JPH042193A - 樹脂回路基板の製造方法 - Google Patents
樹脂回路基板の製造方法Info
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- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims abstract description 78
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims abstract description 78
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 52
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 22
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 21
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 21
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 9
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 claims description 6
- 239000004020 conductor Substances 0.000 abstract description 11
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract description 6
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 abstract description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 11
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 2
- KPVWDKBJLIDKEP-UHFFFAOYSA-L dihydroxy(dioxo)chromium;sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O.O[Cr](O)(=O)=O KPVWDKBJLIDKEP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005411 Van der Waals force Methods 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、樹脂回路基板の製造方法に関する。
〈従来の技術〉
従来から、この種の樹脂回路基板としては、第2図で示
すような断面構成とされたものがあり、その基板用樹脂
成形品1の表面上に突設された回路パターン2それぞれ
の表面には導体線路3が形成されている。
すような断面構成とされたものがあり、その基板用樹脂
成形品1の表面上に突設された回路パターン2それぞれ
の表面には導体線路3が形成されている。
この樹脂回路基板の製造にあたっては、まず、予め用意
した型枠に所要材質の絶縁性樹脂材を充填することによ
って基板用樹脂成形品1を形成したのち、その表面側全
域にわたって付着した離型剤を除去する(脱脂処理)。
した型枠に所要材質の絶縁性樹脂材を充填することによ
って基板用樹脂成形品1を形成したのち、その表面側全
域にわたって付着した離型剤を除去する(脱脂処理)。
つぎに、いわゆるアンカー効果を引き出すべく所定のエ
ツチング液を用いて基板用樹脂成形品1の表面を粗面化
しくエツチング処理)、このエツチング液を中和によっ
て除去したのち、コンディショニングといわれる両性界
面活性剤処理を施す。さらに、この基板用樹脂成形品1
の表面側全域にわたってメッキ用触媒4を付与したのち
、このメッキ用触媒4の活性化処理を行う。なお、この
メッキ用触媒4は無電解メッキ処理を施すための必要に
応じて付与されるものであり、例えば、パラジウムや錫
などのような金属成分と濃塩酸と水を互いに所定割合で
混合したものなどを用いる。
ツチング液を用いて基板用樹脂成形品1の表面を粗面化
しくエツチング処理)、このエツチング液を中和によっ
て除去したのち、コンディショニングといわれる両性界
面活性剤処理を施す。さらに、この基板用樹脂成形品1
の表面側全域にわたってメッキ用触媒4を付与したのち
、このメッキ用触媒4の活性化処理を行う。なお、この
メッキ用触媒4は無電解メッキ処理を施すための必要に
応じて付与されるものであり、例えば、パラジウムや錫
などのような金属成分と濃塩酸と水を互いに所定割合で
混合したものなどを用いる。
そして、引き続き、回路パターン2間に絶縁性を有する
新たな樹脂材5を充填し、回路パターン2間に露出する
基板用樹脂成形品1の表面を樹脂材5によって埋め戻し
たのち、全体にわたって略同−の厚みとなった基板用樹
脂成形品1に対しでコンディショニングを施す。つぎに
、無電解メッキ処理を施すことによって回路パターン2
それぞれの表面に銅などのメッキ膜を下地層として付着
させ−たのち、活性化処理を行う、そののち、電解メッ
キ処理を施すことにより、下地層である銅とニンケルと
金とからなる3層構造などの導体線路3を回路パターン
2の表面上に形成する。
新たな樹脂材5を充填し、回路パターン2間に露出する
基板用樹脂成形品1の表面を樹脂材5によって埋め戻し
たのち、全体にわたって略同−の厚みとなった基板用樹
脂成形品1に対しでコンディショニングを施す。つぎに
、無電解メッキ処理を施すことによって回路パターン2
それぞれの表面に銅などのメッキ膜を下地層として付着
させ−たのち、活性化処理を行う、そののち、電解メッ
キ処理を施すことにより、下地層である銅とニンケルと
金とからなる3層構造などの導体線路3を回路パターン
2の表面上に形成する。
〈発明が解決しようとする課題〉
ところで、前記従来方法によって製造された樹脂回路基
板においては、基板用樹脂成形品1とこれに充填した樹
脂材5との界面にメッキ用触媒4が付着していることか
ら良好な密着性が得られず、これらの界面にメッキ材料
としての銅などが侵入することがある他、完成した樹脂
回路基板をパッケージとして用いた際における気密性が
劣化することになっていた。また、回路パターン2の表
面に形成された導体線路3同士が、付着したままのメッ
キ用触媒4に含まれるパラジウムや錫などの金属成分を
通じて導通することが起こり、導体線路3間の絶縁抵抗
値が下がって絶縁不良が生しることもあった。
板においては、基板用樹脂成形品1とこれに充填した樹
脂材5との界面にメッキ用触媒4が付着していることか
ら良好な密着性が得られず、これらの界面にメッキ材料
としての銅などが侵入することがある他、完成した樹脂
回路基板をパッケージとして用いた際における気密性が
劣化することになっていた。また、回路パターン2の表
面に形成された導体線路3同士が、付着したままのメッ
キ用触媒4に含まれるパラジウムや錫などの金属成分を
通じて導通することが起こり、導体線路3間の絶縁抵抗
値が下がって絶縁不良が生しることもあった。
本発明はかかる従来の不都合に鑑みて創案されたもので
あって、基板用樹脂成形品とこれに充填した樹脂材との
密着性の向上とともに、導体線路間の絶縁抵抗値の向上
を図ることができる樹脂回路基板の製造方法を提供する
ことを目的としている。
あって、基板用樹脂成形品とこれに充填した樹脂材との
密着性の向上とともに、導体線路間の絶縁抵抗値の向上
を図ることができる樹脂回路基板の製造方法を提供する
ことを目的としている。
く課題を解決するための手段〉
本発明に係る樹脂回路基板の製造方法は、このような目
的を達成するために、表面上に回路パターンが突設され
た基板用樹脂成形品を用意し、その表面側全域を高い被
エツチング性を有する樹脂からなるコーティング材によ
って被覆する工程と、回路パターン間に被エツチング性
を有しない新たな樹脂材を充填して埋め戻す工程と、埋
め戻された樹脂成形品の表面側全域にわたってエツチン
グ処理を施す工程と、その表面側全域にわたってメッキ
用触媒を付与したのち、無電解メッキ処理を施す工程と
を含むことを特徴とするものである。
的を達成するために、表面上に回路パターンが突設され
た基板用樹脂成形品を用意し、その表面側全域を高い被
エツチング性を有する樹脂からなるコーティング材によ
って被覆する工程と、回路パターン間に被エツチング性
を有しない新たな樹脂材を充填して埋め戻す工程と、埋
め戻された樹脂成形品の表面側全域にわたってエツチン
グ処理を施す工程と、その表面側全域にわたってメッキ
用触媒を付与したのち、無電解メッキ処理を施す工程と
を含むことを特徴とするものである。
〈作用〉
上記製造方法によれば、前もってコーティング材によっ
て被覆された基板用樹脂成形品の表面に突設された回路
パターン間に新たな樹脂材を充填するので、この基板用
樹脂成形品と新たに充填された樹脂材とは樹脂からなる
コーティング材によって密着させられて一体化すること
になる。そして、このとき、新たな樹脂材によって埋め
戻された基板用樹脂成形品の表面からは、この新たな樹
脂材によって囲まれた回路パターンの表面を覆うコーテ
ィング材のみが露出していることになる。
て被覆された基板用樹脂成形品の表面に突設された回路
パターン間に新たな樹脂材を充填するので、この基板用
樹脂成形品と新たに充填された樹脂材とは樹脂からなる
コーティング材によって密着させられて一体化すること
になる。そして、このとき、新たな樹脂材によって埋め
戻された基板用樹脂成形品の表面からは、この新たな樹
脂材によって囲まれた回路パターンの表面を覆うコーテ
ィング材のみが露出していることになる。
そこで、その表面側全域にわたってエツチング処理を施
した場合、被エツチング性を有しない新たな樹脂材はエ
ツチングされないにも拘わらず、高い被エツチング性を
有するコーティング材の表面のみが大きくエツチングさ
れて粗面化することになる。そのため、メッキ用触媒を
表面側全域にわたって付与すると、このメッキ用触媒は
回路パターンを覆うコーティング材にのみ付着すること
になり、無電解メッキ処理によるメッキ膜は粗面化され
たコーティング材を介して回路パターンの表面にのみ形
成されることになる。
した場合、被エツチング性を有しない新たな樹脂材はエ
ツチングされないにも拘わらず、高い被エツチング性を
有するコーティング材の表面のみが大きくエツチングさ
れて粗面化することになる。そのため、メッキ用触媒を
表面側全域にわたって付与すると、このメッキ用触媒は
回路パターンを覆うコーティング材にのみ付着すること
になり、無電解メッキ処理によるメッキ膜は粗面化され
たコーティング材を介して回路パターンの表面にのみ形
成されることになる。
〈実施例〉
以下、本発明に係る樹脂回路基板の製造方法の実施例を
図面に基づいて説明する。
図面に基づいて説明する。
第1図は本発明方法によって製造された樹脂回路基板の
断面構成を示しており、この図における符号1は基板用
樹脂成形品、2はその表面上に突設された回路パターン
、3は回路パターン2それぞれの表面に形成された導体
線路である。
断面構成を示しており、この図における符号1は基板用
樹脂成形品、2はその表面上に突設された回路パターン
、3は回路パターン2それぞれの表面に形成された導体
線路である。
本実施例においては、まず、表面上に回路パターン2が
突設された基板用樹脂成形品1を従来例と同様の手順で
形成することによって用意したうえで、その脱脂処理を
行う。そして、この基板用樹脂成形品lの表面側全域に
わたって高い被工。
突設された基板用樹脂成形品1を従来例と同様の手順で
形成することによって用意したうえで、その脱脂処理を
行う。そして、この基板用樹脂成形品lの表面側全域に
わたって高い被工。
チング性を有する樹脂、例えば、エポキシ樹脂及びウレ
タンアクリルレートを混合した樹脂からなるコーティン
グ材6を塗布したうえで硬化させることにより、その表
面側全域を全面的に被覆する。
タンアクリルレートを混合した樹脂からなるコーティン
グ材6を塗布したうえで硬化させることにより、その表
面側全域を全面的に被覆する。
なお、このエポキシ樹脂及びウレタンアクリルレートの
混合樹脂からなるコーティング材6は、硫酸−クロム酸
混合液によってエツチングされ易く、かつ、紫外線照射
によって容品に硬化するものである。
混合樹脂からなるコーティング材6は、硫酸−クロム酸
混合液によってエツチングされ易く、かつ、紫外線照射
によって容品に硬化するものである。
つぎに、回路パターン2間に絶縁性を有する新たな樹脂
材5を充填し、これらの間を埋め夏す。
材5を充填し、これらの間を埋め夏す。
すると、基板用樹脂成形品1と新たに充填された樹脂材
5とは、コーティング材6を介して強固に密着して一体
化することになる。なお、基板用樹脂成形品1、樹脂材
5及びコーティング材6が密着するのは、これらがとも
に樹脂であり、これらの間にはファン・デル・ワールス
力(分子間の引力)が作用するためと考えられる。そし
て、このとき、新たな樹脂材5によって埋め戻された基
板用樹脂成形品1の表面からは、コーティング材6で覆
われた回路パターン2の表面のみが露出していることに
なる。そこで、引き続き、全体にわたって時開−の厚み
となった基板用樹脂成形品1の脱脂処理を行う。
5とは、コーティング材6を介して強固に密着して一体
化することになる。なお、基板用樹脂成形品1、樹脂材
5及びコーティング材6が密着するのは、これらがとも
に樹脂であり、これらの間にはファン・デル・ワールス
力(分子間の引力)が作用するためと考えられる。そし
て、このとき、新たな樹脂材5によって埋め戻された基
板用樹脂成形品1の表面からは、コーティング材6で覆
われた回路パターン2の表面のみが露出していることに
なる。そこで、引き続き、全体にわたって時開−の厚み
となった基板用樹脂成形品1の脱脂処理を行う。
さらに、50〜70℃とされた硫酸−クロム酸混合液の
ようなエツチング液を用いたうえ、1〜2羨in間にわ
たるエツチング処理を行う、すると、被エツチング性を
有しない新たな樹脂材5はエツチングされないのに反し
、高い被エツチング性を有し、かつ、回路パターン2の
表面を覆って露出したコーティング材6の表面のみは大
きくエツチングされて粗面化することになる。引き続き
、このエツチング液を塩酸水溶液などによる中和処理に
よって除去したのち、コンディショニングを行つ・ つぎに、新たな樹脂材5によって埋め戻された基板用樹
脂成形品1の表面側全域にわたってメッキ用触媒4を付
与すると、このメッキ用触媒4はエツチングされずに平
滑なままの新たな樹脂材5の表面には付着せず、エツチ
ングされて粗面化したコーティング材6の表面のみに付
着することになる。なお、このメッキ用触媒4としては
、パラジウムや錫などのような金属成分と濃塩酸と水を
互いに所定割合で混合したものなどを用いる。
ようなエツチング液を用いたうえ、1〜2羨in間にわ
たるエツチング処理を行う、すると、被エツチング性を
有しない新たな樹脂材5はエツチングされないのに反し
、高い被エツチング性を有し、かつ、回路パターン2の
表面を覆って露出したコーティング材6の表面のみは大
きくエツチングされて粗面化することになる。引き続き
、このエツチング液を塩酸水溶液などによる中和処理に
よって除去したのち、コンディショニングを行つ・ つぎに、新たな樹脂材5によって埋め戻された基板用樹
脂成形品1の表面側全域にわたってメッキ用触媒4を付
与すると、このメッキ用触媒4はエツチングされずに平
滑なままの新たな樹脂材5の表面には付着せず、エツチ
ングされて粗面化したコーティング材6の表面のみに付
着することになる。なお、このメッキ用触媒4としては
、パラジウムや錫などのような金属成分と濃塩酸と水を
互いに所定割合で混合したものなどを用いる。
そののち、このメッキ用触媒4の活性化及びコンディシ
ョニングを行ったうえで無電解メッキ処理を施すと、回
路パターン2の表面にはメッキ用触媒4が付着したコー
ティング材6を介して銅などのメッキ膜が下地層として
形成される一方、メッキ用触媒4が付着していない新た
な樹脂材料5の表面にはメッキ膜が形成されないことに
なる。
ョニングを行ったうえで無電解メッキ処理を施すと、回
路パターン2の表面にはメッキ用触媒4が付着したコー
ティング材6を介して銅などのメッキ膜が下地層として
形成される一方、メッキ用触媒4が付着していない新た
な樹脂材料5の表面にはメッキ膜が形成されないことに
なる。
そこで、活性化処理を施したうえで電気メッキ処理を施
すと、下地層によって覆われた回路パターン2の表面の
みに、例えば、銅とニッケルと金とからなる3層構造の
ような導体線路3が最終的に形成される。
すと、下地層によって覆われた回路パターン2の表面の
みに、例えば、銅とニッケルと金とからなる3層構造の
ような導体線路3が最終的に形成される。
〈発明の効果〉
以上説明したように、本発明に係る樹脂回路基板の製造
方法によれば、回路パターンが突設された基板用樹脂成
形品の表面側全域を高い被エツチング性を有する樹脂か
らなるコーティング材によって被覆したのち、回路パタ
ーン間に新たな樹脂材を充填して埋め戻すので、この基
板用樹脂成形品と新たに充填された樹脂材との界面に従
来例のようなメッキ用触媒が付着していることがなくな
る結果、密着性の向上を図ることができる。また、同じ
く、基板用樹脂成形品と新たに充填された樹脂材との界
面にパラジウムや錫などの金属成分を含むメッキ用触媒
が付着していないので、導体線路3間の絶縁抵抗値が下
がることはなく、その向上によって絶縁不良の発生を有
効に防止することができるという効果が得られる。
方法によれば、回路パターンが突設された基板用樹脂成
形品の表面側全域を高い被エツチング性を有する樹脂か
らなるコーティング材によって被覆したのち、回路パタ
ーン間に新たな樹脂材を充填して埋め戻すので、この基
板用樹脂成形品と新たに充填された樹脂材との界面に従
来例のようなメッキ用触媒が付着していることがなくな
る結果、密着性の向上を図ることができる。また、同じ
く、基板用樹脂成形品と新たに充填された樹脂材との界
面にパラジウムや錫などの金属成分を含むメッキ用触媒
が付着していないので、導体線路3間の絶縁抵抗値が下
がることはなく、その向上によって絶縁不良の発生を有
効に防止することができるという効果が得られる。
第1図は本発明方法によって製造された樹脂回路基板の
構成を示す断面図であり、第2図は従来方法によって製
造された樹脂回路基板の構成を示す断面図である。 図における符号1は基板用樹脂成形品、2は回路パター
ン、4はメッキ用触媒、5は新たな樹脂材料、6はコー
ティング材である。 なお、図中の同一符号は、互いに同一もしくは相当する
部品、部分を示している。
構成を示す断面図であり、第2図は従来方法によって製
造された樹脂回路基板の構成を示す断面図である。 図における符号1は基板用樹脂成形品、2は回路パター
ン、4はメッキ用触媒、5は新たな樹脂材料、6はコー
ティング材である。 なお、図中の同一符号は、互いに同一もしくは相当する
部品、部分を示している。
Claims (1)
- (1)表面上に回路パターン(2)が突設された基板用
樹脂成形品(1)を用意し、その表面側全域を高い被エ
ッチング性を有する樹脂からなるコーティング材(6)
によって被覆する工程と、回路パターン(2)間に被エ
ッチング性を有しない新たな樹脂材(5)を充填して埋
め戻す工程と、 埋め戻された基板用樹脂成形品(1)の表面側全域にわ
たってエッチング処理を施す工程と、その表面側全域に
わたってメッキ用触媒(4)を付与したのち、無電解メ
ッキ処理を施す工程とを含むことを特徴とする樹脂回路
基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10400690A JPH042193A (ja) | 1990-04-18 | 1990-04-18 | 樹脂回路基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10400690A JPH042193A (ja) | 1990-04-18 | 1990-04-18 | 樹脂回路基板の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH042193A true JPH042193A (ja) | 1992-01-07 |
Family
ID=14369184
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10400690A Pending JPH042193A (ja) | 1990-04-18 | 1990-04-18 | 樹脂回路基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH042193A (ja) |
-
1990
- 1990-04-18 JP JP10400690A patent/JPH042193A/ja active Pending
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