JPH04225838A - 連続式工程によるエチリデンジアセテートの製造方法    - Google Patents

連続式工程によるエチリデンジアセテートの製造方法   

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JPH04225838A
JPH04225838A JP3047579A JP4757991A JPH04225838A JP H04225838 A JPH04225838 A JP H04225838A JP 3047579 A JP3047579 A JP 3047579A JP 4757991 A JP4757991 A JP 4757991A JP H04225838 A JPH04225838 A JP H04225838A
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ethylidene diacetate
producing
solid catalyst
ethylidene
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Dae-Chol Park
朴   大   ▲ちえる▼
Sung Yun Cho
趙   成   倫
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Korea Research Institute of Chemical Technology KRICT
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    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J29/00Catalysts comprising molecular sieves
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C67/00Preparation of carboxylic acid esters
    • C07C67/28Preparation of carboxylic acid esters by modifying the hydroxylic moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group
    • C07C67/29Preparation of carboxylic acid esters by modifying the hydroxylic moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by introduction of oxygen-containing functional groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/34Esters of acyclic saturated polycarboxylic acids having an esterified carboxyl group bound to an acyclic carbon atom
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/582Recycling of unreacted starting or intermediate materials

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【産業上の利用分野】この発明はエチリデンジアセテー
ト製造用固体触媒、その製造方法およびこれを利用した
連続式工程によるエチリデンジアセテートの製造方法に
関し、特にたとえば、酢酸ビニル単量体の製造原料に使
われるエチリデンジアセテートを合成する際に使用され
るエチリデンジアセテート製造用固体触媒、その製造方
法およびこれを利用した連続式工程によるエチリデンジ
アセテートの製造方法に関する。 【0002】 【従来の技術】従来のエチリデンジアセテートの製造方
法は色々に知られているが、大部分は気化された酢酸と
エチレンを酸素で酸化させることであり、別の1つはメ
チルアセテート,一酸化炭素および水素を均質系触媒で
回分式に反応させエチリデンジアセテートを得ることで
あった。また、エチリデンジアセテートを製造する別の
公知の方法は、欧州特許第0028474号および日本
国特許昭51−115409号等の公報に開示されてい
る。これらの方法は、回分式反応方法でエチリデンジア
セテートを製造する方法である。 【0003】 【発明が解決しようとする課題】ところが、気化された
酢酸とエチレンを酸素で酸化させる方法では、反応物自
体が本発明と関係がなく、メチルアセテート,一酸化炭
素および水素を均質系触媒で回分式に反応させてエチリ
デンアセテートを得る方法では、触媒と反応生成物との
分離、精製および反応工程の複雑性という大きな欠点が
ある。また、上述の公報に開示されている方法では、回
分式反応方法でエチリデンジアセテートを製造するので
、反応終了後生成物と触媒との分離に大きな問題点があ
る。 【0004】それゆえに、この発明の主たる目的は、生
成物と明快に分離することができ、容易に精製を図るこ
とができ、反応工程をより一層単純化させることができ
る、エチリデンジアセテート製造用固体触媒を提供する
ことである。 【0005】この発明の他の目的は、そのエチリデンジ
アセテート製造用固体触媒を製造するための製造方法を
提供することである。 【0006】この発明のさらに他の目的は、そのエチリ
デンジアセテート製造用固体触媒を利用した連続式工程
によるエチリデンジアセテートの製造方法を提供するこ
とである。 【0007】 【課題を解決するための手段】この発明にかかるエチリ
デンジアセテート製造用固体触媒は、一般式MaPbS
と示され、Mは(CH3 CO2 )2 Pd,RhC
l(CO)〔P(C6 H5 )3 〕2 中から選択
された1つの化合物であり、Pはトリフェニルホスフィ
ン,ニコチン酸アミド,ニコチン酸中から選択された1
つの化合物であり、Sはけいそう土(Kieselgu
hr),γ−アルミナ,シリカ,TiO2 ,活性炭中
から選択された1つの担体であり、aは触媒製造に必要
なMのモル数であり、その範囲は1ないし2であり、b
は促進剤のモル比であり、その範囲は13ないし15で
ある、エチリデンジアセテート製造用固体触媒である。 【0008】この発明にかかるエチリデンジアセテート
製造用固体触媒の製造方法は、MとPを溶かしたジクロ
ロメタンにSを加えて沈漬させた後、30ないし50℃
で還流させた後、触媒を蒸留して、残留物を真空乾燥し
てからなるエチリデンジアセテート製造用固体触媒の製
造方法であって、Mは(CH3 CO2 )2 Pd,
RhCl(CO)〔P(C6 H5 )3 〕2 中か
ら選択された1つの化合物であり、Pはトリフェニルホ
スフィン,ニコチン酸アミド,ニコチン酸中から選択さ
れた1つの化合物であり、Sはけいそう土,γ−アルミ
ナ,シリカ,TiO2 ,活性炭中から選択された1つ
の担体である、エチリデンジアセテート製造用固体触媒
の製造方法である。 【0009】この発明にかかる連続式工程によるエチリ
デンジアセテートの製造方法は、次の化学式で示される
エチリデンジアセテートの製造方法であって、メチルア
セテート,ヨード・メタン,上述の一般式MaPbSで
示される触媒および促進剤の存在下で、90ないし25
0℃,20ないし70気圧で連続式反応方式で反応させ
てからなる、連続式工程によるエチリデンジアセテート
の製造方法である。 【0010】なお、上述のエチリデンジアセテートの製
造方法において、水素と一酸化炭素のモル比は1ないし
3であることが好ましい。 【0011】また、上述のエチリデンジアセテートの製
造方法において、空間速度は150ないし1000hr
−1であることが好ましい。 【0012】さらに、上述のエチリデンジアセテートの
製造方法において、ヨード・メタンの濃度は20ないし
70重量百分比率であることが好ましい。 【0013】 【発明の効果】この発明によれば、生成物と明快に分離
することができ、容易に精製を図ることができ、反応工
程をより一層単純化させることができる、エチリデンジ
アセテート製造用固体触媒が得られた。 【0014】また、この発明によれば、そのエチリデン
ジアセテート製造用固体触媒を製造するための製造方法
が得られた。 【0015】さらに、この発明によれば、そのエチリデ
ンジアセテート製造用固体触媒を利用した連続式工程に
よるエチリデンジアセテートの製造方法が得られた。ま
た、反応工程の単純化により、副次的にエチリデンジア
セテートの生産性が大きく向上した。 【0016】この発明の上述の目的,その他の目的,特
徴および利点は、以下の実施例の詳細な説明から一層明
らかとなろう。 【0017】 【実施例】今まで、エチリデンジアセテートを製造する
反応には、均質系触媒を使用しており、その中でも遷移
金属(Rh,Ru,Pd,Pt)触媒が主によく知られ
ている。 【0018】この発明では、均質触媒系の反応において
発生する反応終了後の生成物と触媒との分離という問題
点等を改善するために、無機担体に均質系触媒を担持し
て、均質な触媒を不均質化して、これを反応に適用した
結果、反応工程で触媒の分離が大変容易になり相対的に
工程の単純化ができた。 【0019】従来、エチリデンジアセテートは、回分式
反応方法によって製造され、その反応が均質系触媒反応
であるので、連続式製造工程で製造されていない。 【0020】米国特許第4,046,807号に記述さ
れた無水酢酸の合成結果をみれば、連続式反応方法でR
hCl3 ・xH2 O・KI/活性炭(13.2wt
%Rh)の触媒を使用して無水酢酸を合成すると、その
収率は6.76%であった。 【0021】それに対して、この発明では、エチリデン
ジアセテートを類似した反応条件で20.4%(メチル
アセテート基準)も合成することができた。 【0022】つまり、従来の回分式反応方法で問題とな
る触媒分離問題を、不均質触媒を使用して連続式反応工
程により解決することができ、反応結果においても、無
水酢酸の合成収率より優秀であった。 【0023】すなわち、VIII族遷移金属等を無機担
体に担持させた不均質触媒存在のもとでメチルアセテー
ト,一酸化炭素および水素を工程上連続式流れ反応器で
反応させることによりエチリデンジアセテートを製造し
、本願の触媒に長時間反応させても、生成物(II)の
収率が減少しなかった。なお、これらの触媒としてのV
III族遷移金属は、ロジウム系金属であった。 【0024】また、本発明では、連続式反応工程で得る
ことができる生成物獲得の容易性、工程の単純化、反応
条件が緩和できる点でその効果もあった。 【0025】本願で使用した触媒等を説明すれば次の通
りである。適用された触媒等の組成内容は、一般式Ma
PbS(I)を多様に変換して得ることができる。ここ
でM中の金属は、Pd,Rhであり、促進剤Pとしては
、P,N系化合物等である。金属の支持体は無機化合物
で、これらに対する金属錯化合物の濃度は1ないし3w
t%であり、トリフェニルホスフィンは担体に対して1
0ないし15wt%である。上の触媒中でもっとも適切
な触媒は、RhCl(CO)〔P(C6 H5 )3 
〕2 ・P(C6 H5 )3 /けいそう土であり、
ロジウムの担持量は1.5ないし2.5wt%で安定し
た触媒活性を示した。 【0026】触媒は沈漬法で製造されて、触媒製造の適
切な沈漬温度は40ないし90℃であり、乾燥温度は1
20ないし150℃である。 【0027】本発明で使用したVIII族遷移金属均質
触媒は、(CH3 CO2 )2 Pd,RhCl(C
O)〔P(C6 H5 )3 〕2 である。使用した
担体は、γ−アルミナ,けいそう土,活性炭,シリカ,
TiO2 である。使用された促進剤は、トリフェニル
ホスフィン,ニコチン酸アミド,ニコチン酸である。 【0028】本発明者の実験によれば、トリフェニルホ
スフィンを使用した触媒と担体としてけいそう土,γ−
アルミナを使用した触媒等がエチリデンジアセテートに
対して最も高い収率を示し、特に空間速度の調節がエチ
リデンジアセテートの製造条件で大変重要であることを
発見した。 【0029】本発明でエチリデンジアセテート(II)
を合成する全体的な工程は連続式製造工程であって、連
続的流れ反応器で不均質化された触媒は反応原料を反応
させる触媒反応工程,生成混合物を冷却させて分離する
凝縮工程および生成物を分離する蒸留工程に分類される
。 【0030】まず、触媒反応工程は実際では触媒反応で
反応が進行し、反応物の注入および反応は加温,加圧の
条件で行われる。 【0031】凝縮工程は液相と気相の混合物を分離する
工程であり、凝縮した混合物からエチリデンジアセテー
ト(II)を実際に得る段階である。ここで副生する無
水酢酸と酢酸は、メチルアセテートまたはエチリデンジ
アセテートを合成する工程から反応原料として再注入で
きる。 【0032】反応は次のような反応条件のもとで進行さ
れた。一酸化炭素に対する水素の比率はモル比で1ない
し6であり、望ましいのは1ないし3の範囲である。原
料気体の空間速度は100ないし1000hr−1であ
り、望ましいのは150ないし800hr−1の範囲で
ある。 【0033】反応温度は通常50ないし250℃であり
、望ましいのは100ないし200℃である。反応圧力
は10ないし100気圧であり、望ましいのは20ない
し70気圧である。 【0034】本実施例において、エチリデンジアセテー
トへの転換率,収率および選択度は次の式で定義される
。 【0035】                       反応し
たメチルアセテートのモル数  転換率(モル%)=─
────────────────×100     
                 供給したメチルア
セテートのモル数       【0036】                       生成し
たエチリデンジアセテートのモル数  収  率(モル
%)=────────────────────×1
00                      供
給したメチルアセテートのモル数       【0037】                       生成し
たエチリデンジアセテートのモル数選択度(モル%)=
────────────────────×100 
                     反応した
メチルアセテートのモル数【0038】反応原料および
生成物等の分析は、ガスクロマトグラフ上で反応物と生
成物等に対して、アニソル(anisole)を内部標
準物質として予め得た補正曲線から定量した。 【0039】実施例1 真空乾燥器で150℃で乾燥させたけいそう土6.8g
,RhCl(CO)〔P(C6 H5 )3 〕2 0
.72g(0.76mmol),トリフェニルホスフィ
ン3.10g(0.012mol)を30mlのジクロ
ロメタンに加え30分間還流させたのち、溶媒を減圧蒸
留した後、真空乾燥器で24時間乾燥して、RhCl(
CO)〔P(C6 H5 )3 〕2 /けいそう土(
1.13wt%Rh)の触媒を製造した。 【0040】実施例2 RhCl(CO)〔P(C6 H5 )3 〕20.2
30g(1.090mmol)とγ−アルミナ6.8g
およびトリフェニルホスフィン3.0g(11.43m
mol)を加える以外は実施例1と同じ触媒製造条件で
、RhCl(CO)〔P(C6 H5 )3 〕2 /
γ−アルミナ(1.6wt%Rh)の触媒を製造した。 【0041】実施例3 RhCl(CO)〔P(C6 H5 )3 〕22g(
2.10mmol)とアルミナ9.3gおよびトリフェ
ニルホスフィン3.0g(11.43mmol)を加え
る以外は実施例1と同じ触媒製造条件で、RhCl(C
O)〔P(C6 H5 )3 〕2 ・P(C6 H5
 )3 /γ−アルミナ(2.2wt%Rh)の触媒を
製造した。 【0042】実施例4 RhCl(CO)〔P(C6 H5 )3 〕23.2
40g(3.41mmol),TiO2 9.80gお
よびニコチンアミド5g(40.60mmol)を加え
る以外は実施例1と同じ触媒製造条件で、RhCl(C
O)〔P(C6 H5 )3 〕2 ニコチンアミド/
TiO2 (3.2wt%Rh)の触媒を製造した。 【0043】実施例5 RhCl(CO)〔P(C6 H5 )3 〕23.2
40g(3.41mmol)とTiO2 9.80gお
よびニコチン酸5g(40.60mmol)を加える以
外は実施例1と同じ触媒製造条件で、Rh(CO)〔P
(C6 H5 )3 〕2 ニコチン酸/TiO2 (
3.2wt%Rh)を製造した。 【0044】実施例6 (CH3 CO2 )2 Pd3.870g(17.2
mmol)とけいそう土9.46gおよびトリフェニル
ホスフィン3g(11.43mmol)を加える以外は
実施例1と同じ触媒条件で、(CH3 CO2 )2 
Pd・P(C6 H5 )3 /けいそう土(3.5w
t%Pd)の触媒を製造した。 【0045】実施例7 RhCl(CO)〔P(C6 H5 )3 〕21.2
g(1.240mmol)とけいそう土6.80gを加
える以外は実施例1と同じ触媒条件で、RhCl(CO
)〔P(C6 H5 )3 〕2 /けいそう土(1.
6wt%Rh)の触媒を製造した。 【0046】上記のように製造された触媒でエチリデン
ジアセテートを次の通り製造した。 【0047】実施例8 実施例1で製造した触媒の存在下で、連続式固定層流れ
反応器(内径:1.2cm、長さ:30cm、材料:ス
テンレススチル:316)において、メチルアセテート
0.0234ml/min,ヨード・メタン0.006
6ml/min,空間速度300hr−1,54気圧お
よび水素と一酸化炭素のモル比3:1の反応条件のもと
で、連続的に反応させて、これを冷却、凝縮させて、こ
れをガスクロマトグラフで分析した結果を表1に示す。 【0048】 【表1】 【0049】実施例9 触媒としてRhCl(CO)〔P(C6 H5 )3 
〕2 ・P(C6 H5 )3 /γ−アルミナ(1.
6wt%Rh)を使用する以外は実施例8と同一に実施
し、その結果を表2に示す。 【0050】 【表2】 【0051】実施例10 触媒としてRhCl(CO)〔P(C6 H5 )3 
〕2 ・P(C6 H5 )3 /γ−アルミナ(2.
2wt%Rh)を使用する以外は実施例8と同一に実施
し、その結果を表3に示す。 【0052】 【表3】 【0053】実施例11 触媒としてRhCl(CO)〔P(C6 H5 )3 
〕2 ・ニコチンアミド/TiO2 (3.2wt%R
h)を使用する以外は実施例8と同一に実施し、その結
果を表4に示す。 【0054】 【表4】 【0055】実施例12 触媒としてRhCl(CO)〔P(C6 H5 )3〕
2 ・ニコチン酸/TiO2 (3.2wt%Rh)を
使用する以外は実施例8と同一に実施し、その結果を表
5に示す。 【0056】 【表5】 【0057】実施例13 触媒として(CH3 CO2 )2 Pd・P(C6 
H5 )3 /けいそう土(3.5wt%Rh)を使用
する以外は実施例8と同一に実施し、その結果を表6に
示す。 【0058】 【表6】 【0059】実施例14 触媒としてRhCl(CO)〔P(C6 H5 )3 
〕2 /けいそう土(1.6wt%Rh)を使用する以
外は実施例8と同一に実施し、その結果を表7に示す。 【0060】 【表7】 【0061】実施例15 触媒としてRhCl(CO)〔P(C6 H5 )3 
〕2 ・P(C6 H5 )3 /けいそう土(2.4
6wt%)を使用する以外は実施例8と同一に実施し、
その結果を表8に示す。 【0062】 【表8】 【0063】実施例16 触媒としてRhCl(CO)〔P(C6 H5 )3 
〕2 /ジビニルベンゼンポリスチレン樹脂(1.96
%Rh、ストレム(strem)社製品)を使用した以
外は実施例8と同一に実施し、その結果を表9に示す。 【0064】 【表9】 【0065】連続式に反応させることができ、触媒が生
成物に混入しないのでエチリデンジアセテート精製がた
やすく、蒸留工程を経ないので、エネルギーの節約、工
程の単純化、生産に要する時間の短縮等の甚だ優れた効
果がある。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  次の一般式(I) MaPbS  (I) と示され、Mは(CH3 CO2 )2 Pd,RhC
    l(CO)〔P(C6 H5 )3 〕2 中から選択
    された1つの化合物であり、Pはトリフェニルホスフィ
    ン,ニコチン酸アミド,ニコチン酸中から選択された1
    つの化合物であり、Sはけいそう土,γ−アルミナ,シ
    リカ,TiO2 ,活性炭中から選択された1つの担体
    であり、aは触媒製造に必要なMのモル数であり、その
    範囲は1ないし2であり、bは促進剤のモル比であり、
    その範囲は13ないし15である、エチリデンジアセテ
    ート製造用固体触媒。
  2. 【請求項2】  MとPを溶かしたジクロロメタンにS
    を加えて沈漬させた後、30ないし50℃で還流させた
    後、溶媒を蒸留して、残留物を真空乾燥してからなるエ
    チリデンジアセテート製造用固体触媒の製造方法であっ
    て、Mは(CH3 CO2 )2 Pd,RhCl(C
    O)〔P(C6 H5 )3 〕2 中から選択された
    1つの化合物であり、Pはトリフェニルホスフィン,ニ
    コチン酸アミド,ニコチン酸中から選択された1つの化
    合物であり、Sはけいそう土,γ−アルミナ,シリカ,
    TiO2 ,活性炭中から選択された1つの担体である
    、エチリデンジアセテート製造用固体触媒の製造方法。
  3. 【請求項3】  次の化学式(II) で示されるエチリデンジアセテートの製造方法であって
    、メチルアセテート,ヨード・メタン,請求項1に記載
    の一般式MaPbS(I)で示される触媒および促進剤
    の存在下で、90ないし250℃,20ないし70気圧
    で連続式反応方式で反応させてからなる、連続式工程に
    よるエチリデンジアセテートの製造方法。
  4. 【請求項4】  水素と一酸化炭素のモル比は1ないし
    3であることを特徴とする、請求項3に記載のエチリデ
    ンジアセテートの製造方法。
  5. 【請求項5】  空間速度は150ないし1000hr
    −1であることを特徴とする、請求項3に記載のエチリ
    デンジアセテートの製造方法。
  6. 【請求項6】  ヨード・メタンの濃度は20ないし7
    0重量百分比率であることを特徴とする、請求項3に記
    載のエチリデンジアセテートの製造方法。
JP3047579A 1990-10-05 1991-02-19 連続式工程によるエチリデンジアセテートの製造方法    Pending JPH04225838A (ja)

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KR1990P15830 1990-10-05

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