機リチウム
化合物並びに最終段階で使用され且つ非常に有毒である
メトキシメチレンクロライドから製造されるメトキシメ
チレントリフェニルホスホランであり、他方が低収率を
もたらし且つ複雑な精製工程を必要とする多数の反応段
階である。最後の一つ前の必要とされる−70℃の反応
温度も大規模な工業的合成にとって大きな欠点である。
トリエン−2−カルボン酸エステルが、多段合成におい
て置換ペンタジエンカルボン酸エステルを最初に水素化
アルミニウムリチウムで還元し、続いて生成物を二酸化
マンガンで酸化し、次いで生成物を水銀塩の存在下に有
機リチウム化合物と反応させ、続いて生成物をもう一度
再び二酸化マンガンで酸化し、そしてこれを最後にメト
キシメチレントリフェニルホスホランとのウィティッヒ
反応に供する場合に得られるということは公知である[
参照、テトラヘドロン・レト(Tetrahedron
Lett.28、475〜478(1987)]。 この方法の欠点及び工業化への障害は、一方が試剤の水
素化アルミニウムリチウム、水銀塩、及び有機リチウム
化合物並びに最終段階で使用され且つ非常に有毒である
メトキシメチレンクロライドから製造されるメトキシメ
チレントリフェニルホスホランであり、他方が低収率を
もたらし且つ複雑な精製工程を必要とする多数の反応段
階である。最後の一つ前の必要とされる−70℃の反応
温度も大規模な工業的合成にとって大きな欠点である。
【0003】更に同様に置換された1−アルコキシヘキ
サトリエン−2−カルボン酸エステルを生成する3段階
合成法、すなわち桂皮アルデヒドと2−オキシ酪酸を最
初に縮合反応に供し、続いて酸官能基をメタノール中塩
化チオニルでエステル化し、そして最終段階で得られる
2−オキソカルボン酸エステルを再びウィティッヒ反応
においてメトキシメチレントリフェニルホスホランと反
応させるという合成法が知られている[参照、独国公開
特許第3,025,368号;リービッヒス・アン・ヘ
ム(Liebigs Ann.Chem.)1984
、1616〜1625]。この方法でも非常に有毒であ
るメトキシメチレンクロライドから予じめ製造されるメ
トキシメチレントリフェニルホスホランが必要である。 この種の全ウィティッヒ反応における他の欠点は遊離す
るトリフェニルホスフィンオキシドによって引き起こさ
れる問題である。この化合物はすべての反応混合物から
除去するのが非常に難しく、複雑な精製工程が必要であ
る。
サトリエン−2−カルボン酸エステルを生成する3段階
合成法、すなわち桂皮アルデヒドと2−オキシ酪酸を最
初に縮合反応に供し、続いて酸官能基をメタノール中塩
化チオニルでエステル化し、そして最終段階で得られる
2−オキソカルボン酸エステルを再びウィティッヒ反応
においてメトキシメチレントリフェニルホスホランと反
応させるという合成法が知られている[参照、独国公開
特許第3,025,368号;リービッヒス・アン・ヘ
ム(Liebigs Ann.Chem.)1984
、1616〜1625]。この方法でも非常に有毒であ
るメトキシメチレンクロライドから予じめ製造されるメ
トキシメチレントリフェニルホスホランが必要である。 この種の全ウィティッヒ反応における他の欠点は遊離す
るトリフェニルホスフィンオキシドによって引き起こさ
れる問題である。この化合物はすべての反応混合物から
除去するのが非常に難しく、複雑な精製工程が必要であ
る。
【0004】今回一般式
【0005】
【化9】
【0006】[式中、R1は水素を表わし、或いは随時
置換されたアルキルを表わし、或いはアルケニル又はア
ルキニルを表わし、或いはシクロアルキル又はシクロア
ルケニルを表わし、或いはフェニルを表わし、或いはヘ
テロサイクリルを表わし、或い R2は水素を表わし、或いは随時置換されたアルキルを
表わし、或いはアルケニル又はアルキニルを表わし、或
いはシクロアルキル又はシクロアルケニルを表わし、或
いはフェニルを表わし、或いはヘテロサイクリルを表わ
し、もしくはR1及びR2はそれらが結合する炭素原子
と一緒になって、それぞれ随時置換されていてよい炭素
環は複素環を表わし、そしてR3、R4、R5及びR6
はそれぞれ互いに独立に水素を表わし、或いは随時置換
されたアルキルを表わし、或いはアルケニル又はアルキ
ニルを表わし、或いはシクロアルキル又はシクロアルケ
ニルを表わし、或いは随時置換されたフェニルを表わし
、或いは随時置換されたヘテロサイクリルを表わし、但
しR3及びR4は一緒になって2価のアルカンジイル基
を表わしてもよい]の1−アルコキシヘキサトリエン−
2−カルボン酸エステルは、第1段階において式(II
)
置換されたアルキルを表わし、或いはアルケニル又はア
ルキニルを表わし、或いはシクロアルキル又はシクロア
ルケニルを表わし、或いはフェニルを表わし、或いはヘ
テロサイクリルを表わし、或い R2は水素を表わし、或いは随時置換されたアルキルを
表わし、或いはアルケニル又はアルキニルを表わし、或
いはシクロアルキル又はシクロアルケニルを表わし、或
いはフェニルを表わし、或いはヘテロサイクリルを表わ
し、もしくはR1及びR2はそれらが結合する炭素原子
と一緒になって、それぞれ随時置換されていてよい炭素
環は複素環を表わし、そしてR3、R4、R5及びR6
はそれぞれ互いに独立に水素を表わし、或いは随時置換
されたアルキルを表わし、或いはアルケニル又はアルキ
ニルを表わし、或いはシクロアルキル又はシクロアルケ
ニルを表わし、或いは随時置換されたフェニルを表わし
、或いは随時置換されたヘテロサイクリルを表わし、但
しR3及びR4は一緒になって2価のアルカンジイル基
を表わしてもよい]の1−アルコキシヘキサトリエン−
2−カルボン酸エステルは、第1段階において式(II
)
【0007】
【化10】
【0008】[式中、R1及びR2は上述の意味を有し
、そしてR7は水素を表わし、或は随時置換されたアル
キルを表わし、或いはアルケニル又はアルキニルを表わ
し、或いはシクロアルキル又はシクロアルケニルを表わ
し、或いはフェニルを表わし、或いはヘテロサイクリル
を表わす]のオキソホスホン酸エステルを、最初に希釈
剤の存在下に及び適当ならば塩基の存在下に式(III
)
、そしてR7は水素を表わし、或は随時置換されたアル
キルを表わし、或いはアルケニル又はアルキニルを表わ
し、或いはシクロアルキル又はシクロアルケニルを表わ
し、或いはフェニルを表わし、或いはヘテロサイクリル
を表わす]のオキソホスホン酸エステルを、最初に希釈
剤の存在下に及び適当ならば塩基の存在下に式(III
)
【0009】
【化11】
【0010】[式中、R7は上述の意味を有し、そして
M+はアルカリ金属カチオンを表わす]のアルコキシカ
ルボニルアルキルホスホン酸エステル誘導体と反応させ
;第2段階において、得られる式(IV)
M+はアルカリ金属カチオンを表わす]のアルコキシカ
ルボニルアルキルホスホン酸エステル誘導体と反応させ
;第2段階において、得られる式(IV)
【0011】
【化12】
【0012】[式中、R1、R2及びR7は上述の意味
を有する]のアクリルエステル誘導体を続いて希釈剤の
存在下に及び塩基の存在下にぎ酸メチルでホルミル化し
、次いでこの生成物を、その後1つの反応段階において
直接或いは他に別の反応段階において、適当ならば希釈
剤の存在下に及び適当ならば塩基の存在下にメチル化剤
でメチル化し、そして得られる式(V)
を有する]のアクリルエステル誘導体を続いて希釈剤の
存在下に及び塩基の存在下にぎ酸メチルでホルミル化し
、次いでこの生成物を、その後1つの反応段階において
直接或いは他に別の反応段階において、適当ならば希釈
剤の存在下に及び適当ならば塩基の存在下にメチル化剤
でメチル化し、そして得られる式(V)
【0013】
【化13】
【0014】[式中、R1、R2及びR7は上述の意味
を有する]のアルコキシメチレンカルボン酸エステルを
、最終工程において適当ならば希釈剤の存在下に及び塩
基の存在下に式(VI)
を有する]のアルコキシメチレンカルボン酸エステルを
、最終工程において適当ならば希釈剤の存在下に及び塩
基の存在下に式(VI)
【0015】
【化14】
【0016】[式中、R3及びR4は上述の意味を有す
る]のケトン又はアルデヒドと反応させる、場合に得ら
れる。
る]のケトン又はアルデヒドと反応させる、場合に得ら
れる。
【0017】この関連において、式(IV)のアクリル
エステル誘導体の強塩基の存在下におけるぎ酸エステル
でのホルミル化がエステル基に隣る二重結合で非常に高
選択的に起こるということは非常に驚くべきことと考え
ねばならない。それは、同様の系であるエチルシクロペ
ンチリデンアセテート及びエチルクロトネートのホルミ
ル化が二重結合に対するアリル位で起こって、化合物エ
チル[2−ホルミルシクロペンチリデン]アセテート[
参照、J.ユニブ・ボンベイ(Univ.Bombay
)12、pt.3A、66(1943)又はバイルシュ
タイン(Beilstein)、10、E3、2900
〜2901]及びエチル4−ホルミルクロトネート[参
照、リービッヒス・アン・ヘム、505、193(19
33)]を生成することが文献から知られているからで
ある。本発明の方法においては、アリル位でのホルミル
化は全然起こらず、そしてカルボン酸エステル基に対し
てβ,γ−位における二重結合の潜在的な移動に有利な
燐に隣る位置での別のホルミル化がしばしば全反応の1
0%以下の割合でしか副反応中に起こらず、更にこの副
生物は続く反応工程において完全に不活性であり、した
がって反応混合物から容易に除去することができる。
エステル誘導体の強塩基の存在下におけるぎ酸エステル
でのホルミル化がエステル基に隣る二重結合で非常に高
選択的に起こるということは非常に驚くべきことと考え
ねばならない。それは、同様の系であるエチルシクロペ
ンチリデンアセテート及びエチルクロトネートのホルミ
ル化が二重結合に対するアリル位で起こって、化合物エ
チル[2−ホルミルシクロペンチリデン]アセテート[
参照、J.ユニブ・ボンベイ(Univ.Bombay
)12、pt.3A、66(1943)又はバイルシュ
タイン(Beilstein)、10、E3、2900
〜2901]及びエチル4−ホルミルクロトネート[参
照、リービッヒス・アン・ヘム、505、193(19
33)]を生成することが文献から知られているからで
ある。本発明の方法においては、アリル位でのホルミル
化は全然起こらず、そしてカルボン酸エステル基に対し
てβ,γ−位における二重結合の潜在的な移動に有利な
燐に隣る位置での別のホルミル化がしばしば全反応の1
0%以下の割合でしか副反応中に起こらず、更にこの副
生物は続く反応工程において完全に不活性であり、した
がって反応混合物から容易に除去することができる。
【0018】本発明の方法は、従来法と比べて所望の最
終生成物が大規模な工業的方法で容易に取り扱える容易
に入手しうる出発物質を用いることにより著しく良好な
収量で得られるという利点を有し、そして例えば遊離す
る燐酸エステル塩は従来使用されている方法の副生成物
として得られるトリフェニルホスフィンオキシドよりも
非常に容易に水性処理で処理しうるから複雑な精製操作
が省略できる。
終生成物が大規模な工業的方法で容易に取り扱える容易
に入手しうる出発物質を用いることにより著しく良好な
収量で得られるという利点を有し、そして例えば遊離す
る燐酸エステル塩は従来使用されている方法の副生成物
として得られるトリフェニルホスフィンオキシドよりも
非常に容易に水性処理で処理しうるから複雑な精製操作
が省略できる。
【0019】式(I)は本発明の方法で製造しうる1−
アルコキシヘキサトリエン−2−カルボン酸エステルの
一般的な定義を提供する。
アルコキシヘキサトリエン−2−カルボン酸エステルの
一般的な定義を提供する。
【0020】好適に使用しうる式(I)の化合物は、R
1が水素を表わし、或いは炭素数1〜8を有し且つ同一
の又は異なる置換基で随時モノ置換又はポリ置換されて
いてよい直鎖又は分岐鎖アルキルを表わし、但し適当な
置換基はハロゲン、シアノ、ニトロ、それぞれ炭素数1
〜6の直鎖又は分岐鎖アルケニル、アルキニル、アルコ
キシ、アルケニロキシ、アルキニロキシ、アルキルチオ
、アルキレンジオキシ、アルコキシカルボニル又はアル
コキシイミノ、それぞれ炭素数1〜4及び同一の又は異
なるハロゲン原子数1〜9の直鎖又は分岐鎖ハロゲノア
ルコキシ又はハロゲノアルキルチオ、それぞれ炭素数3
〜7のシクロアルキルまたはシクロアルケニル、或いは
それぞれ随時同一の又は異なる置換基でモノ〜ペンタ置
換されていてよいフェニル、フェノキシ、フェニルチオ
、ベンジロキシ又はベンジルチオであり、なお最後に言
及した適当なフェニルの置換基はハロゲン、それぞれ炭
素数1〜4の直鎖又は分岐鎖アルキル、アルコキシ又は
アルキルチオ、或いはそれぞれ炭素数1〜4及び同一の
又は異なるハロゲン原子数1〜9の直鎖又は分岐鎖ハロ
ゲノアルキル、ハロゲノアルコキシ又はハロゲノアルキ
ルチオであり;R1は更にそれぞれ炭素数2〜8の直鎖
又は分岐鎖アルケニル又はアルキニルを表わし、或いは
それぞれ炭素数3〜7のシクロアルキル又はシクロアル
ケニルを表わし、或いはフェニルを表わし、或いは窒素
、酸素又は硫黄を含んでなる群からの同一の又は異なる
ヘテロ原子を1〜3つ有する5員又は6員複素環を表わ
し R2は水素を表わし、或いは炭素数1〜8を有し且つ随
時同一の又は異なる置換基でモノ置換又はポリ置換され
ていてもよい直鎖又は分岐鎖アルキルを表わし、但し適
当な置換基はR1の場合に言及したアルキルの置換基で
あり;R2は更にそれぞれ炭素数2〜8の直鎖又は分岐
鎖アルケニル又はアルキニルを表わし、或いはそれぞれ
炭素数3〜7のシクロアルキル又はシクロアルケニルを
表わし、或いはフェニルを表わし、或いは窒素、酸素又
は硫黄を含んでなる群からの同一の又は異なるヘテロ原
子を1〜3つ有する5員又は6員複素環を表わし;或い
はR1及びR2はそれらが結合する炭素原子と一緒にな
って、5〜7員の炭素環又はヘテロ原子数1〜3の複素
環を表わし、但しこれらはそれぞれ随時同一の又は異な
る置換基でモノ〜ペンタ置換されていてよく、なお適当
なヘテロ原子は窒素、酸素又は硫黄であり及び適当な置
換基はハロゲン及び炭素数1〜4の直鎖又は分岐鎖アル
キル、アルコキシ又はアルキルチオであり;R3は水素
を表わし、或いは炭素数1〜8を有し且つ随時同一の又
は異なる置換基でモノ置換又はポリ置換されていてもよ
い直鎖又は分岐鎖アルキルを表わし、但し適当な置換基
はR1の場合に言及したアルキルの置換基であり;R3
は更にそれぞれ炭素数2〜8の直鎖又は分岐鎖アルケニ
ル又はアルキニルを表わし、或いはそれぞれ炭素数3〜
7のシクロアルキル又はシクロアルケニルを表わし、或
いはそれぞれ随時同一の又は異なる置換基でモノ置換又
はポリ置換されていてよいフェニル又はヘテロサイクリ
ルを表わし、但しヘテロサイクリルは窒素、酸素又は硫
黄を含んでなる群からの同一の又は異なる1〜3つのヘ
テロ原子を有する5員又は6員複素環を表わし、それぞ
れ適当な置換基はハロゲン、それぞれ炭素数4までの直
鎖又は分岐鎖アルキル、アルケニル、アルキニル、アル
コキシ、アルケニロキシ又はアルキニロキシ、並びにそ
れぞれ随時ハロゲン及び直鎖又は分岐鎖アルキル又はア
ルコキシを含んでなる群からの同一の又は異なる置換基
でモノ〜ペンタ置換されていてもよいフェニル、フェノ
キシ又はベンジロキシを表わし、そしてR4、R5及び
R5は互いに独立に水素を表わし或いは炭素数1〜8を
有し且つ随時同一の又は異なる置換基でモノ置換又はポ
リ置換されていてもよい直鎖又は分岐鎖アルキルを表わ
し、但し適当な置換基はR1の場合に言及したアルキル
の置換基であり;そして更にそれぞれ炭素数2〜8の直
鎖又は分岐鎖アルケニル又はアルキニルを表わし、或い
はそれぞれ炭素数3〜7のシクロアルキル又はシクロア
ルケニルを表わし、或いはフェニルを表わし、或いは窒
素、酸素又は硫黄を含んでなる群からの同一の又は異な
るヘテロ原子を1〜3つ有する5員又は6員複素環を表
わし;或いはR3およびR4が一緒になって炭素数3〜
6の2価のアルカンジイル基を表わす、ものである。
1が水素を表わし、或いは炭素数1〜8を有し且つ同一
の又は異なる置換基で随時モノ置換又はポリ置換されて
いてよい直鎖又は分岐鎖アルキルを表わし、但し適当な
置換基はハロゲン、シアノ、ニトロ、それぞれ炭素数1
〜6の直鎖又は分岐鎖アルケニル、アルキニル、アルコ
キシ、アルケニロキシ、アルキニロキシ、アルキルチオ
、アルキレンジオキシ、アルコキシカルボニル又はアル
コキシイミノ、それぞれ炭素数1〜4及び同一の又は異
なるハロゲン原子数1〜9の直鎖又は分岐鎖ハロゲノア
ルコキシ又はハロゲノアルキルチオ、それぞれ炭素数3
〜7のシクロアルキルまたはシクロアルケニル、或いは
それぞれ随時同一の又は異なる置換基でモノ〜ペンタ置
換されていてよいフェニル、フェノキシ、フェニルチオ
、ベンジロキシ又はベンジルチオであり、なお最後に言
及した適当なフェニルの置換基はハロゲン、それぞれ炭
素数1〜4の直鎖又は分岐鎖アルキル、アルコキシ又は
アルキルチオ、或いはそれぞれ炭素数1〜4及び同一の
又は異なるハロゲン原子数1〜9の直鎖又は分岐鎖ハロ
ゲノアルキル、ハロゲノアルコキシ又はハロゲノアルキ
ルチオであり;R1は更にそれぞれ炭素数2〜8の直鎖
又は分岐鎖アルケニル又はアルキニルを表わし、或いは
それぞれ炭素数3〜7のシクロアルキル又はシクロアル
ケニルを表わし、或いはフェニルを表わし、或いは窒素
、酸素又は硫黄を含んでなる群からの同一の又は異なる
ヘテロ原子を1〜3つ有する5員又は6員複素環を表わ
し R2は水素を表わし、或いは炭素数1〜8を有し且つ随
時同一の又は異なる置換基でモノ置換又はポリ置換され
ていてもよい直鎖又は分岐鎖アルキルを表わし、但し適
当な置換基はR1の場合に言及したアルキルの置換基で
あり;R2は更にそれぞれ炭素数2〜8の直鎖又は分岐
鎖アルケニル又はアルキニルを表わし、或いはそれぞれ
炭素数3〜7のシクロアルキル又はシクロアルケニルを
表わし、或いはフェニルを表わし、或いは窒素、酸素又
は硫黄を含んでなる群からの同一の又は異なるヘテロ原
子を1〜3つ有する5員又は6員複素環を表わし;或い
はR1及びR2はそれらが結合する炭素原子と一緒にな
って、5〜7員の炭素環又はヘテロ原子数1〜3の複素
環を表わし、但しこれらはそれぞれ随時同一の又は異な
る置換基でモノ〜ペンタ置換されていてよく、なお適当
なヘテロ原子は窒素、酸素又は硫黄であり及び適当な置
換基はハロゲン及び炭素数1〜4の直鎖又は分岐鎖アル
キル、アルコキシ又はアルキルチオであり;R3は水素
を表わし、或いは炭素数1〜8を有し且つ随時同一の又
は異なる置換基でモノ置換又はポリ置換されていてもよ
い直鎖又は分岐鎖アルキルを表わし、但し適当な置換基
はR1の場合に言及したアルキルの置換基であり;R3
は更にそれぞれ炭素数2〜8の直鎖又は分岐鎖アルケニ
ル又はアルキニルを表わし、或いはそれぞれ炭素数3〜
7のシクロアルキル又はシクロアルケニルを表わし、或
いはそれぞれ随時同一の又は異なる置換基でモノ置換又
はポリ置換されていてよいフェニル又はヘテロサイクリ
ルを表わし、但しヘテロサイクリルは窒素、酸素又は硫
黄を含んでなる群からの同一の又は異なる1〜3つのヘ
テロ原子を有する5員又は6員複素環を表わし、それぞ
れ適当な置換基はハロゲン、それぞれ炭素数4までの直
鎖又は分岐鎖アルキル、アルケニル、アルキニル、アル
コキシ、アルケニロキシ又はアルキニロキシ、並びにそ
れぞれ随時ハロゲン及び直鎖又は分岐鎖アルキル又はア
ルコキシを含んでなる群からの同一の又は異なる置換基
でモノ〜ペンタ置換されていてもよいフェニル、フェノ
キシ又はベンジロキシを表わし、そしてR4、R5及び
R5は互いに独立に水素を表わし或いは炭素数1〜8を
有し且つ随時同一の又は異なる置換基でモノ置換又はポ
リ置換されていてもよい直鎖又は分岐鎖アルキルを表わ
し、但し適当な置換基はR1の場合に言及したアルキル
の置換基であり;そして更にそれぞれ炭素数2〜8の直
鎖又は分岐鎖アルケニル又はアルキニルを表わし、或い
はそれぞれ炭素数3〜7のシクロアルキル又はシクロア
ルケニルを表わし、或いはフェニルを表わし、或いは窒
素、酸素又は硫黄を含んでなる群からの同一の又は異な
るヘテロ原子を1〜3つ有する5員又は6員複素環を表
わし;或いはR3およびR4が一緒になって炭素数3〜
6の2価のアルカンジイル基を表わす、ものである。
【0021】特に好適に製造しうる式(I)の化合物は
、R1が水素、メチル、エチル、n−又はi−プロピル
、n−、i−、s−又はt−ブチル、メトキシ、エトキ
シ、n−又はi−プロポキシ、メチルチオ、アリル又は
プロパギルを表わし、或いはシクロヘキシル、シクロヘ
キセニル、シクロペンチル又はシクロペンテニルを表わ
し、或いはフェニルを表わし、或いはベンジル又はフェ
ノキシを表わし、但しこれらのフェニル残基は随時同一
の又は異なる置換基でモノ〜ペンタ置換されていてよく
、それぞれ適当な置換基は弗素、塩素、臭素、メチル、
エチル、n−又はi−プロピル、n−、i−、s−又は
t−ブチル、メトキシ、エトキシ、n−又はi−プロポ
キシ、メチルチオ、エチルチオ、トリフルオルメチル、
トリフルオルメトキシ、ジフルオルメトキシ又はトリフ
ルオルメチルチオであり;R2が水素、メチル、エチル
、n−又はi−プロピル、n−、i−、s−又はt−ブ
チルを表わし、或いはシクロペンチル、シクロペンテニ
ル、シクロヘキシル、シクロヘキセニル又はフェニルを
表わし、或いはR1及びR2がそれらが結合する炭素原
子と一緒になって5〜7員の炭素環又はヘテロ原子数1
〜2の複素環を表わし、但しこれらはそれぞれ随時同一
の又は異なる置換基でモノ〜トリ置換されていてよく、
適当なヘテロ原子は窒素、酸素又は硫黄であり及び適当
な置換基はそれぞれ弗素、塩素、臭素、メチル、エチル
、n−又はi−プロピル、n−、i−、s−又はt−ブ
チル、メトキシ、エトキシ、n−又はi−プロポキシ、
メチルチオ又はエチルチオであり;R3は随時同一の又
は異なる置換基でモノ〜トリ置換されていてよいフェニ
ルを表わし或いは随時同一の又は異なる置換基でモノ〜
ジ置換されていてよいフェニルを表わし、或いは随時同
一の又は異なる置換基でモノ〜ジ置換されていてよく且
つ窒素、酸素又は硫黄を含んでなる群からの1又は2つ
の同一の又は異なるヘテロ原子を有する5員又は6員芳
香族複素環であるヘテロアリールを表わし、但しそれぞ
れの場合に置換基は弗素、塩素、臭素、メチル、エチル
、n−又はi−プロピル、n−、i−、s−又はt−ブ
チル、アリル、プロパギル、メトキシ、エトキシ、n−
又はi−プロポキシ、アリロキシ、プロパギロキシ、並
びにそれぞれ随時弗素、塩素、臭素、メチル、エチル、
n−又はi−プロピル、n−、i−、s−又はt−ブチ
ル、メトキシ、エトキシ或いはn−又はi−プロポキシ
を含んでなる群からの同一の又は異なる置換基でモノ〜
トリ置換されていてよいフェニル、フェノキシ又はベン
ジロキシであり;R4が水素、メチル、エチル、n−又
はi−プロピル又はn−、i−、s−又はt−ブチルを
表わし、或いはR3及びR4が一緒になって1,3−プ
ロパンジイル、1,4−ブタンジイル、1,5−ペンタ
ンジイル又は1,6−ヘキサンジイル基を表わす、もの
である。
、R1が水素、メチル、エチル、n−又はi−プロピル
、n−、i−、s−又はt−ブチル、メトキシ、エトキ
シ、n−又はi−プロポキシ、メチルチオ、アリル又は
プロパギルを表わし、或いはシクロヘキシル、シクロヘ
キセニル、シクロペンチル又はシクロペンテニルを表わ
し、或いはフェニルを表わし、或いはベンジル又はフェ
ノキシを表わし、但しこれらのフェニル残基は随時同一
の又は異なる置換基でモノ〜ペンタ置換されていてよく
、それぞれ適当な置換基は弗素、塩素、臭素、メチル、
エチル、n−又はi−プロピル、n−、i−、s−又は
t−ブチル、メトキシ、エトキシ、n−又はi−プロポ
キシ、メチルチオ、エチルチオ、トリフルオルメチル、
トリフルオルメトキシ、ジフルオルメトキシ又はトリフ
ルオルメチルチオであり;R2が水素、メチル、エチル
、n−又はi−プロピル、n−、i−、s−又はt−ブ
チルを表わし、或いはシクロペンチル、シクロペンテニ
ル、シクロヘキシル、シクロヘキセニル又はフェニルを
表わし、或いはR1及びR2がそれらが結合する炭素原
子と一緒になって5〜7員の炭素環又はヘテロ原子数1
〜2の複素環を表わし、但しこれらはそれぞれ随時同一
の又は異なる置換基でモノ〜トリ置換されていてよく、
適当なヘテロ原子は窒素、酸素又は硫黄であり及び適当
な置換基はそれぞれ弗素、塩素、臭素、メチル、エチル
、n−又はi−プロピル、n−、i−、s−又はt−ブ
チル、メトキシ、エトキシ、n−又はi−プロポキシ、
メチルチオ又はエチルチオであり;R3は随時同一の又
は異なる置換基でモノ〜トリ置換されていてよいフェニ
ルを表わし或いは随時同一の又は異なる置換基でモノ〜
ジ置換されていてよいフェニルを表わし、或いは随時同
一の又は異なる置換基でモノ〜ジ置換されていてよく且
つ窒素、酸素又は硫黄を含んでなる群からの1又は2つ
の同一の又は異なるヘテロ原子を有する5員又は6員芳
香族複素環であるヘテロアリールを表わし、但しそれぞ
れの場合に置換基は弗素、塩素、臭素、メチル、エチル
、n−又はi−プロピル、n−、i−、s−又はt−ブ
チル、アリル、プロパギル、メトキシ、エトキシ、n−
又はi−プロポキシ、アリロキシ、プロパギロキシ、並
びにそれぞれ随時弗素、塩素、臭素、メチル、エチル、
n−又はi−プロピル、n−、i−、s−又はt−ブチ
ル、メトキシ、エトキシ或いはn−又はi−プロポキシ
を含んでなる群からの同一の又は異なる置換基でモノ〜
トリ置換されていてよいフェニル、フェノキシ又はベン
ジロキシであり;R4が水素、メチル、エチル、n−又
はi−プロピル又はn−、i−、s−又はt−ブチルを
表わし、或いはR3及びR4が一緒になって1,3−プ
ロパンジイル、1,4−ブタンジイル、1,5−ペンタ
ンジイル又は1,6−ヘキサンジイル基を表わす、もの
である。
【0022】非常に特に好適に製造しうる式(I)の化
合物は、R1が水素、メチル、メトキシ、フェニル又は
フェノキシを表わし、R2が水素又はメチルを表わし、
或いはR1及びR2がそれらが結合する炭素原子と一緒
になって1つの酸素又は硫黄をヘテロ原子として有し且
つ随時メチルによってモノ〜トリ置換されていてよい5
員又は6員の炭素環又は複素環を表わし、R3が随時同
一の又は異なる置換基でモノ又はジ置換されていてよい
フェニルを表わし、或いは随時同一の又は異なる置換基
でモノ又はジ置換されていてよいヘテロアリールを表わ
し、但し適当なヘテロアリールは次のもの
合物は、R1が水素、メチル、メトキシ、フェニル又は
フェノキシを表わし、R2が水素又はメチルを表わし、
或いはR1及びR2がそれらが結合する炭素原子と一緒
になって1つの酸素又は硫黄をヘテロ原子として有し且
つ随時メチルによってモノ〜トリ置換されていてよい5
員又は6員の炭素環又は複素環を表わし、R3が随時同
一の又は異なる置換基でモノ又はジ置換されていてよい
フェニルを表わし、或いは随時同一の又は異なる置換基
でモノ又はジ置換されていてよいヘテロアリールを表わ
し、但し適当なヘテロアリールは次のもの
【0023】
【化15】
【0024】であり、そして適当なフェニル又はヘテロ
アリールの置換基はそれぞれ弗素、塩素、臭素、メチル
、エチル、n−又はi−プロピル、n−、i−、s−又
はt−ブチル、メトキシ、エトキシ、アリロキシ、プロ
パギロキシ、及びそれぞれ随時弗素、塩素、臭素、メチ
ル、エチル、メトキシ又はエトキシからなる群からの同
一の異なる置換基でモノ〜トリ置換されていてよいフェ
ニル、フェノキシ又はベンジロキシであり、R4が水素
を表わし、或いはR3及びR4が1,4−ブタンジイル
基又は1,5−ペンタンジイル基を表わす、のものであ
る。
アリールの置換基はそれぞれ弗素、塩素、臭素、メチル
、エチル、n−又はi−プロピル、n−、i−、s−又
はt−ブチル、メトキシ、エトキシ、アリロキシ、プロ
パギロキシ、及びそれぞれ随時弗素、塩素、臭素、メチ
ル、エチル、メトキシ又はエトキシからなる群からの同
一の異なる置換基でモノ〜トリ置換されていてよいフェ
ニル、フェノキシ又はベンジロキシであり、R4が水素
を表わし、或いはR3及びR4が1,4−ブタンジイル
基又は1,5−ペンタンジイル基を表わす、のものであ
る。
【0025】特に好適に製造しうる式(I)の化合物は
、R1が水素を表わし、R2がメチルを表わし、或いは
R1及びR2がそれらが結合する炭素原子と一緒になっ
て式
、R1が水素を表わし、R2がメチルを表わし、或いは
R1及びR2がそれらが結合する炭素原子と一緒になっ
て式
【0026】
【化16】
【0027】の基を表わし、R3が随時同一の又は異な
る置換基でモノ又はジ置換されていてよいフェニルを表
わし、但し適当な置換基は塩素、フェニル、フェノキシ
又はベンジロキシであり、そしてフェニル環の特に好適
な置換位置は3位であり、R4が水素を表わす、のもの
である。
る置換基でモノ又はジ置換されていてよいフェニルを表
わし、但し適当な置換基は塩素、フェニル、フェノキシ
又はベンジロキシであり、そしてフェニル環の特に好適
な置換位置は3位であり、R4が水素を表わす、のもの
である。
【0028】例えばジエチルγ−ケトブチルホスホネー
ト及びジメチルメトキシカルボニルメタンホスホネート
のカリウム塩を出発物質として用いる場合、本発明の方
法の過程は次の方程式によって表わすことができる:
ト及びジメチルメトキシカルボニルメタンホスホネート
のカリウム塩を出発物質として用いる場合、本発明の方
法の過程は次の方程式によって表わすことができる:
【
0029】
0029】
【化17】
【0030】式(II)は本発明の方法を行うための出
発物質として使用されるオキソホスホン酸エステルの一
般的な定義を与える。この式(II)において、R1及
びR2は好ましくは本発明に従って製造しうる式(I)
の物質の記述と関連して、これらの置換基の好適なもの
としてすでに言及した基を表わす。R7は好ましくはア
ルキル、アラルキル又はアリール、特にメチル、エチル
、n−又はi−プロピル、ベンジル又はフェニルを表わ
す。
発物質として使用されるオキソホスホン酸エステルの一
般的な定義を与える。この式(II)において、R1及
びR2は好ましくは本発明に従って製造しうる式(I)
の物質の記述と関連して、これらの置換基の好適なもの
としてすでに言及した基を表わす。R7は好ましくはア
ルキル、アラルキル又はアリール、特にメチル、エチル
、n−又はi−プロピル、ベンジル又はフェニルを表わ
す。
【0031】式(II)のオキソホスホン酸エステルは
多くの場合公知であり、或いは公知の方法と同様にして
製造することができる[参照、例えばJ.アメル・ケム
・ソク(Amer.Chem.Soc.,77、310
1〜3103(1955);(A、68、220159
;テトラヘドロン(Tetrahedron)、22、
2561〜2573(1966);テトラヘドロン、3
7、1377〜1384(1981);J.メド・ケム
(Med.Chem.)、23、300〜304(19
80)]。
多くの場合公知であり、或いは公知の方法と同様にして
製造することができる[参照、例えばJ.アメル・ケム
・ソク(Amer.Chem.Soc.,77、310
1〜3103(1955);(A、68、220159
;テトラヘドロン(Tetrahedron)、22、
2561〜2573(1966);テトラヘドロン、3
7、1377〜1384(1981);J.メド・ケム
(Med.Chem.)、23、300〜304(19
80)]。
【0032】式(III)は本発明の方法を行う出発物
質として必要とされるアルコキシカルボニルアルキルホ
スホン酸エステル誘導体の一般的な定義を与える。この
式(III)において、R7は好ましくは式(II)の
前駆体の記述と関連して、この置換基の好適なものとし
てすでに言及した基を表わす。M+は好ましくはナトリ
ウム又はカリウムカチオンを表わす。式(III)のア
ルコキシカルボニルアルキルホスホン酸エステルは一般
に公知である[参照、例えばJ.オルグ・ケム(Org
.Chem.)、29、3327〜3330(1964
);独国特許第2,162,571号;ハム・ベリヒテ
(Chem.Berichte)57、1031(19
24);CA、93、79890s;CA、68、20
159]。
質として必要とされるアルコキシカルボニルアルキルホ
スホン酸エステル誘導体の一般的な定義を与える。この
式(III)において、R7は好ましくは式(II)の
前駆体の記述と関連して、この置換基の好適なものとし
てすでに言及した基を表わす。M+は好ましくはナトリ
ウム又はカリウムカチオンを表わす。式(III)のア
ルコキシカルボニルアルキルホスホン酸エステルは一般
に公知である[参照、例えばJ.オルグ・ケム(Org
.Chem.)、29、3327〜3330(1964
);独国特許第2,162,571号;ハム・ベリヒテ
(Chem.Berichte)57、1031(19
24);CA、93、79890s;CA、68、20
159]。
【0033】式(VI)は本発明の方法を行うための出
発物質として必要とされるケトン又はアルデヒドの一般
的な定義を与える。この式(VI)において、R3及び
R4は好ましくは本発明によって製造しうる式(I)の
物質の記述と関連して、これらの置換基の好適なものと
してすでに言及した基を表わす。
発物質として必要とされるケトン又はアルデヒドの一般
的な定義を与える。この式(VI)において、R3及び
R4は好ましくは本発明によって製造しうる式(I)の
物質の記述と関連して、これらの置換基の好適なものと
してすでに言及した基を表わす。
【0034】式(VI)のアルデヒド及びケトンは一般
に有機化学で公知の化合物である。本発明の方法の第1
段階を行うのに適当な希釈剤は不活性な有機溶媒である
。これらは特に脂肪族、脂環族又は芳香族炭化水素例え
ばベンジン、ベンゼン、トルエン、キシレン、石油エー
テル、ヘキサン、シクロヘキサン、エーテル例えばジエ
チルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン又はエ
チレングリコールジメチルエーテル又はエチレングリコ
ールジエチルエーテル、アミド例えばジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルホルムアミド
、N−メチルピロリドン又はヘキサメチル燐酸トリアミ
ド、スルホキシド例えばジメチルスルホキシド、或いは
アルコール例えばメタノール又はエタノールを含む。
に有機化学で公知の化合物である。本発明の方法の第1
段階を行うのに適当な希釈剤は不活性な有機溶媒である
。これらは特に脂肪族、脂環族又は芳香族炭化水素例え
ばベンジン、ベンゼン、トルエン、キシレン、石油エー
テル、ヘキサン、シクロヘキサン、エーテル例えばジエ
チルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン又はエ
チレングリコールジメチルエーテル又はエチレングリコ
ールジエチルエーテル、アミド例えばジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルホルムアミド
、N−メチルピロリドン又はヘキサメチル燐酸トリアミ
ド、スルホキシド例えばジメチルスルホキシド、或いは
アルコール例えばメタノール又はエタノールを含む。
【0035】本発明の方法の第1段階は好ましくは適当
な塩基の存在下に行われる。適当な塩基は通常しうるす
べての無機及び有機塩基である。次のものは好適に使用
される:アルカリ金属の水素化物、水酸化物、アミド、
アルコレート、炭酸塩又は炭酸水素塩例えば水素化ナト
リウム、水素化カリウム、ナトリウムアミド、水酸化ナ
トリウム、ナトリウムメチレート、ナトリウムエチレー
ト又はカリウムt−ブチレート。
な塩基の存在下に行われる。適当な塩基は通常しうるす
べての無機及び有機塩基である。次のものは好適に使用
される:アルカリ金属の水素化物、水酸化物、アミド、
アルコレート、炭酸塩又は炭酸水素塩例えば水素化ナト
リウム、水素化カリウム、ナトリウムアミド、水酸化ナ
トリウム、ナトリウムメチレート、ナトリウムエチレー
ト又はカリウムt−ブチレート。
【0036】本発明の第1段階を行う場合、反応温度は
実質的な範囲内で変えることができる。一般に反応は−
20〜+100℃の温度、好ましくは0〜30℃の温度
で行われる。
実質的な範囲内で変えることができる。一般に反応は−
20〜+100℃の温度、好ましくは0〜30℃の温度
で行われる。
【0037】本発明の方法の第1段階を行うには、式(
II)のオキソホスホン酸エステルの1モル当り、1.
0〜1.5モル、好ましくは1.0〜1.2モルの式(
III)のアルコキシカルボニルアルキルホスホン酸エ
ステル誘導体及び適当ならば1.0〜3.0モル、好ま
しくは1.0〜1.5モルの塩基が一般に使用される。 反応は常法に従って行われ、そして反応生成物は一般的
に通常の方法で処理且つ単離される[参照、例えばオー
ガニック・リアクションズ(OrganicReact
ions)、25、73(1977)]。
II)のオキソホスホン酸エステルの1モル当り、1.
0〜1.5モル、好ましくは1.0〜1.2モルの式(
III)のアルコキシカルボニルアルキルホスホン酸エ
ステル誘導体及び適当ならば1.0〜3.0モル、好ま
しくは1.0〜1.5モルの塩基が一般に使用される。 反応は常法に従って行われ、そして反応生成物は一般的
に通常の方法で処理且つ単離される[参照、例えばオー
ガニック・リアクションズ(OrganicReact
ions)、25、73(1977)]。
【0038】好適な具体例では、式(III)の対応す
る塩を、先ず適当な溶媒中当量の適当な塩基を用いて式
(IIIa)
る塩を、先ず適当な溶媒中当量の適当な塩基を用いて式
(IIIa)
【0039】
【化18】
【0040】[式中、R7は上述の意味を有する]のア
ルコキシカルボニルアルキルホスホン酸エステル誘導体
から製造するという方法に従う。次いでこの溶液又は懸
濁液に式(II)のオキソホスホン酸エステルを少量ず
つ添加し、そして混合物を必要とされる温度で数時間撹
拌し、標準的な方法で処理する。
ルコキシカルボニルアルキルホスホン酸エステル誘導体
から製造するという方法に従う。次いでこの溶液又は懸
濁液に式(II)のオキソホスホン酸エステルを少量ず
つ添加し、そして混合物を必要とされる温度で数時間撹
拌し、標準的な方法で処理する。
【0041】このようにして式(IV)のアクリルエス
テル誘導体が製造される。式(IV)のアクリルエステ
ル誘導体のいくつかは過去に記述されている[参照、例
えばJ.ケム・レス、シノプ(Chem.Res.,S
ynop.)、10、378〜379(1986)又は
CA、107、7281d]。
テル誘導体が製造される。式(IV)のアクリルエステ
ル誘導体のいくつかは過去に記述されている[参照、例
えばJ.ケム・レス、シノプ(Chem.Res.,S
ynop.)、10、378〜379(1986)又は
CA、107、7281d]。
【0042】従来知られていない及び同様の式(IVa
)
)
【0043】
【化19】
【0044】[式中、R1−1は水素を表わし、或いは
随時置換されたアルキルを表わし、或いはアルケニル又
はアルキニルを表わし、或いはシクロアルキル又はシク
ロアルケニルを表わし、或いはフェニルを表わし、或い
はヘテロサイクリルを表わし、或いは式−O−R5又は
−S−R5の基を表わし、R2は水素を表わし、或いは
随時置換されたアルキルを表わし、或いはアルケニル又
はアルキニルを表わし、或いはシクロアルキル又はシク
ロアルケニルを表わし、或いはフェニルを表わし、或い
はヘテロサイクリルを表わし、もしくはR1及びR2は
それらが結合する炭素原子と一緒になって、それぞれ随
時置換されていてよい炭素環は複素環を表わし、そして
R5はそれぞれ互いに独立に水素を表わし、或いは随時
置換されたアルキルを表わし、或いはアルケニル又はア
ルキニルを表わし、或いはシクロアルキル又はシクロア
ルケニルを表わし、或いは随時置換されたフェニルを表
わし、或いは随時置換されたヘテロサイクリルを表わし
、そしてR7は水素を表わし、或は随時置換されたアル
キルを表わし、或いはアルケニル又はアルキニルを表わ
し、或いはシクロアルキル又はシクロアルケニルを表わ
し、或いはフェニルを表わし、或いはヘテロサイクリル
を表わす]のアクリルエステル誘導体は本発明の主題で
ある。
随時置換されたアルキルを表わし、或いはアルケニル又
はアルキニルを表わし、或いはシクロアルキル又はシク
ロアルケニルを表わし、或いはフェニルを表わし、或い
はヘテロサイクリルを表わし、或いは式−O−R5又は
−S−R5の基を表わし、R2は水素を表わし、或いは
随時置換されたアルキルを表わし、或いはアルケニル又
はアルキニルを表わし、或いはシクロアルキル又はシク
ロアルケニルを表わし、或いはフェニルを表わし、或い
はヘテロサイクリルを表わし、もしくはR1及びR2は
それらが結合する炭素原子と一緒になって、それぞれ随
時置換されていてよい炭素環は複素環を表わし、そして
R5はそれぞれ互いに独立に水素を表わし、或いは随時
置換されたアルキルを表わし、或いはアルケニル又はア
ルキニルを表わし、或いはシクロアルキル又はシクロア
ルケニルを表わし、或いは随時置換されたフェニルを表
わし、或いは随時置換されたヘテロサイクリルを表わし
、そしてR7は水素を表わし、或は随時置換されたアル
キルを表わし、或いはアルケニル又はアルキニルを表わ
し、或いはシクロアルキル又はシクロアルケニルを表わ
し、或いはフェニルを表わし、或いはヘテロサイクリル
を表わす]のアクリルエステル誘導体は本発明の主題で
ある。
【0045】式(IVa)の好適な化合物は、R1−1
が水素を表わし、或いは炭素数1〜8を有し且つ同一の
又は異なる置換基で随時モノ置換又はポリ置換されてい
てよい直鎖又は分岐鎖アルキルを表わし、但し適当な置
換基はハロゲン、シアノ、ニトロ、それぞれ炭素数1〜
6の直鎖又は分岐鎖アルケニル、アルキニル、アルコキ
シ、アルケニロキシ、アルキニロキシ、アルキルチオ、
アルキレンジオキシ、アルコキシカルボニル又はアルコ
キシイミノ、それぞれ炭素数1〜4及び同一の又は異な
るハロゲン原子数1〜9の直鎖又は分岐鎖ハロゲノアル
コキシまたはハロゲノアルキルチオ、それぞれ炭素数3
〜7のシクロアルキルまたはシクロアルケニル、或いは
それぞれ随時同一の又は異なる置換基でモノ〜ペンタ置
換されていてよいフェニル、フェノキシ、フェニルチオ
、ベンジロキシ又はベンジルチオであり、なお最後に言
及した適当なフェニルの置換基はハロゲン、それぞれ炭
素数1〜4の直鎖又は分岐鎖アルキル、アルコキシ又は
アルキルチオ、或いはそれぞれ炭素数1〜4及び同一の
又は異なるハロゲン原子数1〜9の直鎖又は分岐鎖ハロ
ゲノアルキル、ハロゲノアルコキシ又はハロゲノアルキ
ルチオであり;R1−1は更にそれぞれ炭素数2〜8の
直鎖又は分岐鎖アルケニル又はアルキニルを表わし、或
いはそれぞれ炭素数3〜7のシクロアルキル又はシクロ
アルケニルを表わし、或いはフェニルを表わし、或いは
窒素、酸素又は硫黄を含んでなる群からの同一の又は異
なるヘテロ原子を1〜3つ有する5員又は6員複素環を
表わ R2は水素を表わし、或いは炭素数1〜8を有し且つ随
時同一の又は異なる置換基でモノ置換又はポリ置換され
ていてもよい直鎖又は分岐鎖アルキルを表わし、但し適
当な置換基はR1の場合に言及したアルキルの置換基で
あり;R2は更にそれぞれ炭素数2〜8の直鎖又は分岐
鎖アルケニル又はアルキニルを表わし、或いはそれぞれ
炭素数3〜7のシクロアルキル又はシクロアルケニルを
表わし、或いはフェニルを表わし、或いは窒素、酸素又
は硫黄を含んでなる群からの同一の又は異なるヘテロ原
子を1〜3つ有する5員又は6員複素環を表わし;或い
はR1−1及びR2はそれらが結合する炭素原子と一緒
になって、5〜7員の炭素環又はヘテロ原子数1〜3の
複素環を表わし、但しこれらはそれぞれ随時同一の又は
異なる置換基でモノ〜ペンタ置換されていてよく、なお
適当なヘテロ原子は窒素、酸素又は硫黄であり及び適当
な置換基はハロゲン及び炭素数1〜4の直鎖又は分岐鎖
アルキル、アルコキシ又はアルキルチオであり;R5が
水素を表わし、或いは炭素数1〜8を有し且つ随時同一
の又は異なる置換基でモノ置換又はポリ置換されていて
もよい直鎖又は分岐鎖アルキルを表わし、但し適当な置
換基はR1の場合に言及したアルキルの置換基であり;
そして更にそれぞれ炭素数2〜8の直鎖又は分岐鎖アル
ケニル又はアルキニルを表わし、或いはそれぞれ炭素数
3〜7のシクロアルキル又はシクロアルケニルを表わし
、或いはフェニルを表わし、或いは窒素、酸素又は硫黄
を含んでなる群からの同一の又は異なるヘテロ原子を1
〜3つ有する5員又は6員複素環を表わし;そしてR7
が水素を表わし、或いは炭素数1〜8を有し且つ随時同
一の又は異なる置換基でモノ又はポリ置換されていてよ
い直鎖又は分岐鎖アルキルを表わし、適当な置換基はR
1−1で言及したアルキルの置換基であり、R7が更に
それぞれ炭素数2〜8の直鎖又は分岐鎖アルケニル又は
アルキニルを表わし、或いはフェニルを表わし、或いは
窒素、酸素又は硫黄を含んでなる群からの同一の又は異
なるヘテロ原子を1〜3つ有する5又は6員複素環を表
わす、ものである。
が水素を表わし、或いは炭素数1〜8を有し且つ同一の
又は異なる置換基で随時モノ置換又はポリ置換されてい
てよい直鎖又は分岐鎖アルキルを表わし、但し適当な置
換基はハロゲン、シアノ、ニトロ、それぞれ炭素数1〜
6の直鎖又は分岐鎖アルケニル、アルキニル、アルコキ
シ、アルケニロキシ、アルキニロキシ、アルキルチオ、
アルキレンジオキシ、アルコキシカルボニル又はアルコ
キシイミノ、それぞれ炭素数1〜4及び同一の又は異な
るハロゲン原子数1〜9の直鎖又は分岐鎖ハロゲノアル
コキシまたはハロゲノアルキルチオ、それぞれ炭素数3
〜7のシクロアルキルまたはシクロアルケニル、或いは
それぞれ随時同一の又は異なる置換基でモノ〜ペンタ置
換されていてよいフェニル、フェノキシ、フェニルチオ
、ベンジロキシ又はベンジルチオであり、なお最後に言
及した適当なフェニルの置換基はハロゲン、それぞれ炭
素数1〜4の直鎖又は分岐鎖アルキル、アルコキシ又は
アルキルチオ、或いはそれぞれ炭素数1〜4及び同一の
又は異なるハロゲン原子数1〜9の直鎖又は分岐鎖ハロ
ゲノアルキル、ハロゲノアルコキシ又はハロゲノアルキ
ルチオであり;R1−1は更にそれぞれ炭素数2〜8の
直鎖又は分岐鎖アルケニル又はアルキニルを表わし、或
いはそれぞれ炭素数3〜7のシクロアルキル又はシクロ
アルケニルを表わし、或いはフェニルを表わし、或いは
窒素、酸素又は硫黄を含んでなる群からの同一の又は異
なるヘテロ原子を1〜3つ有する5員又は6員複素環を
表わ R2は水素を表わし、或いは炭素数1〜8を有し且つ随
時同一の又は異なる置換基でモノ置換又はポリ置換され
ていてもよい直鎖又は分岐鎖アルキルを表わし、但し適
当な置換基はR1の場合に言及したアルキルの置換基で
あり;R2は更にそれぞれ炭素数2〜8の直鎖又は分岐
鎖アルケニル又はアルキニルを表わし、或いはそれぞれ
炭素数3〜7のシクロアルキル又はシクロアルケニルを
表わし、或いはフェニルを表わし、或いは窒素、酸素又
は硫黄を含んでなる群からの同一の又は異なるヘテロ原
子を1〜3つ有する5員又は6員複素環を表わし;或い
はR1−1及びR2はそれらが結合する炭素原子と一緒
になって、5〜7員の炭素環又はヘテロ原子数1〜3の
複素環を表わし、但しこれらはそれぞれ随時同一の又は
異なる置換基でモノ〜ペンタ置換されていてよく、なお
適当なヘテロ原子は窒素、酸素又は硫黄であり及び適当
な置換基はハロゲン及び炭素数1〜4の直鎖又は分岐鎖
アルキル、アルコキシ又はアルキルチオであり;R5が
水素を表わし、或いは炭素数1〜8を有し且つ随時同一
の又は異なる置換基でモノ置換又はポリ置換されていて
もよい直鎖又は分岐鎖アルキルを表わし、但し適当な置
換基はR1の場合に言及したアルキルの置換基であり;
そして更にそれぞれ炭素数2〜8の直鎖又は分岐鎖アル
ケニル又はアルキニルを表わし、或いはそれぞれ炭素数
3〜7のシクロアルキル又はシクロアルケニルを表わし
、或いはフェニルを表わし、或いは窒素、酸素又は硫黄
を含んでなる群からの同一の又は異なるヘテロ原子を1
〜3つ有する5員又は6員複素環を表わし;そしてR7
が水素を表わし、或いは炭素数1〜8を有し且つ随時同
一の又は異なる置換基でモノ又はポリ置換されていてよ
い直鎖又は分岐鎖アルキルを表わし、適当な置換基はR
1−1で言及したアルキルの置換基であり、R7が更に
それぞれ炭素数2〜8の直鎖又は分岐鎖アルケニル又は
アルキニルを表わし、或いはフェニルを表わし、或いは
窒素、酸素又は硫黄を含んでなる群からの同一の又は異
なるヘテロ原子を1〜3つ有する5又は6員複素環を表
わす、ものである。
【0046】式(IVa)の特に好適な化合物は、R1
−1が水素、メチル、エチル、n−又はi−プロピル、
n−、i−、s−又はt−ブチル、メトキシ、エトキシ
、n−又はi−プロポキシ、メチルチオ、アリル又はプ
ロパギルを表わし、或いはシクロヘキシル、シクロヘキ
セニル、シクロペンチル又はシクロペンテニルを表わし
、或いはフェニルを表わし、或いはベンジル又はフェノ
キシを表わし、但しこれらのフェニル残基は随時同一の
又は異なる置換基でモノ〜ペンタ置換されていてよく、
それぞれ適当な置換基は弗素、塩素、臭素、メチル、エ
チル、n−又はi−プロピル、n−、i−、s−又はt
−ブチル、メトキシ、エトキシ、n−又はi−プロポキ
シ、メチルチオ、エチルチオ、トリフルオルメチル、ト
リフルオルメトキシ、ジフルオルメトキシ又はトリフル
オルメチルチオであり;R2が水素、メチル、エチル、
n−又はi−プロピル、n−、i−、s−又はt−ブチ
ルを表わし、或いはシクロペンチル、シクロペンテニル
、シクロヘキシル、シクロヘキセニル又はフェニルを表
わし、或いはR1−1及びR2がそれらが結合する炭素
原子と一緒になって5〜7員の炭素環又はヘテロ原子数
1〜2の複素環を表わし、但しこれらはそれぞれ随時同
一の又は異なる置換基でモノ〜トリ置換されていてよく
、適当なヘテロ原子は窒素、酸素又は硫黄であり及び適
当な置換基はそれぞれ弗素、塩素、臭素、メチル、エチ
ル、n−又はi−プロピル、n−、i−、s−又はt−
ブチル、メトキシ、エトキシ、n−又はi−プロポキシ
、メチルチオ又はエチルチオであり、そしてR7はメチ
ル、エチル、n−又はi−プロピル、n−、i−、s−
又はt−ブチルを表わし、或いはベンジル、又はフェニ
ルを表わす、ものである。
−1が水素、メチル、エチル、n−又はi−プロピル、
n−、i−、s−又はt−ブチル、メトキシ、エトキシ
、n−又はi−プロポキシ、メチルチオ、アリル又はプ
ロパギルを表わし、或いはシクロヘキシル、シクロヘキ
セニル、シクロペンチル又はシクロペンテニルを表わし
、或いはフェニルを表わし、或いはベンジル又はフェノ
キシを表わし、但しこれらのフェニル残基は随時同一の
又は異なる置換基でモノ〜ペンタ置換されていてよく、
それぞれ適当な置換基は弗素、塩素、臭素、メチル、エ
チル、n−又はi−プロピル、n−、i−、s−又はt
−ブチル、メトキシ、エトキシ、n−又はi−プロポキ
シ、メチルチオ、エチルチオ、トリフルオルメチル、ト
リフルオルメトキシ、ジフルオルメトキシ又はトリフル
オルメチルチオであり;R2が水素、メチル、エチル、
n−又はi−プロピル、n−、i−、s−又はt−ブチ
ルを表わし、或いはシクロペンチル、シクロペンテニル
、シクロヘキシル、シクロヘキセニル又はフェニルを表
わし、或いはR1−1及びR2がそれらが結合する炭素
原子と一緒になって5〜7員の炭素環又はヘテロ原子数
1〜2の複素環を表わし、但しこれらはそれぞれ随時同
一の又は異なる置換基でモノ〜トリ置換されていてよく
、適当なヘテロ原子は窒素、酸素又は硫黄であり及び適
当な置換基はそれぞれ弗素、塩素、臭素、メチル、エチ
ル、n−又はi−プロピル、n−、i−、s−又はt−
ブチル、メトキシ、エトキシ、n−又はi−プロポキシ
、メチルチオ又はエチルチオであり、そしてR7はメチ
ル、エチル、n−又はi−プロピル、n−、i−、s−
又はt−ブチルを表わし、或いはベンジル、又はフェニ
ルを表わす、ものである。
【0047】式(IVa)の非常に特に好適な化合物は
、R1−1が水素、メチル、メトキシ、フェニル又はフ
ェノキシを表わし、R2が水素又はメチルを表わし、或
いはR1−1及びR2がそれらが結合する炭素原子と一
緒になって1つの酸素又は硫黄をヘテロ原子として有し
且つ随時メチルによってモノ〜トリ置換されていてよい
5員又は6員の炭素環又は複素環を表わし、及びR7は
メチル、エチル、フェニル又はベンジルを表わす、もの
である。
、R1−1が水素、メチル、メトキシ、フェニル又はフ
ェノキシを表わし、R2が水素又はメチルを表わし、或
いはR1−1及びR2がそれらが結合する炭素原子と一
緒になって1つの酸素又は硫黄をヘテロ原子として有し
且つ随時メチルによってモノ〜トリ置換されていてよい
5員又は6員の炭素環又は複素環を表わし、及びR7は
メチル、エチル、フェニル又はベンジルを表わす、もの
である。
【0048】式(IVa)の特に好適な化合物は、R1
−1が水素を表わし、R2がメチルを表わし、或いはR
1−1及びR2がそれらが結合する炭素原子と一緒にな
って式
−1が水素を表わし、R2がメチルを表わし、或いはR
1−1及びR2がそれらが結合する炭素原子と一緒にな
って式
【0049】
【化20】
【0050】の基を表わし、及びR7がメチル又はエチ
ルを表わす、のものである。
ルを表わす、のものである。
【0051】本発明の方法の第2段階を行うのに適当な
希釈剤は不活性な有機溶媒である。これらは特に脂肪族
、脂環族又は芳香族炭化水素、例えばベンジン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、石油エーテル、ヘキサン、シ
クロヘキサン、エーテル例えばジエチルエーテル、ジオ
キサン、t−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、エチレングリコールジメチルエーテル又はエチレン
グリコールジエチルエーテル、アミド例えばジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルホルム
アニリド、N−メチルピロリドン又はヘキサメチル燐酸
トリアミド、エステル例えば酢酸エチル、或いはスルホ
キシド例えばジメチルスルホキシドを含む。
希釈剤は不活性な有機溶媒である。これらは特に脂肪族
、脂環族又は芳香族炭化水素、例えばベンジン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、石油エーテル、ヘキサン、シ
クロヘキサン、エーテル例えばジエチルエーテル、ジオ
キサン、t−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、エチレングリコールジメチルエーテル又はエチレン
グリコールジエチルエーテル、アミド例えばジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルホルム
アニリド、N−メチルピロリドン又はヘキサメチル燐酸
トリアミド、エステル例えば酢酸エチル、或いはスルホ
キシド例えばジメチルスルホキシドを含む。
【0052】本発明の方法の第2段階は適当な塩基の存
在下に行われる。適当である塩基は通常使用しうるすべ
ての無機及び有機塩基である。次のものは好適に使用さ
れる:アルカリ金属の水素化物、水酸化物、アミド、ア
ルコレート、炭酸塩又は炭酸水素塩例えば水素化ナトリ
ウム、水素化カリウム、ナトリウムアミド、水酸化ナト
リウム、ナトリウムメチレート、ナトリウムエチレート
又はカリウムt−ブチレート。
在下に行われる。適当である塩基は通常使用しうるすべ
ての無機及び有機塩基である。次のものは好適に使用さ
れる:アルカリ金属の水素化物、水酸化物、アミド、ア
ルコレート、炭酸塩又は炭酸水素塩例えば水素化ナトリ
ウム、水素化カリウム、ナトリウムアミド、水酸化ナト
リウム、ナトリウムメチレート、ナトリウムエチレート
又はカリウムt−ブチレート。
【0053】本発明の第2段階を行う場合、反応温度は
実質的な範囲内で変えることができる。一般に反応は−
20〜+100℃の温度、好ましくは0〜60℃の温度
で行われる。
実質的な範囲内で変えることができる。一般に反応は−
20〜+100℃の温度、好ましくは0〜60℃の温度
で行われる。
【0054】本発明の方法の第2段階を行うのに適当な
メチル化剤は通常使用しうるすべてのメチル化剤例えば
硫酸ジメチル、p−トルエンスルホン酸メチル、ヨウ化
メチル、臭化メチル又は塩化メチルである。硫酸ジメチ
ルは特に好適に使用される。本発明の方法の第2段階を
行うためには、式(IV)のアクリルエステル1モル当
り1.0〜20.0モル、好ましくは1.0〜15.0
モルのぎ酸メチル、1.0〜1.5モル、好ましくは1
.0〜1.2モルのメチル化剤及び1.0〜10.0モ
ル、好ましくは1.0〜5.0モルの塩基が一般に使用
される。
メチル化剤は通常使用しうるすべてのメチル化剤例えば
硫酸ジメチル、p−トルエンスルホン酸メチル、ヨウ化
メチル、臭化メチル又は塩化メチルである。硫酸ジメチ
ルは特に好適に使用される。本発明の方法の第2段階を
行うためには、式(IV)のアクリルエステル1モル当
り1.0〜20.0モル、好ましくは1.0〜15.0
モルのぎ酸メチル、1.0〜1.5モル、好ましくは1
.0〜1.2モルのメチル化剤及び1.0〜10.0モ
ル、好ましくは1.0〜5.0モルの塩基が一般に使用
される。
【0055】この関連において、反応は2つの別の工程
で、即ち最初にホルミル化、次いでアルキル化すること
により行うことができる。この場合には、式(IV)の
アクリルエステルを第一に塩基の存在下に及び希釈剤の
存在下に0〜40℃の温度でぎ酸メチルと反応させ、そ
して式(VII)
で、即ち最初にホルミル化、次いでアルキル化すること
により行うことができる。この場合には、式(IV)の
アクリルエステルを第一に塩基の存在下に及び希釈剤の
存在下に0〜40℃の温度でぎ酸メチルと反応させ、そ
して式(VII)
【0056】
【化21】
【0057】[式中、R1とR2及びR7は上述の意味
を有し、そしてM+は水素或いはアルカリ金属カチオン
又はアルカリ土類金属カチオンの同等物(好ましくはナ
トリウム又はカリウムカチオン)を表わす]の対応する
エノール(又はエノレート)を一般にその塩の形で単離
する。
を有し、そしてM+は水素或いはアルカリ金属カチオン
又はアルカリ土類金属カチオンの同等物(好ましくはナ
トリウム又はカリウムカチオン)を表わす]の対応する
エノール(又はエノレート)を一般にその塩の形で単離
する。
【0058】遊離のエノールは希酸例えば希塩酸での酸
性化、続く適当な有機溶媒例えば酢酸エチルでの抽出に
よって塩から単離することができる。
性化、続く適当な有機溶媒例えば酢酸エチルでの抽出に
よって塩から単離することができる。
【0059】次いで遊離のエノールを、適当な希釈剤中
適当な塩基の存在下に20〜60℃の温度においてメチ
ル化剤でメチル化することができる。
適当な塩基の存在下に20〜60℃の温度においてメチ
ル化剤でメチル化することができる。
【0060】他に式(VII)のエノレート塩を、反応
混合物中で直接メチル化剤と反応させることもできる。 この「ワンポット」反応の特に好適な変化では、例えば
ナトリウムメチレート又は水素化ナトリウムのような塩
基2当量を先ずホルミル化の過程で使用する。これは反
応混合物中にナトリウム塩の形の式(VII)のエノレ
ート及びぎ酸メチルからの副生物としてのナトリウムメ
チレートを与える。この副生物は適当な酸例えばメタン
スルホン酸でのプロトン化することができ、続いてメチ
ル化剤を、更なる当量の塩基例えば炭酸ナトリウムと一
緒に添加する。この方法は、ナトリウムメチレートとの
反応に基因する損失を補償するために、さもなければ必
要とされるメチル化剤を過剰に使用しなくてもよいもの
にする。
混合物中で直接メチル化剤と反応させることもできる。 この「ワンポット」反応の特に好適な変化では、例えば
ナトリウムメチレート又は水素化ナトリウムのような塩
基2当量を先ずホルミル化の過程で使用する。これは反
応混合物中にナトリウム塩の形の式(VII)のエノレ
ート及びぎ酸メチルからの副生物としてのナトリウムメ
チレートを与える。この副生物は適当な酸例えばメタン
スルホン酸でのプロトン化することができ、続いてメチ
ル化剤を、更なる当量の塩基例えば炭酸ナトリウムと一
緒に添加する。この方法は、ナトリウムメチレートとの
反応に基因する損失を補償するために、さもなければ必
要とされるメチル化剤を過剰に使用しなくてもよいもの
にする。
【0061】しかしながらR7がメチル以外の場合、こ
の方法は化合物(V)及び(VII)のホスホン酸エス
テル残基における部分的なエステル交換をもたらし、副
生物として混合ホスホン酸が生成しうる。しかしこの後
者の、本発明の方法の第3段階における挙動は用いるホ
スホン酸エステル基と全く同様であるから、一般にそれ
を反応生成物から分離することは必ずしも必要ではない
。
の方法は化合物(V)及び(VII)のホスホン酸エス
テル残基における部分的なエステル交換をもたらし、副
生物として混合ホスホン酸が生成しうる。しかしこの後
者の、本発明の方法の第3段階における挙動は用いるホ
スホン酸エステル基と全く同様であるから、一般にそれ
を反応生成物から分離することは必ずしも必要ではない
。
【0062】得られる式(V)のアルコキシメチレンカ
ルボン酸エステル並びに式(VII)のエノール又はそ
のエノレート塩は今まで未知のものであり、これも本発
明の主題である。式(I)及び(IVa)の化合物の場
合に更に上述したものと同一の好適な範囲は置換基R1
、R2及びR7の定義に対して且つこれらの組合せに対
しても有効である。
ルボン酸エステル並びに式(VII)のエノール又はそ
のエノレート塩は今まで未知のものであり、これも本発
明の主題である。式(I)及び(IVa)の化合物の場
合に更に上述したものと同一の好適な範囲は置換基R1
、R2及びR7の定義に対して且つこれらの組合せに対
しても有効である。
【0063】式(V)及び(VII)の化合物は異なる
化学量論的形態で生成しうる。この純粋な異性体並びに
これらの混合物は本発明において特許請求される。
化学量論的形態で生成しうる。この純粋な異性体並びに
これらの混合物は本発明において特許請求される。
【0064】本発明の方法の第3段階を行なうのに適当
な希釈剤は不活性な有機溶媒である。これは特に脂肪族
、脂環族又は芳香族炭化水素、例えばベンジン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、石油エーテル、ヘキサン、シ
クロヘキサン、エーテル例えばジエチルエーテル、ジオ
キサン、t−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、エチレングリコールジメチルエーテル又はエチレン
グリコールジエチルエーテル、アミド例えばジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルホルム
アニリド、N−メチルピロリドン又はヘキサメチル燐酸
トリアミド、エステル例えば酢酸エチル、或いはスルホ
キシド例えばジメチルスルホキシドを含む。
な希釈剤は不活性な有機溶媒である。これは特に脂肪族
、脂環族又は芳香族炭化水素、例えばベンジン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、石油エーテル、ヘキサン、シ
クロヘキサン、エーテル例えばジエチルエーテル、ジオ
キサン、t−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、エチレングリコールジメチルエーテル又はエチレン
グリコールジエチルエーテル、アミド例えばジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルホルム
アニリド、N−メチルピロリドン又はヘキサメチル燐酸
トリアミド、エステル例えば酢酸エチル、或いはスルホ
キシド例えばジメチルスルホキシドを含む。
【0065】本発明の方法の第3段階は適当な塩基の存
在下に行われる。適当である塩基は通常使用しうるすべ
ての無機及び有機塩基である。次のものは好適に使用さ
れる:アルカリ金属の水素化物、水酸化物、アミド、ア
ルコレート、炭酸塩又は炭酸水素塩例えば水素化ナトリ
ウム、水素化カリウム、ナトリウムアミド、水酸化ナト
リウム、ナトリウムメチレート、ナトリウムエチレート
又はカリウムt−ブチレート。
在下に行われる。適当である塩基は通常使用しうるすべ
ての無機及び有機塩基である。次のものは好適に使用さ
れる:アルカリ金属の水素化物、水酸化物、アミド、ア
ルコレート、炭酸塩又は炭酸水素塩例えば水素化ナトリ
ウム、水素化カリウム、ナトリウムアミド、水酸化ナト
リウム、ナトリウムメチレート、ナトリウムエチレート
又はカリウムt−ブチレート。
【0066】本発明の第2段階を行う場合、反応温度は
実質的な範囲内で変えることができる。一般に反応は−
70〜+100℃の温度、好ましくは−30〜50℃の
温度で行われる。
実質的な範囲内で変えることができる。一般に反応は−
70〜+100℃の温度、好ましくは−30〜50℃の
温度で行われる。
【0067】本発明の方法の第2段階を行なう場合には
、一般に式(V)のアルコキシメチレンカルボン酸エス
テル1モル当り1.0〜1.5モル、好ましくは1.0
〜1.2モルの式(VI)のケトン又はアルデヒド及び
適当ならば1.0〜3.0モル、好ましくは1.0〜1
.5モルの塩基を使用する。
、一般に式(V)のアルコキシメチレンカルボン酸エス
テル1モル当り1.0〜1.5モル、好ましくは1.0
〜1.2モルの式(VI)のケトン又はアルデヒド及び
適当ならば1.0〜3.0モル、好ましくは1.0〜1
.5モルの塩基を使用する。
【0068】式(V)のアルコキシメチレンカルボン酸
エステル及び式(VI)のケトン又はアルデヒドの反応
物を適当な希釈剤中で先ず混合し、次いでカルボニル化
合物の存在下に塩基を添加して反応するホスホネートア
ニオンをその場で生成せしめる。
エステル及び式(VI)のケトン又はアルデヒドの反応
物を適当な希釈剤中で先ず混合し、次いでカルボニル化
合物の存在下に塩基を添加して反応するホスホネートア
ニオンをその場で生成せしめる。
【0069】反応は公知の方法で行なわれ且つ反応生成
物が処理且つ単離される[参照、例えばJ.アメル・ケ
ム・ソク、83、1734(1961)]。
物が処理且つ単離される[参照、例えばJ.アメル・ケ
ム・ソク、83、1734(1961)]。
【0070】この方法で得られる式(I)の化合物は天
然物質ストロビルリン(strobilurin)Aか
ら誘導される[参照、例えばリービッヒス・アン・ハム
(Liebigs Ann.Chem.)、1984
、1616〜1625]:
然物質ストロビルリン(strobilurin)Aか
ら誘導される[参照、例えばリービッヒス・アン・ハム
(Liebigs Ann.Chem.)、1984
、1616〜1625]:
【0071】
【化22】
【0072】本来化合物は(I)は、3つの共役二重結
合を有するから8つの立体異性体形で存在しうる。化合
物(I)の立体化学は、出発化合物(V)の立体化学に
依存するが、立体異性体の分布は化合物(V)のアニオ
ンの異性化反応のために本発明の方法の第3段階の過程
で移行することもある。
合を有するから8つの立体異性体形で存在しうる。化合
物(I)の立体化学は、出発化合物(V)の立体化学に
依存するが、立体異性体の分布は化合物(V)のアニオ
ンの異性化反応のために本発明の方法の第3段階の過程
で移行することもある。
【0073】しかしながら出発物質(V)のE,E−異
性体は最も安定であり且つ出発物質の主成分であるから
、また本発明の方法の第3段階は高E選択性で進行する
から、式(I)の最終生成物においてE,E,E−異性
体の割合も多くなる。
性体は最も安定であり且つ出発物質の主成分であるから
、また本発明の方法の第3段階は高E選択性で進行する
から、式(I)の最終生成物においてE,E,E−異性
体の割合も多くなる。
【0074】その残りの異性体からの分離は、例えばメ
タノールからの結晶化によって可能である。立体化学的
観点から天然物質ストロビルリンAに相当するE,Z,
E−異性体へのE,E,E−異性体の光化学的異性化は
文献から公知である(参照、例えば独国公開特許第3,
025,368号)。
タノールからの結晶化によって可能である。立体化学的
観点から天然物質ストロビルリンAに相当するE,Z,
E−異性体へのE,E,E−異性体の光化学的異性化は
文献から公知である(参照、例えば独国公開特許第3,
025,368号)。
【0075】式(I)の化合物は公知であり[参照、例
えばリービッヒス・アン・ヘム、1984、1616〜
1625;J.アンチバイオト(Antibiot.)
36、661〜666(1983);コレクト・クゼフ
・ケム・コミュン(Collect.Czech.Ch
em.Commun.)48、1508〜1512(1
983)]或いは本特許申請会社の先の未公開特許願の
主題であり、そして抗生物質、殺菌剤又は殺虫剤として
使用しうる。
えばリービッヒス・アン・ヘム、1984、1616〜
1625;J.アンチバイオト(Antibiot.)
36、661〜666(1983);コレクト・クゼフ
・ケム・コミュン(Collect.Czech.Ch
em.Commun.)48、1508〜1512(1
983)]或いは本特許申請会社の先の未公開特許願の
主題であり、そして抗生物質、殺菌剤又は殺虫剤として
使用しうる。
【0076】製造例
【0077】
【実施例】実施例1
第1段階
【0078】
【化23】
【0079】テトラヒドロフラン100ml中カリウム
t−ブチレート12.2g(0.109モル)に、ジメ
チルメトキシカルボニルメタンホスホネート19.8g
(0.108モル)を20℃以下の温度で撹拌しながら
滴下し、続いてジエチルγ−ケトブチルホスホネート2
1.6g(0.104モル)を添加し[参照、J.アメ
ル・ケム・ソク、77、3101(1955)]、混合
物を室温で12時間撹拌し、次いで有機相を沈殿した塩
から傾斜し且つ真空下に濃縮し、この残渣を酢酸エチル
及び水間に分配し、分離した塩相を同一の工程に供し、
一緒にした酢酸エチル相を真空下に濃縮し、そして残渣
を高真空下に蒸留した。
t−ブチレート12.2g(0.109モル)に、ジメ
チルメトキシカルボニルメタンホスホネート19.8g
(0.108モル)を20℃以下の温度で撹拌しながら
滴下し、続いてジエチルγ−ケトブチルホスホネート2
1.6g(0.104モル)を添加し[参照、J.アメ
ル・ケム・ソク、77、3101(1955)]、混合
物を室温で12時間撹拌し、次いで有機相を沈殿した塩
から傾斜し且つ真空下に濃縮し、この残渣を酢酸エチル
及び水間に分配し、分離した塩相を同一の工程に供し、
一緒にした酢酸エチル相を真空下に濃縮し、そして残渣
を高真空下に蒸留した。
【0080】沸点130〜140℃/1トールのメチル
4−(ジエトキシホスフィニル)−2−メチル−1−ブ
テン−1−カルボキシレート20.1g(理論量の73
.1%)をZ/E異性体の混合物として得た。
4−(ジエトキシホスフィニル)−2−メチル−1−ブ
テン−1−カルボキシレート20.1g(理論量の73
.1%)をZ/E異性体の混合物として得た。
【0081】第2段階
【0082】
【化24】
【0083】ジメチルホルムアミド75ml中80%水
素化ナトリウム(鉱油中)4.5g(0.15モル)の
懸濁液に、ぎ酸メチル44.8g(0.75モル)中メ
チル4−(ジエトキシホスフィニル)−2−メチル−1
−ブテン−1−カルボキシレート19.7g(0.07
5モル)を室温で撹拌しながら滴下した。気体の発生が
終わった時(約30分)、反応混合物を0℃まで冷却し
、そしてメタンスルホン酸7.2g(0.075モル)
、炭酸カリウム20.6g(0.15モル)及び硫酸ジ
メチル9.9g(0.078モル)を連続的に添加し、
次いで混合物を最初に0℃で及び後に室温で12時間撹
拌した。処理のために反応混合物を水500mlに注ぎ
、酢酸エチルで抽出した。この酢酸エチル相を濃縮し、
蒸留した。
素化ナトリウム(鉱油中)4.5g(0.15モル)の
懸濁液に、ぎ酸メチル44.8g(0.75モル)中メ
チル4−(ジエトキシホスフィニル)−2−メチル−1
−ブテン−1−カルボキシレート19.7g(0.07
5モル)を室温で撹拌しながら滴下した。気体の発生が
終わった時(約30分)、反応混合物を0℃まで冷却し
、そしてメタンスルホン酸7.2g(0.075モル)
、炭酸カリウム20.6g(0.15モル)及び硫酸ジ
メチル9.9g(0.078モル)を連続的に添加し、
次いで混合物を最初に0℃で及び後に室温で12時間撹
拌した。処理のために反応混合物を水500mlに注ぎ
、酢酸エチルで抽出した。この酢酸エチル相を濃縮し、
蒸留した。
【0084】この結果メチル5−(ジエトキシホスフィ
ニル)−1−メトキシ−3−メチル−1,3−ペンタジ
エン−2−カルボキレート17.9g(理論量の78%
)を沸点140〜160℃/0.5トールの異性体混合
物として得た。この粗生成物は更にフェノール性エステ
ル残基において塩基触媒によるエステル交換反応を受け
た2つの副生物の成分も含有した。これらはメチル−5
−(ジメトキシホスフィニル)−1−メトキシ−3−メ
チル−1,3−ペンタジエン−2−カルボキレート及び
メチル5−(エトキシメトキシホスフィニル)−1−メ
トキシ−3−メチル−1,3−ペンタジエン−2−カル
ボキレートの化合物であった。なおこれらの副生物はマ
ススペクトルで同定した。これらは本発明の続く第3段
階において上述のジエトキシホスフィニルメチル化合物
と全く同一の状態で反応するから除去する必要はなかっ
た。
ニル)−1−メトキシ−3−メチル−1,3−ペンタジ
エン−2−カルボキレート17.9g(理論量の78%
)を沸点140〜160℃/0.5トールの異性体混合
物として得た。この粗生成物は更にフェノール性エステ
ル残基において塩基触媒によるエステル交換反応を受け
た2つの副生物の成分も含有した。これらはメチル−5
−(ジメトキシホスフィニル)−1−メトキシ−3−メ
チル−1,3−ペンタジエン−2−カルボキレート及び
メチル5−(エトキシメトキシホスフィニル)−1−メ
トキシ−3−メチル−1,3−ペンタジエン−2−カル
ボキレートの化合物であった。なおこれらの副生物はマ
ススペクトルで同定した。これらは本発明の続く第3段
階において上述のジエトキシホスフィニルメチル化合物
と全く同一の状態で反応するから除去する必要はなかっ
た。
【0085】第3段階
【0086】
【化25】
【0087】テトラヒドロフラン20ml中メチル5−
(ジエトキシホスフィニル)−1−メトキシ−3−メチ
ル−1,3−ペンタジエン−2−カルボキレート異性体
混合物6.13g(0.02モル)及びベンズアルデヒ
ド2.12g(0.02モル)にテトラヒドロフラン2
0ml中カリウムt−ブチレート2.25g(0.02
モル)を激しく撹拌しながら−20℃で滴下した。添加
の完了した時混合物を室温にもっていき、エーテルで希
釈し、水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥し、真空下に濃縮
した。
(ジエトキシホスフィニル)−1−メトキシ−3−メチ
ル−1,3−ペンタジエン−2−カルボキレート異性体
混合物6.13g(0.02モル)及びベンズアルデヒ
ド2.12g(0.02モル)にテトラヒドロフラン2
0ml中カリウムt−ブチレート2.25g(0.02
モル)を激しく撹拌しながら−20℃で滴下した。添加
の完了した時混合物を室温にもっていき、エーテルで希
釈し、水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥し、真空下に濃縮
した。
【0088】粗異性体混合物4.85g(理論量の94
%)を得た。これから、シクロヘキサン:酢酸エチル(
5:1)でのクロマトグラフィーにより又はメタノール
からの再結晶により融点84〜86℃の純粋なE,E,
E−1−メトキシ−3−メチル−6−フェニル−1,3
,5−ヘキサトリエン−2−カルボキシレート1.6g
(理論量の31%)を得た。
%)を得た。これから、シクロヘキサン:酢酸エチル(
5:1)でのクロマトグラフィーにより又はメタノール
からの再結晶により融点84〜86℃の純粋なE,E,
E−1−メトキシ−3−メチル−6−フェニル−1,3
,5−ヘキサトリエン−2−カルボキシレート1.6g
(理論量の31%)を得た。
【0089】実施例2
第1段階
【0090】
【化26】
【0091】テトラヒドロフラン50ml中カリウムt
−ブチレート5.6g(0.05モル)に、ジメチルメ
トキシカルボニルメタンホスホネート9.1g(0.0
5モル)を20℃以下の温度で撹拌しながら滴下し、続
いて2−ジエトキシホスフィニルメチルシクロペンタノ
ン11.7g(0.05モル)を添加し、次いで室温で
12時間撹拌した。処理のためにテトラヒドロフラン溶
液を沈殿した塩から傾斜し且つ真空下に濃縮し、この残
渣を酢酸エチル及び水間に分配し、分離した塩相を同一
の工程に供し、一緒にした酢酸エチル相を真空下に濃縮
し、そして残渣を高真空下に蒸留した。
−ブチレート5.6g(0.05モル)に、ジメチルメ
トキシカルボニルメタンホスホネート9.1g(0.0
5モル)を20℃以下の温度で撹拌しながら滴下し、続
いて2−ジエトキシホスフィニルメチルシクロペンタノ
ン11.7g(0.05モル)を添加し、次いで室温で
12時間撹拌した。処理のためにテトラヒドロフラン溶
液を沈殿した塩から傾斜し且つ真空下に濃縮し、この残
渣を酢酸エチル及び水間に分配し、分離した塩相を同一
の工程に供し、一緒にした酢酸エチル相を真空下に濃縮
し、そして残渣を高真空下に蒸留した。
【0092】沸点132〜142℃/0.2トールの1
−メトキシカルボニルメチリデン−2−(ジエトキシホ
スフィニルメチル)−シクロペンタン11.8g(理論
量81%)をE/Z異性体の混合物として得た。
−メトキシカルボニルメチリデン−2−(ジエトキシホ
スフィニルメチル)−シクロペンタン11.8g(理論
量81%)をE/Z異性体の混合物として得た。
【0093】第2段階
【0094】
【化27】
【0095】ジメチルホルムアミド100ml中80%
水素化ナトリウム(鉱油中)6g(0.2モル)の懸濁
液に、ぎ酸メチル60g(1モル)中1−メトキシカル
ボニルメチリデン−2−(ジエトキシホスフィニルメチ
ル)−シクロペンタン29g(0.1モル)を室温で撹
拌しながら滴下した。気体の発生が終わった時(約30
分)、反応混合物を0℃まで冷却し、そしてメタンスル
ホン酸9.6g(0.1モル)、炭酸カリウム27.6
g(0.2モル)及び硫酸ジメチル13.2g(0.1
05モル)を連続的に添加し、次いで混合物を最初に0
℃で及び後に室温で12時間撹拌した。処理のために反
応混合物を水500mlに注ぎ、酢酸エチルで抽出した
。この酢酸エチル相を濃縮し、蒸留した。
水素化ナトリウム(鉱油中)6g(0.2モル)の懸濁
液に、ぎ酸メチル60g(1モル)中1−メトキシカル
ボニルメチリデン−2−(ジエトキシホスフィニルメチ
ル)−シクロペンタン29g(0.1モル)を室温で撹
拌しながら滴下した。気体の発生が終わった時(約30
分)、反応混合物を0℃まで冷却し、そしてメタンスル
ホン酸9.6g(0.1モル)、炭酸カリウム27.6
g(0.2モル)及び硫酸ジメチル13.2g(0.1
05モル)を連続的に添加し、次いで混合物を最初に0
℃で及び後に室温で12時間撹拌した。処理のために反
応混合物を水500mlに注ぎ、酢酸エチルで抽出した
。この酢酸エチル相を濃縮し、蒸留した。
【0096】メチル2−[(2−ジエトキシホスフィニ
ルメチル)−シクロペンタン−1−イル]−3−メトキ
シアクリレート28.3g(理論量の85%)を沸点1
56〜164℃/0.2トールの異性体混合物として得
た。この粗生成物は更にホスホン酸エステル残基におい
てエステル交換した副生物成分例えばメチル−[(2−
ジメトキシホスフィニルメチル)−シクロペンテン−1
−イル]−3−メトキシアクリレート及びメチル2−[
(2−メトキシ−エトキシホスフィニルメチル)−シク
ロペンテン−1−イル]−3−メトキシアクリレートも
含有した。これらは本発明の続く第3段階において上述
のジエトキシホスフィニルメチル化合物と全く同一の状
態で反応した。
ルメチル)−シクロペンタン−1−イル]−3−メトキ
シアクリレート28.3g(理論量の85%)を沸点1
56〜164℃/0.2トールの異性体混合物として得
た。この粗生成物は更にホスホン酸エステル残基におい
てエステル交換した副生物成分例えばメチル−[(2−
ジメトキシホスフィニルメチル)−シクロペンテン−1
−イル]−3−メトキシアクリレート及びメチル2−[
(2−メトキシ−エトキシホスフィニルメチル)−シク
ロペンテン−1−イル]−3−メトキシアクリレートも
含有した。これらは本発明の続く第3段階において上述
のジエトキシホスフィニルメチル化合物と全く同一の状
態で反応した。
【0097】第2段階(別法):1−メトキシカルボニ
ルメチリデン−2−(ジエトキシホスフィニルメチル)
−シクロペンタン20.3g(0.07モル)をぎ酸メ
チル42g(0.7モル)及びジメチルホルムアミド1
40mlに溶解した。次いでこの反応混合物に、ナトリ
ウムメチレート7.6g(0.14モル)全部を室温で
1時間にわたり、10回にわけて散布した。反応混合物
を0℃まで冷却し、メタンスルホン酸6.7g(0.0
7モル)、炭酸カリウム19.3g(0.14モル)及
び硫酸ジメチル8.9g(0.07モル)を連続的に添
加し、次いで混合物を最初に0℃で、次いで室温で12
時間撹拌した。
ルメチリデン−2−(ジエトキシホスフィニルメチル)
−シクロペンタン20.3g(0.07モル)をぎ酸メ
チル42g(0.7モル)及びジメチルホルムアミド1
40mlに溶解した。次いでこの反応混合物に、ナトリ
ウムメチレート7.6g(0.14モル)全部を室温で
1時間にわたり、10回にわけて散布した。反応混合物
を0℃まで冷却し、メタンスルホン酸6.7g(0.0
7モル)、炭酸カリウム19.3g(0.14モル)及
び硫酸ジメチル8.9g(0.07モル)を連続的に添
加し、次いで混合物を最初に0℃で、次いで室温で12
時間撹拌した。
【0098】処理のために、反応混合物を水350ml
に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル相を濃縮し
、そして蒸留した。
に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル相を濃縮し
、そして蒸留した。
【0099】メチル2−[(2−ジエトキシホスフィニ
ルメチル)−シクロペンテン−1−イル]−3−メトキ
シアクリレート20.5g(理論量の88.1%)を沸
点156〜164℃/0.2トールの異性体混合物とし
て得た。
ルメチル)−シクロペンテン−1−イル]−3−メトキ
シアクリレート20.5g(理論量の88.1%)を沸
点156〜164℃/0.2トールの異性体混合物とし
て得た。
【0100】第3段階
【0101】
【化28】
【0102】テトラヒドロフラン10ml中メチル2−
[(2−ジエトキシホスフィニルメチル)−シクロペン
テン−1−イル]−3−メトキシアクリレート3.3g
(0.01モル)及び及びベンズアルデヒド1.05g
(0.01モル)に、テトラヒドロフラン10ml中カ
リウムt−ブチレート1.1g(0.01モル)を激し
く撹拌しながら−20℃で滴下した。添加の完了した時
混合物を室温にもっていき、エーテルで希釈し、水洗し
、硫酸ナトリウムで乾燥し、真空下に濃縮した。
[(2−ジエトキシホスフィニルメチル)−シクロペン
テン−1−イル]−3−メトキシアクリレート3.3g
(0.01モル)及び及びベンズアルデヒド1.05g
(0.01モル)に、テトラヒドロフラン10ml中カ
リウムt−ブチレート1.1g(0.01モル)を激し
く撹拌しながら−20℃で滴下した。添加の完了した時
混合物を室温にもっていき、エーテルで希釈し、水洗し
、硫酸ナトリウムで乾燥し、真空下に濃縮した。
【0103】この粗生成物をメタノール及びトルエン中
で再結晶させることにより、メチル2−[(2−フェニ
ルエテニル)−シクロペンテン−1−イル]−3−メト
キシアクリレート1.4g(理論量の50%)を得た。 融点123〜125℃。
で再結晶させることにより、メチル2−[(2−フェニ
ルエテニル)−シクロペンテン−1−イル]−3−メト
キシアクリレート1.4g(理論量の50%)を得た。 融点123〜125℃。
【0104】出発化合物の製造
【0105】
【化29】
【0106】2−ジメチルアミノメチルシクロペンタノ
ンメチオジド18.7g(0.066モル)[参照、J
.ケム・ソク(Chem.Soc.)、1958、34
3]をトリエチルホスファイト55g(0.33モル)
と共に150℃に2時間加熱した。処理のために、沈殿
したトリメチルエチルアンモニウムヨーダイドを濾別し
、濾液を真空下に濃縮し、そして残渣を高真空下に蒸留
した。
ンメチオジド18.7g(0.066モル)[参照、J
.ケム・ソク(Chem.Soc.)、1958、34
3]をトリエチルホスファイト55g(0.33モル)
と共に150℃に2時間加熱した。処理のために、沈殿
したトリメチルエチルアンモニウムヨーダイドを濾別し
、濾液を真空下に濃縮し、そして残渣を高真空下に蒸留
した。
【0107】沸点130℃/1トールの2−(ジエトキ
シホスフィニルメチル)−シクロペンタノン12.5g
(理論量の81%)を得た。
シホスフィニルメチル)−シクロペンタノン12.5g
(理論量の81%)を得た。
【0108】実施例3
実施例2と完全に同様にして次のものを製造した:第1
段階
段階
【0109】
【化30】
【0110】第2段階
【0111】
【化31】
【0112】第3段階
【0113】
【化32】
【0114】本発明の特徴と態様は以下の通りである。
【0115】1.一般式
【0116】
【化33】
【0117】[式中、R1は水素を表わし、或いは随時
置換されたアルキルを表わし、或いはアルケニル又はア
ルキニルを表わし、或いはシクロアルキル又はシクロア
ルケニルを表わし、或いはフェニルを表わし、或いはヘ
テロサイクリルを表わし、或い R2は水素を表わし、或いは随時置換されたアルキルを
表わし、或いはアルケニル又はアルキニルを表わし、或
いはシクロアルキル又はシクロアルケニルを表わし、或
いはフェニルを表わし、或いはヘテロサイクリルを表わ
し、もしくはR1及びR2はそれらが結合する炭素原子
と一緒になって、それぞれ随時置換されていてよい炭素
環は複素環を表わし、そしてR3、R4、R5及びR6
はそれぞれ互いに独立に水素を表わし、或いは随時置換
されたアルキルを表わし、或いはアルケニル又はアルキ
ニルを表わし、或いはシクロアルキル又はシクロアルケ
ニルを表わし、或いは随時置換されたフェニルを表わし
、或いは随時置換されたヘテロサイクリルを表わし、但
しR3及びR4は一緒になって2価のアルカンジイル基
を表わしてもよい]の1−アルコキシヘキサトリエン−
2−カルボン酸エステルを製造するに際して、第1段階
において式(II)
置換されたアルキルを表わし、或いはアルケニル又はア
ルキニルを表わし、或いはシクロアルキル又はシクロア
ルケニルを表わし、或いはフェニルを表わし、或いはヘ
テロサイクリルを表わし、或い R2は水素を表わし、或いは随時置換されたアルキルを
表わし、或いはアルケニル又はアルキニルを表わし、或
いはシクロアルキル又はシクロアルケニルを表わし、或
いはフェニルを表わし、或いはヘテロサイクリルを表わ
し、もしくはR1及びR2はそれらが結合する炭素原子
と一緒になって、それぞれ随時置換されていてよい炭素
環は複素環を表わし、そしてR3、R4、R5及びR6
はそれぞれ互いに独立に水素を表わし、或いは随時置換
されたアルキルを表わし、或いはアルケニル又はアルキ
ニルを表わし、或いはシクロアルキル又はシクロアルケ
ニルを表わし、或いは随時置換されたフェニルを表わし
、或いは随時置換されたヘテロサイクリルを表わし、但
しR3及びR4は一緒になって2価のアルカンジイル基
を表わしてもよい]の1−アルコキシヘキサトリエン−
2−カルボン酸エステルを製造するに際して、第1段階
において式(II)
【0118】
【化34】
【0119】[式中、R1及びR2は上述の意味を有し
、そしてR7は水素を表わし、或は随時置換際して、ア
ルキルを表わし、或いはアルケニル又はアルキニルを表
わし、或いはシクロアルキル又はシクロアルケニルを表
わし、或いはフェニルを表わし、或いはヘテロサイクリ
ルを表わす]のオキソホスホン酸エステルを、最初に希
釈剤の存在下に及び適当ならば塩基の存在下に式(II
I)
、そしてR7は水素を表わし、或は随時置換際して、ア
ルキルを表わし、或いはアルケニル又はアルキニルを表
わし、或いはシクロアルキル又はシクロアルケニルを表
わし、或いはフェニルを表わし、或いはヘテロサイクリ
ルを表わす]のオキソホスホン酸エステルを、最初に希
釈剤の存在下に及び適当ならば塩基の存在下に式(II
I)
【0120】
【化35】
【0121】[式中、R7は上述の意味を有し、そして
M+はアルカリ金属カチオンを表わす]のアルコキシカ
ルボニルアルキルホスホン酸エステル誘導体と反応させ
;第2段階において、得られる式(IV)
M+はアルカリ金属カチオンを表わす]のアルコキシカ
ルボニルアルキルホスホン酸エステル誘導体と反応させ
;第2段階において、得られる式(IV)
【0122】
【化36】
【0123】[式中、R1、R2及びR7は上述の意味
を有する]のアクリルエステル誘導体を続いて希釈剤の
存在下に及び塩基の存在下にぎ酸メチルでホルミル化し
、次いでこの生成物を、その後1つの反応段階において
直接或いは他に別の反応段階において、適当ならば希釈
剤の存在下に及び適当ならば塩基の存在下にメチル化剤
でメチル化し、そして得られる式(V)
を有する]のアクリルエステル誘導体を続いて希釈剤の
存在下に及び塩基の存在下にぎ酸メチルでホルミル化し
、次いでこの生成物を、その後1つの反応段階において
直接或いは他に別の反応段階において、適当ならば希釈
剤の存在下に及び適当ならば塩基の存在下にメチル化剤
でメチル化し、そして得られる式(V)
【0124】
【化37】
【0125】[式中、R1、R2及びR7は上述の意味
を有する]のアルコキシメチレンカルボン酸エステルを
、最終工程において適当ならば希釈剤の存在下に及び塩
基の存在下に式(VI)
を有する]のアルコキシメチレンカルボン酸エステルを
、最終工程において適当ならば希釈剤の存在下に及び塩
基の存在下に式(VI)
【0126】
【化38】
【0127】[式中、R3及びR4は上述の意味を有す
る]のケトン又はアルデヒドと反応させる、上記式(I
)の1−アルコキシヘキサトリエン−2−カルボン酸エ
ステルの製造法。
る]のケトン又はアルデヒドと反応させる、上記式(I
)の1−アルコキシヘキサトリエン−2−カルボン酸エ
ステルの製造法。
【0128】2.R1が水素を表わし、或いは炭素数1
〜8を有し且つ同一の又は異なる置換基で随時モノ置換
又はポリ置換されていてよい直鎖又は分岐鎖アルキルを
表わし、但し適当な置換基はハロゲン、シアノ、ニトロ
、それぞれ炭素数1〜6の直鎖又は分岐鎖アルケニル、
アルキニル、アルコキシ、アルケニロキシ、アルキニロ
キシ、アルキルチオ、アルキレンジオキシ、アルコキシ
カルボニル又はアルコキシイミノ、それぞれ炭素数1〜
4及び同一の又は異なるハロゲン原子数1〜9の直鎖又
は分岐鎖ハロゲノアルコキシまたはハロゲノアルキルチ
オ、それぞれ炭素数3〜7のシクロアルキルまたはシク
ロアルケニル、或いはそれぞれ随時同一の又は異なる置
換基でモノ〜ペンタ置換されていてよいフェニル、フェ
ノキシ、フェニルチオ、ベンジロキシ又はベンジルチオ
であり、なお最後に言及した適当なフェニルの置換基は
ハロゲン、それぞれ炭素数1〜4の直鎖又は分岐鎖アル
キル、アルコキシ又はアルキルチオ、或いはそれぞれ炭
素数1〜4及び同一の又は異なるハロゲン原子数1〜9
の直鎖又は分岐鎖ハロゲノアルキル、ハロゲノアルコキ
シ又はハロゲノアルキルチオであり;R1は更にそれぞ
れ炭素数2〜8の直鎖又は分岐鎖アルケニル又はアルキ
ニルを表わし、或いはそれぞれ炭素数3〜7のシクロア
ルキル又はシクロアルケニルを表わし、或いはフェニル
を表わし、或いは窒素、酸素又は硫黄を含んでなる群か
らの同一の又は異なるヘテロ原子を1〜3つ有する5員
又は6員複素環を表わし R2は水素を表わし、或いは炭素数1〜8を有し且つ随
時同一の又は異なる置換基でモノ置換又はポリ置換され
ていてもよい直鎖又は分岐鎖アルキルを表わし、但し適
当な置換基はR1の場合に言及したアルキルの置換基で
あり;R2は更にそれぞれ炭素数2〜8の直鎖又は分岐
鎖アルケニル又はアルキニルを表わし、或いはそれぞれ
炭素数3〜7のシクロアルキル又はシクロアルケニルを
表わし、或いはフェニルを表わし、或いは窒素、酸素又
は硫黄を含んでなる群からの同一の又は異なるヘテロ原
子を1〜3つ有する5員又は6員複素環を表わし;或い
はR1及びR2はそれらが結合する炭素原子と一緒にな
って、5〜7員の炭素環又はヘテロ原子数1〜3の複素
環を表わし、但しこれらはそれぞれ随時同一の又は異な
る置換基でモノ〜ペンタ置換されていてよく、なお適当
なヘテロ原子は窒素、酸素又は硫黄であり及び適当な置
換基はハロゲン及び炭素数1〜4の直鎖又は分岐鎖アル
キル、アルコキシ又はアルキルチオであり;R3は水素
を表わし、或いは炭素数1〜8を有し且つ随時同一の又
は異なる置換基でモノ置換又はポリ置換されていてもよ
い直鎖又は分岐鎖アルキルを表わし、但し適当な置換基
はR1の場合に言及したアルキルの置換基であり;R3
は更にそれぞれ炭素数2〜8の直鎖又は分岐鎖アルケニ
ル又はアルキニルを表わし、或いはそれぞれ炭素数3〜
7のシクロアルキル又はシクロアルケニルを表わし、或
いはそれぞれ随時同一の又は異なる置換基でモノ置換又
はポリ置換されていてよいフェニル又はヘテロサイクリ
ルを表わし、但しヘテロサイクリルは窒素、酸素又は硫
黄を含んでなる群からの同一の又は異なる1〜3つのヘ
テロ原子を有する5員又は6員複素環を表わし、それぞ
れ適当な置換基はハロゲン、それぞれ炭素数4までの直
鎖又は分岐鎖アルキル、アルケニル、アルキニル、アル
コキシ、アルケニロキシ又はアルキニロキシ、並びにそ
れぞれ随時ハロゲン及び直鎖又は分岐鎖アルキル又はア
ルコキシを含んでなる群からの同一の又は異なる置換基
でモノ〜ペンタ置換されていてもよいフェニル、フェノ
キシ又はベンジロキシを表わし、そしてR4、R5及び
R5は互いに独立に水素を表わし或いは炭素数1〜8を
有し且つ随時同一の又は異なる置換基でモノ置換又はポ
リ置換されていてもよい直鎖又は分岐鎖アルキルを表わ
し、但し適当な置換基はR1の場合に言及したアルキル
の置換基であり;そして更にそれぞれ炭素数2〜8の直
鎖又は分岐鎖アルケニル又はアルキニルを表わし、或い
はそれぞれ炭素数3〜7のシクロアルキル又はシクロア
ルケニルを表わし、或いはフェニルを表わし、或いは窒
素、酸素又は硫黄を含んでなる群からの同一の又は異な
るヘテロ原子を1〜3つ有する5員又は6員複素環を表
わし;或いはR3およびR4が一緒になって炭素数3〜
6の2価のアルカンジイル基を表わす、式(I)の化合
物を製造する上記1の方法。
〜8を有し且つ同一の又は異なる置換基で随時モノ置換
又はポリ置換されていてよい直鎖又は分岐鎖アルキルを
表わし、但し適当な置換基はハロゲン、シアノ、ニトロ
、それぞれ炭素数1〜6の直鎖又は分岐鎖アルケニル、
アルキニル、アルコキシ、アルケニロキシ、アルキニロ
キシ、アルキルチオ、アルキレンジオキシ、アルコキシ
カルボニル又はアルコキシイミノ、それぞれ炭素数1〜
4及び同一の又は異なるハロゲン原子数1〜9の直鎖又
は分岐鎖ハロゲノアルコキシまたはハロゲノアルキルチ
オ、それぞれ炭素数3〜7のシクロアルキルまたはシク
ロアルケニル、或いはそれぞれ随時同一の又は異なる置
換基でモノ〜ペンタ置換されていてよいフェニル、フェ
ノキシ、フェニルチオ、ベンジロキシ又はベンジルチオ
であり、なお最後に言及した適当なフェニルの置換基は
ハロゲン、それぞれ炭素数1〜4の直鎖又は分岐鎖アル
キル、アルコキシ又はアルキルチオ、或いはそれぞれ炭
素数1〜4及び同一の又は異なるハロゲン原子数1〜9
の直鎖又は分岐鎖ハロゲノアルキル、ハロゲノアルコキ
シ又はハロゲノアルキルチオであり;R1は更にそれぞ
れ炭素数2〜8の直鎖又は分岐鎖アルケニル又はアルキ
ニルを表わし、或いはそれぞれ炭素数3〜7のシクロア
ルキル又はシクロアルケニルを表わし、或いはフェニル
を表わし、或いは窒素、酸素又は硫黄を含んでなる群か
らの同一の又は異なるヘテロ原子を1〜3つ有する5員
又は6員複素環を表わし R2は水素を表わし、或いは炭素数1〜8を有し且つ随
時同一の又は異なる置換基でモノ置換又はポリ置換され
ていてもよい直鎖又は分岐鎖アルキルを表わし、但し適
当な置換基はR1の場合に言及したアルキルの置換基で
あり;R2は更にそれぞれ炭素数2〜8の直鎖又は分岐
鎖アルケニル又はアルキニルを表わし、或いはそれぞれ
炭素数3〜7のシクロアルキル又はシクロアルケニルを
表わし、或いはフェニルを表わし、或いは窒素、酸素又
は硫黄を含んでなる群からの同一の又は異なるヘテロ原
子を1〜3つ有する5員又は6員複素環を表わし;或い
はR1及びR2はそれらが結合する炭素原子と一緒にな
って、5〜7員の炭素環又はヘテロ原子数1〜3の複素
環を表わし、但しこれらはそれぞれ随時同一の又は異な
る置換基でモノ〜ペンタ置換されていてよく、なお適当
なヘテロ原子は窒素、酸素又は硫黄であり及び適当な置
換基はハロゲン及び炭素数1〜4の直鎖又は分岐鎖アル
キル、アルコキシ又はアルキルチオであり;R3は水素
を表わし、或いは炭素数1〜8を有し且つ随時同一の又
は異なる置換基でモノ置換又はポリ置換されていてもよ
い直鎖又は分岐鎖アルキルを表わし、但し適当な置換基
はR1の場合に言及したアルキルの置換基であり;R3
は更にそれぞれ炭素数2〜8の直鎖又は分岐鎖アルケニ
ル又はアルキニルを表わし、或いはそれぞれ炭素数3〜
7のシクロアルキル又はシクロアルケニルを表わし、或
いはそれぞれ随時同一の又は異なる置換基でモノ置換又
はポリ置換されていてよいフェニル又はヘテロサイクリ
ルを表わし、但しヘテロサイクリルは窒素、酸素又は硫
黄を含んでなる群からの同一の又は異なる1〜3つのヘ
テロ原子を有する5員又は6員複素環を表わし、それぞ
れ適当な置換基はハロゲン、それぞれ炭素数4までの直
鎖又は分岐鎖アルキル、アルケニル、アルキニル、アル
コキシ、アルケニロキシ又はアルキニロキシ、並びにそ
れぞれ随時ハロゲン及び直鎖又は分岐鎖アルキル又はア
ルコキシを含んでなる群からの同一の又は異なる置換基
でモノ〜ペンタ置換されていてもよいフェニル、フェノ
キシ又はベンジロキシを表わし、そしてR4、R5及び
R5は互いに独立に水素を表わし或いは炭素数1〜8を
有し且つ随時同一の又は異なる置換基でモノ置換又はポ
リ置換されていてもよい直鎖又は分岐鎖アルキルを表わ
し、但し適当な置換基はR1の場合に言及したアルキル
の置換基であり;そして更にそれぞれ炭素数2〜8の直
鎖又は分岐鎖アルケニル又はアルキニルを表わし、或い
はそれぞれ炭素数3〜7のシクロアルキル又はシクロア
ルケニルを表わし、或いはフェニルを表わし、或いは窒
素、酸素又は硫黄を含んでなる群からの同一の又は異な
るヘテロ原子を1〜3つ有する5員又は6員複素環を表
わし;或いはR3およびR4が一緒になって炭素数3〜
6の2価のアルカンジイル基を表わす、式(I)の化合
物を製造する上記1の方法。
【0129】3.R1が水素、メチル、エチル、n−又
はi−プロピル、n−、i−、s−又はt−ブチル、メ
トキシ、エトキシ、n−又はi−プロポキシ、メチルチ
オ、アリル又はプロパギルを表わし、或いはシクロヘキ
シル、シクロヘキセニル、シクロペンチル又はシクロペ
ンテニルを表わし、或いはフェニルを表わし、或いはベ
ンジル又はフェノキシを表わし、但しこれらのフェニル
残基は随時同一の又は異なる置換基でモノ〜ペンタ置換
されていてよく、それぞれ適当な置換基は弗素、塩素、
臭素、メチル、エチル、n−又はi−プロピル、n−、
i−、s−又はt−ブチル、メトキシ、エトキシ、n−
又はi−プロポキシ、メチルチオ、エチルチオ、トリフ
ルオルメチル、トリフルオルメトキシ、ジフルオルメト
キシ又はトリフルオルメチルチオであり;R2が水素、
メチル、エチル、n−又はi−プロピル、n−、i−、
s−又はt−ブチルを表わし、或いはシクロペンチル、
シクロペンテニル、シクロヘキシル、シクロヘキセニル
又はフェニルを表わし、或いはR1及びR2がそれらが
結合する炭素原子と一緒になって5〜7員の炭素環又は
ヘテロ原子数1〜2の複素環を表わし、但しこれらはそ
れぞれ随時同一の又は異なる置換基でモノ〜トリ置換さ
れていてよく、適当なヘテロ原子は窒素、酸素又は硫黄
であり及び適当な置換基はそれぞれ弗素、塩素、臭素、
メチル、エチル、n−又はi−プロピル、n−、i−、
s−又はt−ブチル、メトキシ、エトキシ、n−又はi
−プロポキシ、メチルチオ又はエチルチオであり;R3
は随時同一の又は異なる置換基でモノ〜トリ置換されて
いてよいフェニルを表わし或いは随時同一の又は異なる
置換基でモノ〜ジ置換されていてよいフェニルを表わし
、或いは随時同一の又は異なる置換基でモノ〜ジ置換さ
れていてよく且つ窒素、酸素又は硫黄を含んでなる群か
らの1又は2つの同一の又は異なるヘテロ原子を有する
5員又は6員芳香族複素環であるヘテロアリールを表わ
し、但しそれぞれの場合に置換基は弗素、塩素、臭素、
メチル、エチル、n−又はi−プロピル、n−、i−、
s−又はt−ブチル、アリル、プロパギル、メトキシ、
エトキシ、n−又はi−プロポキシ、アリロキシ、プロ
パギロキシ、並びにそれぞれ随時弗素、塩素、臭素、メ
チル、エチル、n−又はi−プロピル、n−、i−、s
−又はt−ブチル、メトキシ、エトキシ或いはn−又は
i−プロポキシを含んでなる群からの同一の又は異なる
置換基でモノ〜トリ置換されていてよいフェニル、フェ
ノキシ又はベンジロキシであり;R4が水素、メチル、
エチル、n−又はi−プロピル又はn−、i−、s−又
はt−ブチルを表わし、或いはR3及びR4が一緒にな
って1,3−プロパンジイル、1,4−ブタンジイル、
1,5−ペンタンジイル又は1,6−ヘキサンジイル基
を表わす、式(I)の化合物を製造する上記1の方法。
はi−プロピル、n−、i−、s−又はt−ブチル、メ
トキシ、エトキシ、n−又はi−プロポキシ、メチルチ
オ、アリル又はプロパギルを表わし、或いはシクロヘキ
シル、シクロヘキセニル、シクロペンチル又はシクロペ
ンテニルを表わし、或いはフェニルを表わし、或いはベ
ンジル又はフェノキシを表わし、但しこれらのフェニル
残基は随時同一の又は異なる置換基でモノ〜ペンタ置換
されていてよく、それぞれ適当な置換基は弗素、塩素、
臭素、メチル、エチル、n−又はi−プロピル、n−、
i−、s−又はt−ブチル、メトキシ、エトキシ、n−
又はi−プロポキシ、メチルチオ、エチルチオ、トリフ
ルオルメチル、トリフルオルメトキシ、ジフルオルメト
キシ又はトリフルオルメチルチオであり;R2が水素、
メチル、エチル、n−又はi−プロピル、n−、i−、
s−又はt−ブチルを表わし、或いはシクロペンチル、
シクロペンテニル、シクロヘキシル、シクロヘキセニル
又はフェニルを表わし、或いはR1及びR2がそれらが
結合する炭素原子と一緒になって5〜7員の炭素環又は
ヘテロ原子数1〜2の複素環を表わし、但しこれらはそ
れぞれ随時同一の又は異なる置換基でモノ〜トリ置換さ
れていてよく、適当なヘテロ原子は窒素、酸素又は硫黄
であり及び適当な置換基はそれぞれ弗素、塩素、臭素、
メチル、エチル、n−又はi−プロピル、n−、i−、
s−又はt−ブチル、メトキシ、エトキシ、n−又はi
−プロポキシ、メチルチオ又はエチルチオであり;R3
は随時同一の又は異なる置換基でモノ〜トリ置換されて
いてよいフェニルを表わし或いは随時同一の又は異なる
置換基でモノ〜ジ置換されていてよいフェニルを表わし
、或いは随時同一の又は異なる置換基でモノ〜ジ置換さ
れていてよく且つ窒素、酸素又は硫黄を含んでなる群か
らの1又は2つの同一の又は異なるヘテロ原子を有する
5員又は6員芳香族複素環であるヘテロアリールを表わ
し、但しそれぞれの場合に置換基は弗素、塩素、臭素、
メチル、エチル、n−又はi−プロピル、n−、i−、
s−又はt−ブチル、アリル、プロパギル、メトキシ、
エトキシ、n−又はi−プロポキシ、アリロキシ、プロ
パギロキシ、並びにそれぞれ随時弗素、塩素、臭素、メ
チル、エチル、n−又はi−プロピル、n−、i−、s
−又はt−ブチル、メトキシ、エトキシ或いはn−又は
i−プロポキシを含んでなる群からの同一の又は異なる
置換基でモノ〜トリ置換されていてよいフェニル、フェ
ノキシ又はベンジロキシであり;R4が水素、メチル、
エチル、n−又はi−プロピル又はn−、i−、s−又
はt−ブチルを表わし、或いはR3及びR4が一緒にな
って1,3−プロパンジイル、1,4−ブタンジイル、
1,5−ペンタンジイル又は1,6−ヘキサンジイル基
を表わす、式(I)の化合物を製造する上記1の方法。
【0130】4.R1が水素、メチル、メトキシ、フェ
ニル又はフェノキシを表わし、R2が水素又はメチルを
表わし、或いはR1及びR2がそれらが結合する炭素原
子と一緒になって1つの酸素又は硫黄をヘテロ原子とし
て有し且つ随時メチルによってモノ〜トリ置換されてい
てよい5員又は6員の炭素環又は複素環を表わし、R3
が随時同一の又は異なる置換基でモノ又はジ置換されて
いてよいフェニルを表わし、或いは随時同一の又は異な
る置換基でモノ又はジ置換されていてよいヘテロアリー
ルを表わし、但し適当なヘテロアリールは次のもの
ニル又はフェノキシを表わし、R2が水素又はメチルを
表わし、或いはR1及びR2がそれらが結合する炭素原
子と一緒になって1つの酸素又は硫黄をヘテロ原子とし
て有し且つ随時メチルによってモノ〜トリ置換されてい
てよい5員又は6員の炭素環又は複素環を表わし、R3
が随時同一の又は異なる置換基でモノ又はジ置換されて
いてよいフェニルを表わし、或いは随時同一の又は異な
る置換基でモノ又はジ置換されていてよいヘテロアリー
ルを表わし、但し適当なヘテロアリールは次のもの
【0
131】
131】
【化39】
【0132】であり、そして適当なフェニル又はヘテロ
アリールの置換基はそれぞれ弗素、塩素、臭素、メチル
、エチル、n−又はi−プロピル、n−、i−、s−又
はt−ブチル、メトキシ、エトキシ、アリロキシ、プロ
パギロキシ、及びそれぞれ随時弗素、塩素、臭素、メチ
ル、エチル、メトキシ又はエトキシからなる群からの同
一の異なる置換基でモノ〜トリ置換されていてよいフェ
ニル、フェノキシ又はベンジロキシであり、R4が水素
を表わし、或いはR3及びR4が1,4−ブタンジイル
基又は1,5−ペンタンジイル基を表わす、式(I)の
化合物を製造する上記1の方法。
アリールの置換基はそれぞれ弗素、塩素、臭素、メチル
、エチル、n−又はi−プロピル、n−、i−、s−又
はt−ブチル、メトキシ、エトキシ、アリロキシ、プロ
パギロキシ、及びそれぞれ随時弗素、塩素、臭素、メチ
ル、エチル、メトキシ又はエトキシからなる群からの同
一の異なる置換基でモノ〜トリ置換されていてよいフェ
ニル、フェノキシ又はベンジロキシであり、R4が水素
を表わし、或いはR3及びR4が1,4−ブタンジイル
基又は1,5−ペンタンジイル基を表わす、式(I)の
化合物を製造する上記1の方法。
【0133】5.R1が水素を表わし、R2がメチルを
表わし、或いはR1及びR2がそれらが結合する炭素原
子と一緒になって式
表わし、或いはR1及びR2がそれらが結合する炭素原
子と一緒になって式
【0134】
【化40】
【0135】の基を表わし、R3が随時同一の又は異な
る置換基でモノ又はジ置換されていてよいフェニルを表
わし、但し適当な置換基は塩素、フェニル、フェノキシ
又はベンジロキシであり、そしてフェニル環の特に好適
な置換位置は3位であり、R4が水素を表わす、式(I
)の化合物を製造する上記1の方法。
る置換基でモノ又はジ置換されていてよいフェニルを表
わし、但し適当な置換基は塩素、フェニル、フェノキシ
又はベンジロキシであり、そしてフェニル環の特に好適
な置換位置は3位であり、R4が水素を表わす、式(I
)の化合物を製造する上記1の方法。
【0136】6.硫酸ジメチル、p−トルエンスルホン
酸メチル、ヨウ化メチル、臭化メチル又は塩化メチルを
メチル化剤として用いる上記1の方法。
酸メチル、ヨウ化メチル、臭化メチル又は塩化メチルを
メチル化剤として用いる上記1の方法。
【0137】7.脂肪族、脂環族又は芳香族炭化水素を
溶媒として用いる上記1の方法。
溶媒として用いる上記1の方法。
【0138】8.アルカリ金属の水素化物、水酸化物、
アミド、アルコレート、炭酸塩又は炭酸水素塩を塩基と
して用いる上記1の方法。
アミド、アルコレート、炭酸塩又は炭酸水素塩を塩基と
して用いる上記1の方法。
【0139】9.式(IVa)
【0140】
【化41】
【0141】[式中、R1−1は水素を表わし、或いは
随時置換されたアルキルを表わし、或いはアルケニル又
はアルキニルを表わし、或いはシクロアルキル又はシク
ロアルケニルを表わし、或いはフェニルを表わし、或い
はヘテロサイクリルを表わし、或いは式−O−R5又は
−S−R5の基を表わし、R2は水素を表わし、或いは
随時置換されたアルキルを表わし、或いはアルケニル又
はアルキニルを表わし、或いはシクロアルキル又はシク
ロアルケニルを表わし、或いはフェニルを表わし、或い
はヘテロサイクリルを表わし、もしくはR1−1及びR
2はそれらが結合する炭素原子と一緒になって、それぞ
れ随時置換されていてよい炭素環は複素環を表わし、そ
してR5はそれぞれ互いに独立に水素を表わし、或いは
随時置換されたアルキルを表わし、或いはアルケニル又
はアルキニルを表わし、或いはシクロアルキル又はシク
ロアルケニルを表わし、或いは随時置換されたフェニル
を表わし、或いは随時置換されたヘテロサイクリルを表
わし、そしてR7は水素を表わし、或は随時置換された
アルキルを表わし、或いはアルケニル又はアルキニルを
表わし、或いはシクロアルキル又はシクロアルケニルを
表わし、或いはフェニルを表わし、或いはヘテロサイク
リルを表わす]のアクリルエステル誘導体。
随時置換されたアルキルを表わし、或いはアルケニル又
はアルキニルを表わし、或いはシクロアルキル又はシク
ロアルケニルを表わし、或いはフェニルを表わし、或い
はヘテロサイクリルを表わし、或いは式−O−R5又は
−S−R5の基を表わし、R2は水素を表わし、或いは
随時置換されたアルキルを表わし、或いはアルケニル又
はアルキニルを表わし、或いはシクロアルキル又はシク
ロアルケニルを表わし、或いはフェニルを表わし、或い
はヘテロサイクリルを表わし、もしくはR1−1及びR
2はそれらが結合する炭素原子と一緒になって、それぞ
れ随時置換されていてよい炭素環は複素環を表わし、そ
してR5はそれぞれ互いに独立に水素を表わし、或いは
随時置換されたアルキルを表わし、或いはアルケニル又
はアルキニルを表わし、或いはシクロアルキル又はシク
ロアルケニルを表わし、或いは随時置換されたフェニル
を表わし、或いは随時置換されたヘテロサイクリルを表
わし、そしてR7は水素を表わし、或は随時置換された
アルキルを表わし、或いはアルケニル又はアルキニルを
表わし、或いはシクロアルキル又はシクロアルケニルを
表わし、或いはフェニルを表わし、或いはヘテロサイク
リルを表わす]のアクリルエステル誘導体。
【0142】10.R1−1が水素を表わし、或いは炭
素数1〜8を有し且つ同一の又は異なる置換基で随時モ
ノ置換又はポリ置換されていてよい直鎖又は分岐鎖アル
キルを表わし、但し適当な置換基はハロゲン、シアノ、
ニトロ、それぞれ炭素数1〜6の直鎖又は分岐鎖アルケ
ニル、アルキニル、アルコキシ、アルケニロキシ、アル
キニロキシ、アルキルチオ、アルキレンジオキシ、アル
コキシカルボニル又はアルコキシイミノ、それぞれ炭素
数1〜4及び同一の又は異なるハロゲン原子数1〜9の
直鎖又は分岐鎖ハロゲノアルコキシ又はハロゲノアルキ
ルチオ、それぞれ炭素数3〜7のシクロアルキルまたは
シクロアルケニル、或いはそれぞれ随時同一の又は異な
る置換基でモノ〜ペンタ置換されていてよいフェニル、
フェノキシ、フェニルチオ、ベンジロキシ又はベンジル
チオであり、なお最後に言及した適当なフェニルの置換
基はハロゲン、それぞれ炭素数1〜4の直鎖又は分岐鎖
アルキル、アルコキシ又はアルキルチオ、或いはそれぞ
れ炭素数1〜4及び同一の又は異なるハロゲン原子数1
〜9の直鎖又は分岐鎖ハロゲノアルキル、ハロゲノアル
コキシ又はハロゲノアルキルチオであり;R1−1は更
にそれぞれ炭素数2〜8の直鎖又は分岐鎖アルケニル又
はアルキニルを表わし、或いはそれぞれ炭素数3〜7の
シクロアルキル又はシクロアルケニルを表わし、或いは
フェニルを表わし、或いは窒素、酸素又は硫黄を含んで
なる群からの同一の又は異なるヘテロ原子を1〜3つ有
する5員又は6員複素環を表わ R2は水素を表わし、或いは炭素数1〜8を有し且つ随
時同一の又は異なる置換基でモノ置換又はポリ置換され
ていてもよい直鎖又は分岐鎖アルキルを表わし、但し適
当な置換基はR1の場合に言及したアルキルの置換基で
あり;R2は更にそれぞれ炭素数2〜8の直鎖又は分岐
鎖アルケニル又はアルキニルを表わし、或いはそれぞれ
炭素数3〜7のシクロアルキル又はシクロアルケニルを
表わし、或いはフェニルを表わし、或いは窒素、酸素又
は硫黄を含んでなる群からの同一の又は異なるヘテロ原
子を1〜3つ有する5員又は6員複素環を表わし;或い
はR1−1及びR2はそれらが結合する炭素原子と一緒
になって、5〜7員の炭素環又はヘテロ原子数1〜3の
複素環を表わし、但しこれらはそれぞれ随時同一の又は
異なる置換基でモノ〜ペンタ置換されていてよく、なお
適当なヘテロ原子は窒素、酸素又は硫黄であり及び適当
な置換基はハロゲン及び炭素数1〜4の直鎖又は分岐鎖
アルキル、アルコキシ又はアルキルチオであり;R5が
水素を表わし、或いは炭素数1〜8を有し且つ随時同一
の又は異なる置換基でモノ置換又はポリ置換されていて
もよい直鎖又は分岐鎖アルキルを表わし、但し適当な置
換基はR1の場合に言及したアルキルの置換基であり;
そして更にそれぞれ炭素数2〜8の直鎖又は分岐鎖アル
ケニル又はアルキニルを表わし、或いはそれぞれ炭素数
3〜7のシクロアルキル又はシクロアルケニルを表わし
、或いはフェニルを表わし、或いは窒素、酸素又は硫黄
を含んでなる群からの同一の又は異なるヘテロ原子を1
〜3つ有する5員又は6員複素環を表わし;そしてR7
が水素を表わし、或いは炭素数1〜8を有し且つ随時同
一の又は異なる置換基でモノ又はポリ置換されていてよ
い直鎖又は分岐鎖アルキルを表わし、適当な置換基はR
1−1で言及したアルキルの置換基であり、R7が更に
それぞれ炭素数2〜8の直鎖又は分岐鎖アルケニル又は
アルキニルを表わし、或いはフェニルを表わし、或いは
窒素、酸素又は硫黄を含んでなる群からの同一の又は異
なるヘテロ原子を1〜3つ有する5又は6員複素環を表
わす、上記9の式(IVa)のアクリルエステル誘導体
。
素数1〜8を有し且つ同一の又は異なる置換基で随時モ
ノ置換又はポリ置換されていてよい直鎖又は分岐鎖アル
キルを表わし、但し適当な置換基はハロゲン、シアノ、
ニトロ、それぞれ炭素数1〜6の直鎖又は分岐鎖アルケ
ニル、アルキニル、アルコキシ、アルケニロキシ、アル
キニロキシ、アルキルチオ、アルキレンジオキシ、アル
コキシカルボニル又はアルコキシイミノ、それぞれ炭素
数1〜4及び同一の又は異なるハロゲン原子数1〜9の
直鎖又は分岐鎖ハロゲノアルコキシ又はハロゲノアルキ
ルチオ、それぞれ炭素数3〜7のシクロアルキルまたは
シクロアルケニル、或いはそれぞれ随時同一の又は異な
る置換基でモノ〜ペンタ置換されていてよいフェニル、
フェノキシ、フェニルチオ、ベンジロキシ又はベンジル
チオであり、なお最後に言及した適当なフェニルの置換
基はハロゲン、それぞれ炭素数1〜4の直鎖又は分岐鎖
アルキル、アルコキシ又はアルキルチオ、或いはそれぞ
れ炭素数1〜4及び同一の又は異なるハロゲン原子数1
〜9の直鎖又は分岐鎖ハロゲノアルキル、ハロゲノアル
コキシ又はハロゲノアルキルチオであり;R1−1は更
にそれぞれ炭素数2〜8の直鎖又は分岐鎖アルケニル又
はアルキニルを表わし、或いはそれぞれ炭素数3〜7の
シクロアルキル又はシクロアルケニルを表わし、或いは
フェニルを表わし、或いは窒素、酸素又は硫黄を含んで
なる群からの同一の又は異なるヘテロ原子を1〜3つ有
する5員又は6員複素環を表わ R2は水素を表わし、或いは炭素数1〜8を有し且つ随
時同一の又は異なる置換基でモノ置換又はポリ置換され
ていてもよい直鎖又は分岐鎖アルキルを表わし、但し適
当な置換基はR1の場合に言及したアルキルの置換基で
あり;R2は更にそれぞれ炭素数2〜8の直鎖又は分岐
鎖アルケニル又はアルキニルを表わし、或いはそれぞれ
炭素数3〜7のシクロアルキル又はシクロアルケニルを
表わし、或いはフェニルを表わし、或いは窒素、酸素又
は硫黄を含んでなる群からの同一の又は異なるヘテロ原
子を1〜3つ有する5員又は6員複素環を表わし;或い
はR1−1及びR2はそれらが結合する炭素原子と一緒
になって、5〜7員の炭素環又はヘテロ原子数1〜3の
複素環を表わし、但しこれらはそれぞれ随時同一の又は
異なる置換基でモノ〜ペンタ置換されていてよく、なお
適当なヘテロ原子は窒素、酸素又は硫黄であり及び適当
な置換基はハロゲン及び炭素数1〜4の直鎖又は分岐鎖
アルキル、アルコキシ又はアルキルチオであり;R5が
水素を表わし、或いは炭素数1〜8を有し且つ随時同一
の又は異なる置換基でモノ置換又はポリ置換されていて
もよい直鎖又は分岐鎖アルキルを表わし、但し適当な置
換基はR1の場合に言及したアルキルの置換基であり;
そして更にそれぞれ炭素数2〜8の直鎖又は分岐鎖アル
ケニル又はアルキニルを表わし、或いはそれぞれ炭素数
3〜7のシクロアルキル又はシクロアルケニルを表わし
、或いはフェニルを表わし、或いは窒素、酸素又は硫黄
を含んでなる群からの同一の又は異なるヘテロ原子を1
〜3つ有する5員又は6員複素環を表わし;そしてR7
が水素を表わし、或いは炭素数1〜8を有し且つ随時同
一の又は異なる置換基でモノ又はポリ置換されていてよ
い直鎖又は分岐鎖アルキルを表わし、適当な置換基はR
1−1で言及したアルキルの置換基であり、R7が更に
それぞれ炭素数2〜8の直鎖又は分岐鎖アルケニル又は
アルキニルを表わし、或いはフェニルを表わし、或いは
窒素、酸素又は硫黄を含んでなる群からの同一の又は異
なるヘテロ原子を1〜3つ有する5又は6員複素環を表
わす、上記9の式(IVa)のアクリルエステル誘導体
。
【0143】11.式(V)
【0144】
【化42】
【0145】[式中、R1は水素を表わし、或いは随時
置換されたアルキルを表わし、或いはアルケニル又はア
ルキニルを表わし、或いはシクロアルキル又はシクロア
ルケニルを表わし、或いはフェニルを表わし、或いはヘ
テロサイクリルを表わし、或い R2は水素を表わし、或いは随時置換されたアルキルを
表わし、或いはアルケニル又はアルキニルを表わし、或
いはシクロアルキル又はシクロアルケニルを表わし、或
いはフェニルを表わし、或いはヘテロサイクリルを表わ
し、或いはR7は水素を表わし、或いは随時置換された
アルキルを表わし、或いはアルケニル又はアルキニルを
表わし、或いはシクロアルキル又はシクロアルケニルを
表わし、或いはフェニルを表わし、或いはヘテロサイク
リルを表わす]のアルコキシメチレンカルボン酸エステ
ル。
置換されたアルキルを表わし、或いはアルケニル又はア
ルキニルを表わし、或いはシクロアルキル又はシクロア
ルケニルを表わし、或いはフェニルを表わし、或いはヘ
テロサイクリルを表わし、或い R2は水素を表わし、或いは随時置換されたアルキルを
表わし、或いはアルケニル又はアルキニルを表わし、或
いはシクロアルキル又はシクロアルケニルを表わし、或
いはフェニルを表わし、或いはヘテロサイクリルを表わ
し、或いはR7は水素を表わし、或いは随時置換された
アルキルを表わし、或いはアルケニル又はアルキニルを
表わし、或いはシクロアルキル又はシクロアルケニルを
表わし、或いはフェニルを表わし、或いはヘテロサイク
リルを表わす]のアルコキシメチレンカルボン酸エステ
ル。
【0146】12.式(VII)
【0147】
【化43】
【0148】[式中、R1とR2及びR7は上記11の
意味を有し、そしてM+は水素或いはアルカリ金属又は
アルカリ土類金属カチオンの同等物である]のアルコキ
シメチレンカーボネート。
意味を有し、そしてM+は水素或いはアルカリ金属又は
アルカリ土類金属カチオンの同等物である]のアルコキ
シメチレンカーボネート。
【0149】13.上記11及び12の式(V)及び(
VII)の化合物を、上記1の式(I)の化合物の製造
に対する中間体及び出発物質として使用すること。
VII)の化合物を、上記1の式(I)の化合物の製造
に対する中間体及び出発物質として使用すること。
Claims (3)
- 【請求項1】 一般式 【化1】 [式中、R1は水素を表わし、或いは随時置換されたア
ルキルを表わし、或いはアルケニル又はアルキニルを表
わし、或いはシクロアルキル又はシクロアルケニルを表
わし、或いはフェニルを表わし、或いはヘテロサイクリ
ルを表わし、或い R2は水素を表わし、或いは随時置換されたアルキルを
表わし、或いはアルケニル又はアルキニルを表わし、或
いはシクロアルキル又はシクロアルケニルを表わし、或
いはフェニルを表わし、或いはヘテロサイクリルを表わ
し、もしくはR1及びR2はそれらが結合する炭素原子
と一緒になって、それぞれ随時置換されていてよい炭素
環又は複素環を表わし、そしてR3、R4、R5及びR
6はそれぞれ互いに独立に水素を表わし、或いは随時置
換されたアルキルを表わし、或いはアルケニル又はアル
キニルを表わし、或いはシクロアルキル又はシクロアル
ケニルを表わし、或いは随時置換されたフェニルを表わ
し、或いは随時置換されたヘテロサイクリルを表わし、
但しR3及びR4は一緒になって2価のアルカンジイル
基を表わしてもよい]の1−アルコキシヘキサトリエン
−2−カルボン酸エステルを製造するに際して、第1段
階において式(II) 【化2】 [式中、R1及びR2は上述の意味を有し、そしてR7
は水素を表わし、或は随時置換されたアルキルを表わし
、或いはアルケニル又はアルキニルを表わし、或いはシ
クロアルキル又はシクロアルケニルを表わし、或いはフ
ェニルを表わし、或いはヘテロサイクリルを表わす]の
オキソホスホン酸エステルを、最初に希釈剤の存在下に
及び適当ならば塩基の存在下に式(III)【化3】 [式中、R7は上述の意味を有し、そしてM+はアルカ
リ金属カチオンを表わす]のアルコキシカルボニルアル
キルホスホン酸エステル誘導体と反応させ;第2段階に
おいて、得られる式(IV) 【化4】 [式中、R1、R2及びR7は上述の意味を有する]の
アクリルエステル誘導体を続いて希釈剤の存在下に及び
塩基の存在下にぎ酸メチルでホルミル化し、次いでこの
生成物を、その後1つの反応段階において直接或いは他
に別の反応段階において、適当ならば希釈剤の存在下に
及び適当ならば塩基の存在下にメチル化剤でメチル化し
、そして得られる式(V) 【化5】 [式中、R1、R2及びR7は上述の意味を有する]の
アルコキシメチレンカルボン酸エステルを、最終工程に
おいて適当ならば希釈剤の存在下に及び塩基の存在下に
式(VI) 【化6】 [式中、R3及びR4は上述の意味を有する]のケトン
又はアルデヒドと反応させる、上記式(I)の1−アル
コキシヘキサトリエン−2−カルボン酸エステルの製造
法。 - 【請求項2】 式(IVa) 【化7】 [式中、R1−1は水素を表わし、或いは随時置換され
たアルキルを表わし、或いはアルケニル又はアルキニル
を表わし、或いはシクロアルキル又はシクロアルケニル
を表わし、或いはフェニルを表わし、或いはヘテロサイ
クリルを表わし、或いは式−O−R5又は−S−R5の
基を表わし、R2は水素を表わし、或いは随時置換され
たアルキルを表わし、或いはアルケニル又はアルキニル
を表わし、或いはシクロアルキル又はシクロアルケニル
を表わし、或いはフェニルを表わし、或いはヘテロサイ
クリルを表わし、もしくはR1及びR2はそれらが結合
する炭素原子と一緒になって、それぞれ随時置換されて
いてよい炭素環は複素環を表わし、そしてR5はそれぞ
れ互いに独立に水素を表わし、或いは随時置換されたア
ルキルを表わし、或いはアルケニル又はアルキニルを表
わし、或いはシクロアルキル又はシクロアルケニルを表
わし、或いは随時置換されたフェニルを表わし、或いは
随時置換されたヘテロサイクリルを表わし、そしてR7
は水素を表わし、或は随時置換されたアルキルを表わし
、或いはアルケニル又はアルキニルを表わし、或いはシ
クロアルキル又はシクロアルケニルを表わし、或いはフ
ェニルを表わし、或いはヘテロサイクリルを表わす]の
アクリルエステル誘導体。 - 【請求項3】 式(V) 【化8】 [式中、R1は水素を表わし、或いは随時置換されたア
ルキルを表わし、或いはアルケニル又はアルキニルを表
わし、或いはシクロアルキル又はシクロアルケニルを表
わし、或いはフェニルを表わし、或いはヘテロサイクリ
ルを表わし、或い R2は水素を表わし、或いは随時置換されたアルキルを
表わし、或いはアルケニル又はアルキニルを表わし、或
いはシクロアルキル又はシクロアルケニルを表わし、或
いはフェニルを表わし、或いはヘテロサイクリルを表わ
し、或いはR7は水素を表わし、或いは随時置換された
アルキルを表わし、或いはアルケニル又はアルキニルを
表わし、或いはシクロアルキル又はシクロアルケニルを
表わし、或いはフェニルを表わし、或いはヘテロサイク
リルを表わす]のアルコキシメチレンカルボン酸エステ
ル。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4012792A DE4012792A1 (de) | 1990-04-21 | 1990-04-21 | Verfahren zur herstellung von 1-alkoxyhexatrien-2-carbonsaeureestern |
DE4012792.3 | 1990-04-21 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04225990A true JPH04225990A (ja) | 1992-08-14 |
Family
ID=6404841
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3108206A Pending JPH04225990A (ja) | 1990-04-21 | 1991-04-15 | 1−アルコキシヘキサトリエン−2−カルボン酸エステルの製造法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
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JP (1) | JPH04225990A (ja) |
DE (1) | DE4012792A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006526645A (ja) * | 2003-05-30 | 2006-11-24 | パーキンエルマー ラス インコーポレイテッド | 同位体標識した化学的に安定な試薬およびその合成方法 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4129962A1 (de) * | 1991-09-10 | 1993-03-11 | Bayer Ag | 1-alkoxyhexatrien-2-carbonsaeureester |
DE19512886A1 (de) | 1995-04-06 | 1996-10-10 | Bayer Ag | Substituierte Cycloalkene |
IT1287161B1 (it) * | 1996-11-14 | 1998-08-04 | Isagro Ricerca Srl | Composti analoghi delle strobilurine aventi attivita' fungicida |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1990
- 1990-04-21 DE DE4012792A patent/DE4012792A1/de not_active Withdrawn
-
1991
- 1991-04-06 EP EP19910105451 patent/EP0453841A3/de not_active Withdrawn
- 1991-04-15 JP JP3108206A patent/JPH04225990A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006526645A (ja) * | 2003-05-30 | 2006-11-24 | パーキンエルマー ラス インコーポレイテッド | 同位体標識した化学的に安定な試薬およびその合成方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
EP0453841A3 (en) | 1992-09-30 |
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EP0453841A2 (de) | 1991-10-30 |
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