JPH04217257A - レジスト現像装置 - Google Patents
レジスト現像装置Info
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- JPH04217257A JPH04217257A JP40383290A JP40383290A JPH04217257A JP H04217257 A JPH04217257 A JP H04217257A JP 40383290 A JP40383290 A JP 40383290A JP 40383290 A JP40383290 A JP 40383290A JP H04217257 A JPH04217257 A JP H04217257A
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- JP
- Japan
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- processing liquid
- resist
- processed substrate
- disk
- developing device
- Prior art date
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- Granted
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 57
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光ディスク等に用いら
れる露光済みレジスト被膜を有する被処理基板（以下、
レジスト原盤という）のレジスト現象を均一に行うレジ
スト現像装置に関する。
れる露光済みレジスト被膜を有する被処理基板（以下、
レジスト原盤という）のレジスト現象を均一に行うレジ
スト現像装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のレジスト現像装置を図２を参照し
ながら説明する。
ながら説明する。
【０００３】図２において、予めレーザ露光装置により
露光されたレジスト原盤１をカップ５内に設けられモー
ター３によって駆動され回転するターンテーブル２上に
固定する。次にターンテーブル２を低速回転させカップ
５に退避している液供給ノズル４ａをターンテーブル２
の回転中心付近に移動する。その後液供給ノズル４ａよ
り前水洗用の純水をレジスト原盤１の表面上に供給する
。供給された純水モーター３の回転によって生ずる遠心
力によりレジスト原盤１の外周へ拡がりレジスト原盤１
の表面を洗浄する。次に純水と現像液の供給を切り替え
、液供給ノズル４ａより現像液を供給する。供給された
現像液はモーター３の回転による遠心力によりレジスト
原盤１の表面を均一に覆い、レーザ露光機で露光された
部分のレジストをエッチングし凹凸の溝を形成していく
。その後現像液を純水の供給に切り替え供給ノズル４ａ
より純水を供給し後水洗を十分行った後、液供給ノズル
４ａよりの液供給を停止し液供給ノズル４ａをカップ５
外に退避させ、モーター３の回転数を高速回転させるこ
とにより、レジスト原盤１の表面に付着している水を遠
心力で飛ばして乾燥させる。なお、現像によって生じた
処理済み廃液は排水口６より排出される。
露光されたレジスト原盤１をカップ５内に設けられモー
ター３によって駆動され回転するターンテーブル２上に
固定する。次にターンテーブル２を低速回転させカップ
５に退避している液供給ノズル４ａをターンテーブル２
の回転中心付近に移動する。その後液供給ノズル４ａよ
り前水洗用の純水をレジスト原盤１の表面上に供給する
。供給された純水モーター３の回転によって生ずる遠心
力によりレジスト原盤１の外周へ拡がりレジスト原盤１
の表面を洗浄する。次に純水と現像液の供給を切り替え
、液供給ノズル４ａより現像液を供給する。供給された
現像液はモーター３の回転による遠心力によりレジスト
原盤１の表面を均一に覆い、レーザ露光機で露光された
部分のレジストをエッチングし凹凸の溝を形成していく
。その後現像液を純水の供給に切り替え供給ノズル４ａ
より純水を供給し後水洗を十分行った後、液供給ノズル
４ａよりの液供給を停止し液供給ノズル４ａをカップ５
外に退避させ、モーター３の回転数を高速回転させるこ
とにより、レジスト原盤１の表面に付着している水を遠
心力で飛ばして乾燥させる。なお、現像によって生じた
処理済み廃液は排水口６より排出される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の液供給
ノズル４ａを有するレジスト現像装置では、液供給によ
って生ずる処理液の吐出圧力によるレジストの機械的浸
食を防止するため処理液を未露光部であるレジスト原盤
の回転中心付近に供給し、モーター３の回転によって生
ずる遠心力によりレジスト原盤１の外周へ処理液を拡げ
ている。そのため、外周部は内周部に比べ表面積が広く
半径方向外側への処理液到達時間が不均一になり、レジ
スト原盤１の全面の現像が不均一になりやすいという問
題があった。
ノズル４ａを有するレジスト現像装置では、液供給によ
って生ずる処理液の吐出圧力によるレジストの機械的浸
食を防止するため処理液を未露光部であるレジスト原盤
の回転中心付近に供給し、モーター３の回転によって生
ずる遠心力によりレジスト原盤１の外周へ処理液を拡げ
ている。そのため、外周部は内周部に比べ表面積が広く
半径方向外側への処理液到達時間が不均一になり、レジ
スト原盤１の全面の現像が不均一になりやすいという問
題があった。
【０００５】本発明は、短時間内に処理液をレジスト原
盤の全面に拡散し、均一で安定した現像が可能なレジス
ト現像装置を提供することを目的とする。
盤の全面に拡散し、均一で安定した現像が可能なレジス
ト現像装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明は、レジスト原盤の回転中心上方に位置する
処理液供給機構の液供給ノズル先端に、レジスト原盤と
の間に間隙ができるように平行に対面した処理液整流円
盤を設け、処理液を前記処理液整流円盤の中心よりレジ
スト原盤の表面と処理液整流円盤で構成された間隙を経
てレジスト原盤の露光部へ供給できるようにしたもので
ある。
めに本発明は、レジスト原盤の回転中心上方に位置する
処理液供給機構の液供給ノズル先端に、レジスト原盤と
の間に間隙ができるように平行に対面した処理液整流円
盤を設け、処理液を前記処理液整流円盤の中心よりレジ
スト原盤の表面と処理液整流円盤で構成された間隙を経
てレジスト原盤の露光部へ供給できるようにしたもので
ある。
【０００７】
【作用】上記した構成により、液供給ノズルに配管によ
り圧送されてくる処理液は、液供給ノズル先端に取り付
けられた処理液整流円盤とレジスト原盤の表面とからな
る微小の間隙により、勢いよくレジスト原盤の表面外周
方向へ噴出する。そのため処理液のレジスト原盤の外周
部までの拡散は、回転による遠心力と処理液の噴出力に
より短時間で均一に拡散し、均一な現像を行うことがで
きる。
り圧送されてくる処理液は、液供給ノズル先端に取り付
けられた処理液整流円盤とレジスト原盤の表面とからな
る微小の間隙により、勢いよくレジスト原盤の表面外周
方向へ噴出する。そのため処理液のレジスト原盤の外周
部までの拡散は、回転による遠心力と処理液の噴出力に
より短時間で均一に拡散し、均一な現像を行うことがで
きる。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の一実施例について、図面に基
づいて説明する。
づいて説明する。
【０００９】図１に本発明の一実施例を示す。レーザ露
光装置により予め露光されたレジスト原盤１をカップ５
内に設けられたモーター３によって駆動され回転するタ
ーンテーブル２上に固定する。次にターンテーブル２を
低速回転させカップ５外に退避している処理液整流円盤
７を先端に設けた液供給ノズル４をターンテーブル２の
回転中心付近に移動する。その後液供給ノズル４、処理
液整流円盤７とレジスト原盤１の表面によって構成され
た間隙８より前水洗用の純水をレジスト原盤１表面上に
供給する。供給された純水はモーター３の回転によって
生ずる遠心力と間隙８からの処理液噴出圧力により短時
間でレジスト原盤１の外周へ拡がりレジスト原盤１の表
面を洗浄する。次いで純水と現像液の供給を切り替え、
液供給ノズル４の先端に設けられた処理液整流円盤７と
レジスト原盤１の表面で構成された間隙８より現像液を
レジスト原盤１の表面上に供給する。供給された現像液
はモーター３の回転力によって生ずる遠心力と間隙８か
らの処理液噴出圧力により短時間でレジスト原盤１の外
周へ到達し、レーザ露光機で露光された部分のレジスト
を均一にエッチングし凹凸の溝を形成していく。その後
現像液を純水の供給に切り替え液供給ノズル４、間隙８
より純水を供給し水洗を十分行った後、処理液整流円盤
７を設けた液供給ノズル４からの液供給を停止し、処理
液整流円盤７を設けた液供給ノズル４をカップ５の外に
退避させる。その後モーター３の回転数を高速回転させ
ることにより、レジスト原盤１の表面に付着している水
を遠心力により飛ばし、乾燥させる。なお、現像によっ
て生じた処理済み廃液は排水口６より排出される。
光装置により予め露光されたレジスト原盤１をカップ５
内に設けられたモーター３によって駆動され回転するタ
ーンテーブル２上に固定する。次にターンテーブル２を
低速回転させカップ５外に退避している処理液整流円盤
７を先端に設けた液供給ノズル４をターンテーブル２の
回転中心付近に移動する。その後液供給ノズル４、処理
液整流円盤７とレジスト原盤１の表面によって構成され
た間隙８より前水洗用の純水をレジスト原盤１表面上に
供給する。供給された純水はモーター３の回転によって
生ずる遠心力と間隙８からの処理液噴出圧力により短時
間でレジスト原盤１の外周へ拡がりレジスト原盤１の表
面を洗浄する。次いで純水と現像液の供給を切り替え、
液供給ノズル４の先端に設けられた処理液整流円盤７と
レジスト原盤１の表面で構成された間隙８より現像液を
レジスト原盤１の表面上に供給する。供給された現像液
はモーター３の回転力によって生ずる遠心力と間隙８か
らの処理液噴出圧力により短時間でレジスト原盤１の外
周へ到達し、レーザ露光機で露光された部分のレジスト
を均一にエッチングし凹凸の溝を形成していく。その後
現像液を純水の供給に切り替え液供給ノズル４、間隙８
より純水を供給し水洗を十分行った後、処理液整流円盤
７を設けた液供給ノズル４からの液供給を停止し、処理
液整流円盤７を設けた液供給ノズル４をカップ５の外に
退避させる。その後モーター３の回転数を高速回転させ
ることにより、レジスト原盤１の表面に付着している水
を遠心力により飛ばし、乾燥させる。なお、現像によっ
て生じた処理済み廃液は排水口６より排出される。
【００１０】この実施例では、レーザ露光機で露光した
部分のレジストをエッチングする場合について説明した
が露光しない部分のレジストをエッチングする場合につ
いても同様であることはいうまでもない。
部分のレジストをエッチングする場合について説明した
が露光しない部分のレジストをエッチングする場合につ
いても同様であることはいうまでもない。
【００１１】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように本発明に
よれば、現像に使用する処理液を短時間内にレジスト原
盤全面に拡散し、均一で安定した現像が可能であり、処
理液が分散されることから処理液の吐出圧力によるレジ
ストの機械的な浸食を受けることもないレジスト現像装
置を実現することができる。
よれば、現像に使用する処理液を短時間内にレジスト原
盤全面に拡散し、均一で安定した現像が可能であり、処
理液が分散されることから処理液の吐出圧力によるレジ
ストの機械的な浸食を受けることもないレジスト現像装
置を実現することができる。
【図１】本発明の一実施例におけるレジスト現像装置の
構成図
構成図
【図２】従来のレジスト現像装置の構成図
１ レジスト原盤（被処理基板）
２ ターンテーブル（回転機構）
３ モーター（回転機構）
４ 液供給ノズル
５ カップ
７ 処理液整流円盤
Claims (1)
- 【請求項１】 露光済みレジスト被膜を有する被処理
基板をその被処理基板の中心を回転軸として回転させる
回転機構と、前記被処理基板の表面に現像液および純水
を供給する処理液供給機構と、前記被処理基板の周囲を
囲むカップと前記被処理基板の回転中心上方に位置する
処理液供給機構の液供給ノイズ先端に被処理基板と間隙
ができるように平行に対面した処理液整流円盤とを備え
、処理液を前記処理液整流円盤の中心より供給するレジ
スト現像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP40383290A JP2943328B2 (ja) | 1990-12-19 | 1990-12-19 | レジスト現像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP40383290A JP2943328B2 (ja) | 1990-12-19 | 1990-12-19 | レジスト現像装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04217257A true JPH04217257A (ja) | 1992-08-07 |
| JP2943328B2 JP2943328B2 (ja) | 1999-08-30 |
Family
ID=18513561
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP40383290A Expired - Fee Related JP2943328B2 (ja) | 1990-12-19 | 1990-12-19 | レジスト現像装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2943328B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6203220B1 (en) | 1998-03-27 | 2001-03-20 | International Business Machines Corporation | Method, apparatus, and program for printing using modified print attributes |
| CN105278265A (zh) * | 2014-07-25 | 2016-01-27 | 东京毅力科创株式会社 | 显影方法和显影装置 |
| JP2017157860A (ja) * | 2017-05-23 | 2017-09-07 | 東京エレクトロン株式会社 | 現像方法、現像装置、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
-
1990
- 1990-12-19 JP JP40383290A patent/JP2943328B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6203220B1 (en) | 1998-03-27 | 2001-03-20 | International Business Machines Corporation | Method, apparatus, and program for printing using modified print attributes |
| CN105278265A (zh) * | 2014-07-25 | 2016-01-27 | 东京毅力科创株式会社 | 显影方法和显影装置 |
| KR20160012925A (ko) * | 2014-07-25 | 2016-02-03 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 현상 방법, 현상 장치 및 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체 |
| JP2016031942A (ja) * | 2014-07-25 | 2016-03-07 | 東京エレクトロン株式会社 | 現像方法、現像装置、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
| TWI603167B (zh) * | 2014-07-25 | 2017-10-21 | 東京威力科創股份有限公司 | 顯影方法、顯影裝置及電腦可讀取之記錄媒體 |
| US10120286B2 (en) | 2014-07-25 | 2018-11-06 | Tokyo Electron Limited | Developing method, developing apparatus, and computer-readable recording medium |
| US10901320B2 (en) | 2014-07-25 | 2021-01-26 | Tokyo Electron Limited | Developing method, developing apparatus, and computer-readable recording medium |
| JP2017157860A (ja) * | 2017-05-23 | 2017-09-07 | 東京エレクトロン株式会社 | 現像方法、現像装置、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2943328B2 (ja) | 1999-08-30 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080625 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090625 Year of fee payment: 10 |
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| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |