JPH04220924A - 電子管用陰極 - Google Patents
電子管用陰極Info
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- JPH04220924A JPH04220924A JP2404822A JP40482290A JPH04220924A JP H04220924 A JPH04220924 A JP H04220924A JP 2404822 A JP2404822 A JP 2404822A JP 40482290 A JP40482290 A JP 40482290A JP H04220924 A JPH04220924 A JP H04220924A
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Landscapes
- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
- Solid Thermionic Cathode (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はブラウン管などに使用さ
れる電子管用陰極に関する。
れる電子管用陰極に関する。
【0002】
【従来の技術】図4は、たとえば特公昭64−5417
号公報に開示された従来のテレビジョン受像機用ブラウ
ン管や撮像管に用いられている電子管用陰極の一部拡大
断面図である。図4において、(1)はシリコン(Si
)、マグネシウム(Mg)などの還元性元素を微量含有
し、主成分がニッケル(Ni)の一端が閉塞された帽状
の基体金属であり、略円筒状のスリーブ(4)の一端に
溶接固定されている。(2)は基体金属(1) の一端
が閉塞された頂部上面に被覆形成された電子放射物質層
である。この電子放射物質層(2)は、バリウム(Ba
)を含み、他にストロンチウム(Sr)およびカルシウ
ム(Ca)を含む3元のアルカリ土類金属酸化物(21
)の中に酸化スカンジウムなどの希土類金属酸化物(2
2)を分散させた構成である。(3)は前記スリーブ(
4)内に配設されたヒータであり、このヒータ(3)を
加熱することによって基体金属(1)が加熱され、電子
放射物質層(2)から熱電子が放出せしめられる。
号公報に開示された従来のテレビジョン受像機用ブラウ
ン管や撮像管に用いられている電子管用陰極の一部拡大
断面図である。図4において、(1)はシリコン(Si
)、マグネシウム(Mg)などの還元性元素を微量含有
し、主成分がニッケル(Ni)の一端が閉塞された帽状
の基体金属であり、略円筒状のスリーブ(4)の一端に
溶接固定されている。(2)は基体金属(1) の一端
が閉塞された頂部上面に被覆形成された電子放射物質層
である。この電子放射物質層(2)は、バリウム(Ba
)を含み、他にストロンチウム(Sr)およびカルシウ
ム(Ca)を含む3元のアルカリ土類金属酸化物(21
)の中に酸化スカンジウムなどの希土類金属酸化物(2
2)を分散させた構成である。(3)は前記スリーブ(
4)内に配設されたヒータであり、このヒータ(3)を
加熱することによって基体金属(1)が加熱され、電子
放射物質層(2)から熱電子が放出せしめられる。
【0003】つぎに、このように構成された電子管用陰
極における、基体金属(1)への電子放射物質層(2)
の被着形成方法について説明する。
極における、基体金属(1)への電子放射物質層(2)
の被着形成方法について説明する。
【0004】まず、バリウム、ストロンチウム、カルシ
ウムの3元炭酸塩と所定量の酸化スカンジウムとをバイ
ンダーであるニトロセルロースおよび有機溶剤である酢
酸ブチルとともに混合して懸濁液を調製し、この懸濁液
を基体金属(1)の頂部にスプレイ法などにより塗布し
て電子放射物質層(2)となる膜を形成する。ついでこ
の陰極を電子銃に組み込み、ブラウン管の排気工程中に
ヒータ(3)によって加熱する。このとき、3元炭酸塩
は熱分解によりアルカリ土類金属酸化物(21)に変化
する。排気工程ののち、さらに高温で加熱して活性化を
行なう。このとき、アルカリ土類金属酸化物(21)の
一部が還元されて電子放射物質層(2)が半導体的性質
を有するようになり、基体金属(1)上にアルカリ土類
金属酸化物(21)と希土類金属酸化物(22)との混
合物からなる電子放射物質層(2)が形成される。
ウムの3元炭酸塩と所定量の酸化スカンジウムとをバイ
ンダーであるニトロセルロースおよび有機溶剤である酢
酸ブチルとともに混合して懸濁液を調製し、この懸濁液
を基体金属(1)の頂部にスプレイ法などにより塗布し
て電子放射物質層(2)となる膜を形成する。ついでこ
の陰極を電子銃に組み込み、ブラウン管の排気工程中に
ヒータ(3)によって加熱する。このとき、3元炭酸塩
は熱分解によりアルカリ土類金属酸化物(21)に変化
する。排気工程ののち、さらに高温で加熱して活性化を
行なう。このとき、アルカリ土類金属酸化物(21)の
一部が還元されて電子放射物質層(2)が半導体的性質
を有するようになり、基体金属(1)上にアルカリ土類
金属酸化物(21)と希土類金属酸化物(22)との混
合物からなる電子放射物質層(2)が形成される。
【0005】この活性化工程において、アルカリ土類金
属酸化物(21)の一部はつぎのように反応する。すな
わち、基体金属(1)中に含有されるシリコン、マグネ
シウムなどの還元性元素は拡散によってアルカリ土類金
属酸化物(21)と基体金属(1)の界面に移動し、ア
ルカリ土類金属酸化物(21)と反応する。たとえば、
アルカリ土類金属酸化物(21)として酸化バリウム(
BaO)を例にあげると次式(I)、(II)のように
反応する。
属酸化物(21)の一部はつぎのように反応する。すな
わち、基体金属(1)中に含有されるシリコン、マグネ
シウムなどの還元性元素は拡散によってアルカリ土類金
属酸化物(21)と基体金属(1)の界面に移動し、ア
ルカリ土類金属酸化物(21)と反応する。たとえば、
アルカリ土類金属酸化物(21)として酸化バリウム(
BaO)を例にあげると次式(I)、(II)のように
反応する。
【0006】
4BaO+Si → 2Ba+Ba2Si
O4 (I)
BaO+Mg → Ba+MgO
(II
) この反応の結果、基体金属(1)上に被着形成されてい
るアルカリ土類金属酸化物(21)の一部が還元されて
、酸素欠乏型の半導体となり、電子放射が容易となる。 電子放射物質層(2)に希土類金属酸化物(22)が含
まれないばあいは、陰極温度が700 〜 800℃の
動作温度で0.5 〜0.8A/cm2の電流密度動作
が可能である。一方、電子放射物質層(2)に酸化スカ
ンジウムなどの希土類金属酸化物(22)が含まれるば
あいには、同じ動作温度で1.32〜2.64 A/c
m2の高電流密度動作が可能となる。
O4 (I)
BaO+Mg → Ba+MgO
(II
) この反応の結果、基体金属(1)上に被着形成されてい
るアルカリ土類金属酸化物(21)の一部が還元されて
、酸素欠乏型の半導体となり、電子放射が容易となる。 電子放射物質層(2)に希土類金属酸化物(22)が含
まれないばあいは、陰極温度が700 〜 800℃の
動作温度で0.5 〜0.8A/cm2の電流密度動作
が可能である。一方、電子放射物質層(2)に酸化スカ
ンジウムなどの希土類金属酸化物(22)が含まれるば
あいには、同じ動作温度で1.32〜2.64 A/c
m2の高電流密度動作が可能となる。
【0007】このように希土類金属酸化物が含まれない
ばあいの動作可能な電流密度が小さいのは、一般に酸化
物陰極のばあい、電子放出能力は酸化物中の過剰Baの
存在量に依存するので、希土類金属酸化物(22)が含
まれないばあい高電流密度動作に必要な充分な過剰Ba
の供給が行なわれず、動作可能な最大電流密度が制約さ
れるからである。すなわち、前記反応時に生成される副
生成物で中間層と呼ばれるバリウムシリケイト(Ba2
SiO2)や酸化マグネシウム(MgO)が基体金属(
1) のニッケルの結晶粒界や基体金属(1)と電子放
射物質層(2)との界面に集中的に形成されるため、こ
の中間層の影響によってマグネシウムおよびシリコンの
拡散速度が抑制され、それに起因して過剰Baの供給が
不足するのである。一方、電子放射物質層(2)に希土
類金属酸化物(22)が含まれるばあいは、酸化スカン
ジウムのばあいを例にとると、陰極動作時の基体金属(
1)と電子放射物質層(2)との界面では基体金属(1
)中を拡散移動してきた還元剤の一部と酸化スンカジウ
ムとが次式(III)のように反応して少量の金属状の
スカンジウムを生成し、金属状のスカンジウムの一部が
基体金属(1)のニッケル中に固溶し、一部は前記界面
に存在する。
ばあいの動作可能な電流密度が小さいのは、一般に酸化
物陰極のばあい、電子放出能力は酸化物中の過剰Baの
存在量に依存するので、希土類金属酸化物(22)が含
まれないばあい高電流密度動作に必要な充分な過剰Ba
の供給が行なわれず、動作可能な最大電流密度が制約さ
れるからである。すなわち、前記反応時に生成される副
生成物で中間層と呼ばれるバリウムシリケイト(Ba2
SiO2)や酸化マグネシウム(MgO)が基体金属(
1) のニッケルの結晶粒界や基体金属(1)と電子放
射物質層(2)との界面に集中的に形成されるため、こ
の中間層の影響によってマグネシウムおよびシリコンの
拡散速度が抑制され、それに起因して過剰Baの供給が
不足するのである。一方、電子放射物質層(2)に希土
類金属酸化物(22)が含まれるばあいは、酸化スカン
ジウムのばあいを例にとると、陰極動作時の基体金属(
1)と電子放射物質層(2)との界面では基体金属(1
)中を拡散移動してきた還元剤の一部と酸化スンカジウ
ムとが次式(III)のように反応して少量の金属状の
スカンジウムを生成し、金属状のスカンジウムの一部が
基体金属(1)のニッケル中に固溶し、一部は前記界面
に存在する。
【0008】
1/2Sc2O3+3/2Mg → Sc+3
/2MgO (III) この金属状のスカンジウムは基体金属(1) 上または
基体金属(1) のニッケルの結晶粒界に形成された前
記中間層を次式(IV)のように分解する作用を有する
ので、過剰Baの供給が改善され、希土類金属酸化物(
22)が含まれないばあいよりも高電流密度動作が可能
になると考えられている。
/2MgO (III) この金属状のスカンジウムは基体金属(1) 上または
基体金属(1) のニッケルの結晶粒界に形成された前
記中間層を次式(IV)のように分解する作用を有する
ので、過剰Baの供給が改善され、希土類金属酸化物(
22)が含まれないばあいよりも高電流密度動作が可能
になると考えられている。
【0009】
1/2Ba2SiO4+4/3Sc →
Ba+1/2Si+
2/3Sc2O3 (IV)
Ba+1/2Si+
2/3Sc2O3 (IV)
【0010】
【発明が解決しようとする課題】このように構成された
電子管用陰極においては、希土類金属酸化物が過剰Ba
の供給に寄与するものの、過剰Baの供給速度は基体金
属であるニッケル中に存在する微量の還元剤の拡散速度
に律速され、2A/cm2以上の高電流密度動作では寿
命特性が低下するという問題を有している。
電子管用陰極においては、希土類金属酸化物が過剰Ba
の供給に寄与するものの、過剰Baの供給速度は基体金
属であるニッケル中に存在する微量の還元剤の拡散速度
に律速され、2A/cm2以上の高電流密度動作では寿
命特性が低下するという問題を有している。
【0011】また、希土類金属酸化物は、前述のように
中間層を分解する作用があるため、基体金属の表面にバ
リウムシリケートなどの中間層物質が生成することを抑
制するという効果を有する反面、長時間の動作中に電子
放射物質層の基体金属に対する接着性を弱めるので動作
中に電子放射物質層が基体金属から剥離して浮き上がっ
てしまうという問題もある。したがって、陰極に対向し
て配設してある第1グリッドとの間隔が変動するため、
カットオフ電圧が変動して画面の明るさが徐々に変動し
たり、またカラーブラウン管のばあいは、色調が長時間
の動作中に変動するなどの問題がある。
中間層を分解する作用があるため、基体金属の表面にバ
リウムシリケートなどの中間層物質が生成することを抑
制するという効果を有する反面、長時間の動作中に電子
放射物質層の基体金属に対する接着性を弱めるので動作
中に電子放射物質層が基体金属から剥離して浮き上がっ
てしまうという問題もある。したがって、陰極に対向し
て配設してある第1グリッドとの間隔が変動するため、
カットオフ電圧が変動して画面の明るさが徐々に変動し
たり、またカラーブラウン管のばあいは、色調が長時間
の動作中に変動するなどの問題がある。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明は、主成分がニッ
ケルであり、少なくとも1種の還元剤を含む基体金属上
に、タングステン粉末層を設け、その上に少なくともバ
リウムを含むアルカリ土類金属酸化物と希土類金属酸化
物とからなる電子放射物質層を被着形成した電子管用陰
極に関する。
ケルであり、少なくとも1種の還元剤を含む基体金属上
に、タングステン粉末層を設け、その上に少なくともバ
リウムを含むアルカリ土類金属酸化物と希土類金属酸化
物とからなる電子放射物質層を被着形成した電子管用陰
極に関する。
【0013】
【作用】本発明では、タングステン粉末層が過剰Baの
供給に寄与するため、2A/cm2以上の高電流密度動
作における寿命特性を改善しうる。
供給に寄与するため、2A/cm2以上の高電流密度動
作における寿命特性を改善しうる。
【0014】さらに、タングステン粉末層は、長時間の
動作中における電子放射物質層が基体金属から剥離しや
すいという欠点を解消でき、陰極の信頼性を大幅に向上
させる。
動作中における電子放射物質層が基体金属から剥離しや
すいという欠点を解消でき、陰極の信頼性を大幅に向上
させる。
【0015】
【実施例】本発明では、主成分がニッケルであり、少な
くとも1種、通常2〜4種の還元剤を含有してなる基体
金属が用いられる。
くとも1種、通常2〜4種の還元剤を含有してなる基体
金属が用いられる。
【0016】前記還元剤としては、たとえばシリコン、
マグネシウム、ジルコニウム、タングステンなどがあげ
られる。
マグネシウム、ジルコニウム、タングステンなどがあげ
られる。
【0017】基体金属は、還元剤の割合が通常0.01
〜3%(重量%、以下同様)のものが用いられる。
〜3%(重量%、以下同様)のものが用いられる。
【0018】前記基体金属上には、タングステン粉末層
が設けられている。
が設けられている。
【0019】前記タングステン粉末の粒径は、作業性の
点から0.5 〜1.0μmであるのが好ましい。タン
グステン粉末層の厚さは0.5〜5μmが好ましく、2
〜3μmであるのがさらに好ましい。厚さが0.5μm
未満ではコーティングが均一になりにくくなる傾向があ
り、5μmをこえると基体金属と電子放射物質との反応
が遅くなる傾向がある。
点から0.5 〜1.0μmであるのが好ましい。タン
グステン粉末層の厚さは0.5〜5μmが好ましく、2
〜3μmであるのがさらに好ましい。厚さが0.5μm
未満ではコーティングが均一になりにくくなる傾向があ
り、5μmをこえると基体金属と電子放射物質との反応
が遅くなる傾向がある。
【0020】本発明の電子管用陰極は、前記タングステ
ン粉末層上に少なくともバリウムを含むアルカリ土類金
属酸化物と希土類金属酸化物とからなる電子放射物質層
が被着形成されている。
ン粉末層上に少なくともバリウムを含むアルカリ土類金
属酸化物と希土類金属酸化物とからなる電子放射物質層
が被着形成されている。
【0021】前記アルカリ土類金属酸化物には、バリウ
ムの他、ストロンチウム、カルシウムなどが含まれてい
る。
ムの他、ストロンチウム、カルシウムなどが含まれてい
る。
【0022】前記希土類金属酸化物は、前記アルカリ土
類金属酸化物中に分散せしめられている成分であり、そ
の具体例としては、たとえば酸化スカンジウム、酸化イ
ットリウムなどがあげられる。
類金属酸化物中に分散せしめられている成分であり、そ
の具体例としては、たとえば酸化スカンジウム、酸化イ
ットリウムなどがあげられる。
【0023】電子放射物質層中のアルカリ土類金属酸化
物の割合は90〜99%が好ましく、希土類金属酸化物
の割合は1〜10%が好ましい。
物の割合は90〜99%が好ましく、希土類金属酸化物
の割合は1〜10%が好ましい。
【0024】電子放射物質層の厚さは、60〜100μ
m程度であるのが好ましい。
m程度であるのが好ましい。
【0025】つぎに本発明の電子管用陰極の製法の一例
を説明する。
を説明する。
【0026】まず基体金属をスリーブに溶接したのち、
洗浄、水素処理などの熱処理を施して表面の汚れや酸化
層を除去する。
洗浄、水素処理などの熱処理を施して表面の汚れや酸化
層を除去する。
【0027】つぎに、タングステン粉末と硝化綿などの
バインダーと酢酸ブチルなどの有機溶媒とを24〜48
時間程度、ボールミルなどで均一に混合し、スプレイ法
などにより基体金属上に塗布したのち、熱処理を行なう
ことにより、基体金属上にタングステン粉末層を設ける
。前記バインダー、有機溶媒の使用割合にとくに限定は
ない。前記熱処理は、タングステン粉末の表面層の酸化
層を除去する目的およびバインダーの分解の点から水素
雰囲気中または10−5Torr程度以下の真空雰囲気
中で行なうのが好ましい。処理温度は800〜1000
℃、処理時間は10〜30分間であるのが好ましい。
バインダーと酢酸ブチルなどの有機溶媒とを24〜48
時間程度、ボールミルなどで均一に混合し、スプレイ法
などにより基体金属上に塗布したのち、熱処理を行なう
ことにより、基体金属上にタングステン粉末層を設ける
。前記バインダー、有機溶媒の使用割合にとくに限定は
ない。前記熱処理は、タングステン粉末の表面層の酸化
層を除去する目的およびバインダーの分解の点から水素
雰囲気中または10−5Torr程度以下の真空雰囲気
中で行なうのが好ましい。処理温度は800〜1000
℃、処理時間は10〜30分間であるのが好ましい。
【0028】つぎに、前記タングステン粉末層上に、ア
ルカリ土類金属炭酸塩の粉末と希土類金属酸化物の粉末
とを酢酸ブチルや硝化綿などと混合して調製した懸濁液
をスプレイ法などにより塗布することにより、本発明の
電子管用陰極が製造される。以上のような本発明の電子
管用陰極は、高解像度を実現するために細い電子ビーム
を取り出すデイスプレイ用ブラウン管、大電流を流して
高輝度化を図る投射型ブラウン管や大型ブラウン管、さ
らには大電流が要求される進行波管などの電力管にも好
適である。
ルカリ土類金属炭酸塩の粉末と希土類金属酸化物の粉末
とを酢酸ブチルや硝化綿などと混合して調製した懸濁液
をスプレイ法などにより塗布することにより、本発明の
電子管用陰極が製造される。以上のような本発明の電子
管用陰極は、高解像度を実現するために細い電子ビーム
を取り出すデイスプレイ用ブラウン管、大電流を流して
高輝度化を図る投射型ブラウン管や大型ブラウン管、さ
らには大電流が要求される進行波管などの電力管にも好
適である。
【0029】つぎに本発明の一実施例を図1に基づいて
さらに具体的に説明する。
さらに具体的に説明する。
【0030】図1において、(1)は一端が閉塞された
帽状の基体金属であり、略円筒状のスリーブ(4)の一
端に固定されている。(5)は基体金属(1)の一端が
閉塞された頂部上面に被着形成されたタングステン粉末
層であり、さらにその上に電子放射物質層(2)が被覆
形成されている。電子放射物質層(2)ではアルカリ土
類金属酸化物(21)の中に希土類金属酸化物(22)
が分散せしめられている。(3)はスリーブ(4)内に
挿入配設されて基体金属(1)を加熱するためのヒータ
であり、ヒータ(3)を加熱することによって電子放射
物質層(2)から熱電子が放出せしめられる。実施例1
および比較例1まず、主成分がニッケルで、微量のマグ
ネシウム(0.05%)、シリコン(0.05%)から
なる基体金属(1)をスリーブ(4)に溶接したのち、
洗浄、1000℃×5分の水素処理を行なって表面の汚
れ、酸化層を除去した。
帽状の基体金属であり、略円筒状のスリーブ(4)の一
端に固定されている。(5)は基体金属(1)の一端が
閉塞された頂部上面に被着形成されたタングステン粉末
層であり、さらにその上に電子放射物質層(2)が被覆
形成されている。電子放射物質層(2)ではアルカリ土
類金属酸化物(21)の中に希土類金属酸化物(22)
が分散せしめられている。(3)はスリーブ(4)内に
挿入配設されて基体金属(1)を加熱するためのヒータ
であり、ヒータ(3)を加熱することによって電子放射
物質層(2)から熱電子が放出せしめられる。実施例1
および比較例1まず、主成分がニッケルで、微量のマグ
ネシウム(0.05%)、シリコン(0.05%)から
なる基体金属(1)をスリーブ(4)に溶接したのち、
洗浄、1000℃×5分の水素処理を行なって表面の汚
れ、酸化層を除去した。
【0031】つぎに粒径が0.5 〜 1.0μmのタ
ングステン粉末100gをバインダーである硝化綿5g
および有機溶媒である酢酸ブチル溶液500mlと一緒
にして24時間ボールミルで混合した。えられた混合物
を通常のスプレイ方法によって乾燥後の厚さが約2μm
になるように基体金属(1)上に塗布したのち、自然乾
燥を行ない、タングステン粉末層(5)を成形した。
ングステン粉末100gをバインダーである硝化綿5g
および有機溶媒である酢酸ブチル溶液500mlと一緒
にして24時間ボールミルで混合した。えられた混合物
を通常のスプレイ方法によって乾燥後の厚さが約2μm
になるように基体金属(1)上に塗布したのち、自然乾
燥を行ない、タングステン粉末層(5)を成形した。
【0032】つぎに、酸化スカンジウムとアルカリ土類
金属炭酸塩とを酢酸ブチルおよび硝化綿と混合した。え
られた混合液をスプレイ法によって乾燥後の厚さが約8
0μmになるようにタングステン粉末層(5)上に塗布
して乾燥した。このようにして酸化スカンジウムをアル
カリ土類金属酸化物に重量比で約3%分散させた電子放
射物質層(2)を形成した。
金属炭酸塩とを酢酸ブチルおよび硝化綿と混合した。え
られた混合液をスプレイ法によって乾燥後の厚さが約8
0μmになるようにタングステン粉末層(5)上に塗布
して乾燥した。このようにして酸化スカンジウムをアル
カリ土類金属酸化物に重量比で約3%分散させた電子放
射物質層(2)を形成した。
【0033】えられた電子管用陰極をブラウン管用の電
子銃に組み込み、ヒータ電圧を定格6.3Vとし、陰極
からの取り出し電流を2A/cm2として14インチの
デイスプレイ用ブラウン管で寿命試験を実施した。結果
を図2に示す。図2において、横軸は寿命試験時間、縦
軸はカソード電流値であり、初期値を100とした相対
値で示している。
子銃に組み込み、ヒータ電圧を定格6.3Vとし、陰極
からの取り出し電流を2A/cm2として14インチの
デイスプレイ用ブラウン管で寿命試験を実施した。結果
を図2に示す。図2において、横軸は寿命試験時間、縦
軸はカソード電流値であり、初期値を100とした相対
値で示している。
【0034】また比較例としてタングステン粉末層を有
さない従来の電子管用陰極を同様に評価した。
さない従来の電子管用陰極を同様に評価した。
【0035】図2から、本発明の電子管用陰極のカソー
ド電流の劣化が従来のものと比較して少ないことがわか
る。
ド電流の劣化が従来のものと比較して少ないことがわか
る。
【0036】このように本発明の電子管用陰極の寿命特
性が良好な要因は、以下のように推測される。
性が良好な要因は、以下のように推測される。
【0037】過剰Baは基体金属(1)に含有される還
元性不純物の作用によって前記式(I)、(II)に示
したようにして生成される。さらにそれに加えて、タン
グステン粉末層(5)は、式(V): 2BaO+1/3W → Ba+1/3B
a3WO6 (V) のように反応して過剰Baの生成に寄与する。このよう
に、過剰Baの生成が従来のものに比較して多いため高
電流密度動作においても負荷が低減され、寿命特性が良
好に推移するものと考えられる。
元性不純物の作用によって前記式(I)、(II)に示
したようにして生成される。さらにそれに加えて、タン
グステン粉末層(5)は、式(V): 2BaO+1/3W → Ba+1/3B
a3WO6 (V) のように反応して過剰Baの生成に寄与する。このよう
に、過剰Baの生成が従来のものに比較して多いため高
電流密度動作においても負荷が低減され、寿命特性が良
好に推移するものと考えられる。
【0038】また、実施例1の電子管用陰極にはタング
ステン粉末層が設けられているので電子放射物質層の基
体金属への接着性が改善され、長期間動作させても電子
放射物質層の局部的な浮き上がりを防止することができ
た。図3はカットオフ電圧の変動を示すグラフであり、
電子放射物質層(2)の浮き上がりが低減されてカット
オフ電圧が従来のものに比較して安定であることがわか
る。
ステン粉末層が設けられているので電子放射物質層の基
体金属への接着性が改善され、長期間動作させても電子
放射物質層の局部的な浮き上がりを防止することができ
た。図3はカットオフ電圧の変動を示すグラフであり、
電子放射物質層(2)の浮き上がりが低減されてカット
オフ電圧が従来のものに比較して安定であることがわか
る。
【0039】
【発明の効果】以上のように、本発明の電子管用陰極は
、希土類金属酸化物を含む電子放射物質層と基体金属と
の間にタングステン粉末層が形成されているため、過剰
Baの生成が促進され、高電流密度動作が可能となる。 さらに、タングステン粉末層が電子放射物質層と基体金
属との接合性を改善するため、長時間にわたって安定し
た高電流密度動作が可能となる。したがって、従来の電
子管用陰極では問題のあった高輝度、高精細ブラウン管
への適用が可能である。
、希土類金属酸化物を含む電子放射物質層と基体金属と
の間にタングステン粉末層が形成されているため、過剰
Baの生成が促進され、高電流密度動作が可能となる。 さらに、タングステン粉末層が電子放射物質層と基体金
属との接合性を改善するため、長時間にわたって安定し
た高電流密度動作が可能となる。したがって、従来の電
子管用陰極では問題のあった高輝度、高精細ブラウン管
への適用が可能である。
【図1】本発明の電子管用陰極の部分拡大断面図である
。
。
【図2】カソード電流の経時変化を示すグラフである。
【図3】カットオフ電圧の変動を示すグラフである。
【図4】従来の電子管用陰極の部分拡大断面図である。
1 基体金属
2 電子放射物質層
3 ヒータ
4 スリーブ
5 タングステン粉末層
21 アルカリ土類金属酸化物
22 希土類金属酸化物
Claims (1)
- 【請求項1】 主成分がニッケルであり、少なくとも
1種の還元剤を含む基体金属上に、タングステン粉末層
を設け、その上に少なくともバリウムを含むアルカリ土
類金属酸化物と希土類金属酸化物とからなる電子放射物
質層を被着形成した電子管用陰極。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP40482290A JPH07107824B2 (ja) | 1990-12-21 | 1990-12-21 | 電子管用陰極 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP40482290A JPH07107824B2 (ja) | 1990-12-21 | 1990-12-21 | 電子管用陰極 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04220924A true JPH04220924A (ja) | 1992-08-11 |
JPH07107824B2 JPH07107824B2 (ja) | 1995-11-15 |
Family
ID=18514483
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP40482290A Expired - Fee Related JPH07107824B2 (ja) | 1990-12-21 | 1990-12-21 | 電子管用陰極 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07107824B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6124666A (en) * | 1996-11-29 | 2000-09-26 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Electron tube cathode |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW375753B (en) * | 1995-12-27 | 1999-12-01 | Mitsubishi Electric Corp | Electron tube cathode |
JP5047875B2 (ja) * | 2008-05-09 | 2012-10-10 | 岡谷電機産業株式会社 | 放電管の製造方法 |
-
1990
- 1990-12-21 JP JP40482290A patent/JPH07107824B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6124666A (en) * | 1996-11-29 | 2000-09-26 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Electron tube cathode |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07107824B2 (ja) | 1995-11-15 |
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