JPH04214875A - クリーンルーム用床材 - Google Patents
クリーンルーム用床材Info
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Landscapes
- Floor Finish (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体を製造する場合
に用いられるクリーンルームの耐食性、耐摩耗性の優れ
た床材に関する。
に用いられるクリーンルームの耐食性、耐摩耗性の優れ
た床材に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、精密機器等を製造するためクリー
ンルームが用いられているが、近年半導体素子の集積度
が高まるに伴って、これを製造するためのクリーンルー
ムの清浄度に対する要求はますます強くなっている。そ
のため、クリーンルームを構成するすべての材料に対し
て、さらに厳しい条件が要求されている。
ンルームが用いられているが、近年半導体素子の集積度
が高まるに伴って、これを製造するためのクリーンルー
ムの清浄度に対する要求はますます強くなっている。そ
のため、クリーンルームを構成するすべての材料に対し
て、さらに厳しい条件が要求されている。
【０００３】そのためクリーンルーム用床材には、母材
として、鉄、アルミニウム等が使用されていたが、耐食
性、耐摩耗性の面で問題があり、表面処理等を施してこ
れを改善して使用している。
として、鉄、アルミニウム等が使用されていたが、耐食
性、耐摩耗性の面で問題があり、表面処理等を施してこ
れを改善して使用している。
【０００４】上記表面使用法としていは、電気メッキに
よる亜鉛メッキ、ニッケルクロムメッキ、或いはエポキ
シコーティング等が採用されている。
よる亜鉛メッキ、ニッケルクロムメッキ、或いはエポキ
シコーティング等が採用されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記電
気メッキにより表面にメッキ膜を形成する方法では、床
材全体に均一な膜を形成することは不可能で、膜に無数
のピンホールが生じたり、或いは膜が形成されない個所
ができたりする。そのため、耐食性が劣り硝酸、塩酸、
フッ酸、硫酸等、クリーンルーム内で使用される腐食性
薬品によって、床材が浸され、床材が鉄の場合には酸化
鉄（さび）、アルミニウムの場合には酸化アルミニウム
（白粉）等がピンホールから吹き出す。これらさび或い
は白粉は、ほこりとなって飛散しクリーンルームを汚染
する。
気メッキにより表面にメッキ膜を形成する方法では、床
材全体に均一な膜を形成することは不可能で、膜に無数
のピンホールが生じたり、或いは膜が形成されない個所
ができたりする。そのため、耐食性が劣り硝酸、塩酸、
フッ酸、硫酸等、クリーンルーム内で使用される腐食性
薬品によって、床材が浸され、床材が鉄の場合には酸化
鉄（さび）、アルミニウムの場合には酸化アルミニウム
（白粉）等がピンホールから吹き出す。これらさび或い
は白粉は、ほこりとなって飛散しクリーンルームを汚染
する。
【０００６】また、エポキシコーティングした床材は、
作業者の歩行に伴なって摩耗し、発塵してクリーンルー
ムを汚染する。さらにエポキシコーティングは導電性が
なく、帯電するため、静電気によってパーティクルが付
着し、清掃しにくくなりクリーンルームの洗浄度をさら
に悪化する原因となる、等それぞれ問題があった。
作業者の歩行に伴なって摩耗し、発塵してクリーンルー
ムを汚染する。さらにエポキシコーティングは導電性が
なく、帯電するため、静電気によってパーティクルが付
着し、清掃しにくくなりクリーンルームの洗浄度をさら
に悪化する原因となる、等それぞれ問題があった。
【０００７】本発明者らは上記の問題を解決すべく鋭意
研究を行った結果、無電解メッキによって形成されたニ
ッケル−リン−タングステン（以下ＮｉＰＷと記す）膜
の表面に薄い酸化膜を形成した二層膜、無電解メッキに
よって形成された高リン含有のニッケル−リン（以下Ｈ
ＮｉＰと記す）膜の表面に薄い酸化膜を形成した二層膜
、又は無電解メッキによって形成されたニッケル−リン
−クロム（以下ＮｉＰＣｒと記す）膜の表面に薄い酸化
膜を形成した二層膜がいずれも耐食性、耐摩耗性に優れ
ていることを発見した。
研究を行った結果、無電解メッキによって形成されたニ
ッケル−リン−タングステン（以下ＮｉＰＷと記す）膜
の表面に薄い酸化膜を形成した二層膜、無電解メッキに
よって形成された高リン含有のニッケル−リン（以下Ｈ
ＮｉＰと記す）膜の表面に薄い酸化膜を形成した二層膜
、又は無電解メッキによって形成されたニッケル−リン
−クロム（以下ＮｉＰＣｒと記す）膜の表面に薄い酸化
膜を形成した二層膜がいずれも耐食性、耐摩耗性に優れ
ていることを発見した。
【０００８】本発明は、上記の発見に基づいてなされた
もので、耐食性、耐摩耗性の共に優れたクリーンルーム
用床材を提供することを目的とする。
もので、耐食性、耐摩耗性の共に優れたクリーンルーム
用床材を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明のクリーンルーム
用床材においては、金属を母材とし、最上表面に、通常
のニッケル−リン（以下ＮｉＰと記す）皮膜、ＮｉＰＷ
皮膜、クロメート皮膜、又はＮｉＰ皮膜、ＨＮｉＰ皮膜
、クロメート皮膜、又はＮｉＰ皮膜、ＮｉＰＣｒ皮膜、
クロメート皮膜がそれぞれ無電解メッキによって順次上
層に向って積層された層を設けることを問題解決の手段
とした。
用床材においては、金属を母材とし、最上表面に、通常
のニッケル−リン（以下ＮｉＰと記す）皮膜、ＮｉＰＷ
皮膜、クロメート皮膜、又はＮｉＰ皮膜、ＨＮｉＰ皮膜
、クロメート皮膜、又はＮｉＰ皮膜、ＮｉＰＣｒ皮膜、
クロメート皮膜がそれぞれ無電解メッキによって順次上
層に向って積層された層を設けることを問題解決の手段
とした。
【００１０】上記金属が鉄の場合には、前処理としてＮ
ｉメッキを施した鉄を用い、アルミニウムの場合には、
表面酸化膜を除去したアルミニウムを用いる。
ｉメッキを施した鉄を用い、アルミニウムの場合には、
表面酸化膜を除去したアルミニウムを用いる。
【００１１】
【作用】本発明のクリーンルーム用床材は上記の構成と
なっているので、皮膜の強度が強く、ピンホールが存在
せず、各種薬品に対する耐食性、或いは耐摩耗性が向上
する。
なっているので、皮膜の強度が強く、ピンホールが存在
せず、各種薬品に対する耐食性、或いは耐摩耗性が向上
する。
【００１２】
【実施例】本発明のクリーンルーム用床材には、母材と
して殆んどの金属が使用出来るが、価格等の面から、特
にアルミニウム、鉄が好適である。
して殆んどの金属が使用出来るが、価格等の面から、特
にアルミニウム、鉄が好適である。
【００１３】ＮｉＰ層は、その上面を被覆するＮｉＰＷ
被膜又はＮｉＰＣｒ被膜の硬さによる応力を逃がすため
と、耐食性の一助としての機能を有し、またＨＮｉＰの
場合には耐食性の一助としての機能を有する。
被膜又はＮｉＰＣｒ被膜の硬さによる応力を逃がすため
と、耐食性の一助としての機能を有し、またＨＮｉＰの
場合には耐食性の一助としての機能を有する。
【００１４】このＮｉＰ皮膜を形成するのに用いられる
無電解メッキ液としては、特に制限なく、例えば塩化ニ
ツケル等のニツケル塩、次亜リン酸塩、クエン酸ソーダ
等の錯化剤、安定剤、その他所望の成分を含有する公知
の酸性塩、アルカリ性塩が使用でき、常法に従ったメッ
キ条件でメッキすることによってＮｉＰ皮膜が形成され
る。このＮｉＰ皮膜の厚さは１μｍ以上特に５μｍ以上
が好ましい。
無電解メッキ液としては、特に制限なく、例えば塩化ニ
ツケル等のニツケル塩、次亜リン酸塩、クエン酸ソーダ
等の錯化剤、安定剤、その他所望の成分を含有する公知
の酸性塩、アルカリ性塩が使用でき、常法に従ったメッ
キ条件でメッキすることによってＮｉＰ皮膜が形成され
る。このＮｉＰ皮膜の厚さは１μｍ以上特に５μｍ以上
が好ましい。
【００１５】上記ＮｉＰＷ皮膜、ＨＮｉＰ皮膜又はＮｉ
ＰＣｒ皮膜を形成するのに用いられる無電解メッキ液は
特に制限がない。
ＰＣｒ皮膜を形成するのに用いられる無電解メッキ液は
特に制限がない。
【００１６】ＮｉＰＷ皮膜を形成する場合には、例えば
硫酸ニツケル等のニツケル塩、タングステン酸ソーダ等
のタングステン塩、次亜リン酸塩、クエン酸ソーダ等の
錯化剤、安定剤、その他所望の成分を含有する公知のメ
ッキ液が用いられ、常法に従ったメッキ条件でメッキす
ることによってＮｉＰＷ皮膜が形成される。
硫酸ニツケル等のニツケル塩、タングステン酸ソーダ等
のタングステン塩、次亜リン酸塩、クエン酸ソーダ等の
錯化剤、安定剤、その他所望の成分を含有する公知のメ
ッキ液が用いられ、常法に従ったメッキ条件でメッキす
ることによってＮｉＰＷ皮膜が形成される。
【００１７】このＮｉＰＷ皮膜の厚さは、１〜２０μｍ
、特に１〜１０μｍが好ましい。厚さが１μｍ未満では
、耐食性、耐摩耗性に対して厚さが不足し、２０μｍを
超えると、割れが発生することがある。
、特に１〜１０μｍが好ましい。厚さが１μｍ未満では
、耐食性、耐摩耗性に対して厚さが不足し、２０μｍを
超えると、割れが発生することがある。
【００１８】また、ＨＮｉＰ皮膜を形成する場合には、
例えば硫酸ニツケル等のニツケル塩、次亜リン酸塩、ク
エン酸ソーダ等の錯化剤、安定剤、その他所望の成分を
含有する公知のメッキ液が用いられ、常法に従ったメッ
キ条件でメッキすることによってＨＮｉＰ皮膜が形成さ
れる。ＨＮｉＰ皮膜中のＰの含有量は１０〜１２ｗｔ％
である。
例えば硫酸ニツケル等のニツケル塩、次亜リン酸塩、ク
エン酸ソーダ等の錯化剤、安定剤、その他所望の成分を
含有する公知のメッキ液が用いられ、常法に従ったメッ
キ条件でメッキすることによってＨＮｉＰ皮膜が形成さ
れる。ＨＮｉＰ皮膜中のＰの含有量は１０〜１２ｗｔ％
である。
【００１９】このＨＮｉＰ皮膜の厚さは、１〜２０μｍ
、特に１〜１０μｍが好ましい。厚さが１μｍ未満では
、耐食性、耐摩耗性に対して厚さが不足し、２０μｍを
超えると、経済的でない。
、特に１〜１０μｍが好ましい。厚さが１μｍ未満では
、耐食性、耐摩耗性に対して厚さが不足し、２０μｍを
超えると、経済的でない。
【００２０】またＮｉＰＣｒ皮膜を形成するには、例え
ば硫酸ニツケル等のニツケル塩、クロム酸ソーダ等のク
ロム酸塩、次亜リン酸塩、クエン酸ソーダ等の錯化剤、
安定剤、その他所望の成分を含有する公知のメッキ液が
用いられ、常法に従ったメッキ条件でメッキすることに
よってＮｉＰＣｒ皮膜が形成される。
ば硫酸ニツケル等のニツケル塩、クロム酸ソーダ等のク
ロム酸塩、次亜リン酸塩、クエン酸ソーダ等の錯化剤、
安定剤、その他所望の成分を含有する公知のメッキ液が
用いられ、常法に従ったメッキ条件でメッキすることに
よってＮｉＰＣｒ皮膜が形成される。
【００２１】このＮｉＰＷ皮膜の厚さは、１〜２０μｍ
、特に１〜１０μｍが好ましい。厚さが１μｍ未満では
、耐食性、耐摩耗性に対して厚さが不足する。
、特に１〜１０μｍが好ましい。厚さが１μｍ未満では
、耐食性、耐摩耗性に対して厚さが不足する。
【００２２】これら、ＮｉＰＷ、ＨＮｉＰ、又はＮｉＰ
Ｃｒの皮膜は、硬く、耐摩耗性に優れ、殆んどの薬品に
対して耐食性を有するが、硝酸に対する耐食性が劣るた
め、さらにその表面にクロメート皮膜を形成する。
Ｃｒの皮膜は、硬く、耐摩耗性に優れ、殆んどの薬品に
対して耐食性を有するが、硝酸に対する耐食性が劣るた
め、さらにその表面にクロメート皮膜を形成する。
【００２３】上記クロメート皮膜は、クロム酸液を用い
た無電解メッキによって形成される。このクロメート皮
膜の厚さは、５０〜１００Åの薄い膜厚でよく、これに
よって硝酸に対する耐食性が大幅に向上する。
た無電解メッキによって形成される。このクロメート皮
膜の厚さは、５０〜１００Åの薄い膜厚でよく、これに
よって硝酸に対する耐食性が大幅に向上する。
【００２４】上記ＮｉＰ，ＮｉＰＷ，クロメート、又は
ＮｉＰ，ＨＮｉＰ，クロメート、又はＮｉＰ，ＮｉＰＣ
ｒ，クロメートを順次積層したそれぞれの積層膜が表面
に形成されている床材は、耐食性、耐摩耗性に優れてい
るが、母材金属と上記積層膜との密着を強固するには、
母材金属に応じた前処理を施すことが望ましい。
ＮｉＰ，ＨＮｉＰ，クロメート、又はＮｉＰ，ＮｉＰＣ
ｒ，クロメートを順次積層したそれぞれの積層膜が表面
に形成されている床材は、耐食性、耐摩耗性に優れてい
るが、母材金属と上記積層膜との密着を強固するには、
母材金属に応じた前処理を施すことが望ましい。
【００２５】例えば、母材金属として鉄を使用する場合
、鉄の表面には、一般に酸化膜が形成されていることが
多く、酸等によって酸化膜を除去した後、Ｎｉの電気メ
ッキを施す。このＮｉメッキを施すことにより、ＮｉＰ
メッキが強固に密着形成され、以後、各皮膜を順次形成
することによって、強固に密着した積層皮膜を有するク
リーンルーム用床材が得られる。
、鉄の表面には、一般に酸化膜が形成されていることが
多く、酸等によって酸化膜を除去した後、Ｎｉの電気メ
ッキを施す。このＮｉメッキを施すことにより、ＮｉＰ
メッキが強固に密着形成され、以後、各皮膜を順次形成
することによって、強固に密着した積層皮膜を有するク
リーンルーム用床材が得られる。
【００２６】上記Ｎｉメッキの厚さは１〜１０μｍ、特
に１〜５μｍが好ましい。Ｎｉメッキの厚さが、１μｍ
未満では、Ｎｉメッキが施されない部分が生じ、１０μ
ｍを超えると、厚さが不均一なＮｉメッキとなり表面に
凹凸が発生するので好ましくない。
に１〜５μｍが好ましい。Ｎｉメッキの厚さが、１μｍ
未満では、Ｎｉメッキが施されない部分が生じ、１０μ
ｍを超えると、厚さが不均一なＮｉメッキとなり表面に
凹凸が発生するので好ましくない。
【００２７】また母材金属としてアルミニウムを使用す
る場合、表面に酸化アルミニウムが形成されているため
、前処理としてアルカリ洗浄等によってこれを除去する
。酸化膜を除去したアルミニウムの表面を亜鉛置換する
と、ＮｉＰが強固に密着するので、これに上記の三層無
電解メッキを施すことによって、耐食性、耐摩耗性に優
れた強固なクリーンルーム用床材が得られる。
る場合、表面に酸化アルミニウムが形成されているため
、前処理としてアルカリ洗浄等によってこれを除去する
。酸化膜を除去したアルミニウムの表面を亜鉛置換する
と、ＮｉＰが強固に密着するので、これに上記の三層無
電解メッキを施すことによって、耐食性、耐摩耗性に優
れた強固なクリーンルーム用床材が得られる。
【００２８】次に実施例、比較例を示して本発明を具体
的に説明する。
的に説明する。
【００２９】実施例１
３０×５０×２ｍｍのアルミダイキャスト（ＡＤＣ−１
２材）板にアルカリによって酸化膜を除去する前処理を
施し、この前処理したアルミダイキャスト板を用い、厚
さ８μｍのＮｉＰ皮膜、厚さ８μｍのＮｉＰＷ皮膜、厚
さ７０Åのクロメート皮膜を順次形成してテストピース
とした。
２材）板にアルカリによって酸化膜を除去する前処理を
施し、この前処理したアルミダイキャスト板を用い、厚
さ８μｍのＮｉＰ皮膜、厚さ８μｍのＮｉＰＷ皮膜、厚
さ７０Åのクロメート皮膜を順次形成してテストピース
とした。
【００３０】これらテストピースを、半導体製造工程で
使用されるそれぞれの濃度の硝酸、硫酸、塩酸、リン酸
、過酸化水素、フッ酸、フッ化アンモニウム、現象液３
００ｍｌを２５℃に保持し、２４時間浸漬し、重量の減
少割合（減量／浸漬前の重量）を測定した。
使用されるそれぞれの濃度の硝酸、硫酸、塩酸、リン酸
、過酸化水素、フッ酸、フッ化アンモニウム、現象液３
００ｍｌを２５℃に保持し、２４時間浸漬し、重量の減
少割合（減量／浸漬前の重量）を測定した。
【００３１】実施例２
ＮｉＰＷ皮膜の代りにＨＮｉＰ皮膜を用いた以外は実施
例１と同じにした。
例１と同じにした。
【００３２】実施例３
３０×５０×２ｍｍのアルミダイキャスト（ＡＤＣ−１
２材）板にアルカリによって酸化膜を除去する前処理を
施し、この前処理したアルミダイキャスト板を用い、厚
さ８μｍのＮｉＰ皮膜、厚さ２μｍのＮｉＰＣｒ皮膜、
厚さ７０Åのクロメート皮膜を順次形成してテストピー
スとした以外は実施例１と同じにした。
２材）板にアルカリによって酸化膜を除去する前処理を
施し、この前処理したアルミダイキャスト板を用い、厚
さ８μｍのＮｉＰ皮膜、厚さ２μｍのＮｉＰＣｒ皮膜、
厚さ７０Åのクロメート皮膜を順次形成してテストピー
スとした以外は実施例１と同じにした。
【００３３】比較例１，２
実施例１，２の前処理を施したアルミダイキャスト板を
そのまま、又は厚さ２０μｍのニッケルクロム膜を形成
したものをそれぞれテストピースとし、実施例１と同じ
テストを行なった。
そのまま、又は厚さ２０μｍのニッケルクロム膜を形成
したものをそれぞれテストピースとし、実施例１と同じ
テストを行なった。
【００３４】比較例３
実施例３の前処理したアルミダイキャスト板に厚さ２０
μｍの電気ニッケルクロム膜を形成したものをテストピ
ースとし、実施例１と同じテストを行なった。
μｍの電気ニッケルクロム膜を形成したものをテストピ
ースとし、実施例１と同じテストを行なった。
【００３５】上記、実施例１〜３、比較例１〜３の結果
を一括して表１に示す。但し、表中 Ａ…減量割合が０．１％未満のもの Ｂ…減量割合が０．１〜６．０％のものＣ…減量割合が
６．０％を超えるもの を示す。
を一括して表１に示す。但し、表中 Ａ…減量割合が０．１％未満のもの Ｂ…減量割合が０．１〜６．０％のものＣ…減量割合が
６．０％を超えるもの を示す。
【００３６】
【表１】
【００３７】実施例４〜６
それぞれ実施例１〜３のテストピースを用い、これらテ
ストピースについて、大越式摩耗試験機を用い、ＳＵＳ
３０４製の重さ０．５ｋｇの摺動回転片を回転速度０．
１７３ｍ／ｓｅｃ、回転時間２０ｓｅｃで比摩耗量を測
定した。またマイクロビッカース硬度計を用いて硬度を
測定した。
ストピースについて、大越式摩耗試験機を用い、ＳＵＳ
３０４製の重さ０．５ｋｇの摺動回転片を回転速度０．
１７３ｍ／ｓｅｃ、回転時間２０ｓｅｃで比摩耗量を測
定した。またマイクロビッカース硬度計を用いて硬度を
測定した。
【００３８】比較例４〜７
比較例４〜６として、それぞれ比較例１〜３のテストピ
ースを用い、比較例７として、比較例１の前処理したア
ルミダイキャスト板に１００μｍの厚さのエポキシコー
ティングしたテストピースを用いた。
ースを用い、比較例７として、比較例１の前処理したア
ルミダイキャスト板に１００μｍの厚さのエポキシコー
ティングしたテストピースを用いた。
【００３９】これらのテストピースによって実施例４〜
６と同じ測定を行なった。（但しマイクロビッカース硬
度計による測定は、エポキシコーティングしたテストピ
ースについて行なわなかった）。実施例４〜６、比較例
４〜７の結果を一括しして表２に示す。
６と同じ測定を行なった。（但しマイクロビッカース硬
度計による測定は、エポキシコーティングしたテストピ
ースについて行なわなかった）。実施例４〜６、比較例
４〜７の結果を一括しして表２に示す。
【００４０】
【表２】
【００４１】実施例７
鉄板の酸化膜を除去し、電解Ｎｉメッキを５μｍの厚さ
に施す前処理を行なった後、これに厚さ８μｍのＮｉＰ
皮膜、厚さ８μｍのＮｉＰＷ皮膜、厚さ７０Åのクロメ
ート皮膜を順次施した。
に施す前処理を行なった後、これに厚さ８μｍのＮｉＰ
皮膜、厚さ８μｍのＮｉＰＷ皮膜、厚さ７０Åのクロメ
ート皮膜を順次施した。
【００４２】この試料の抵抗値（漏洩抵抗）をＴＯＡ製
ウルトラメガオームメータ（ＭＯＤＥＬ−ＳＭ−１０Ｅ
）を用い印加電圧５００Ｖの直流電圧で測定した。
ウルトラメガオームメータ（ＭＯＤＥＬ−ＳＭ−１０Ｅ
）を用い印加電圧５００Ｖの直流電圧で測定した。
【００４３】実施例８
ＮｉＰＷの代りに、ＨＮｉＰを使用した以外は実施例７
と同じにした。
と同じにした。
【００４４】実施例９
鉄板の酸化膜を除去し、ニッケルストライクを１μｍの
厚さに施す前処理を行なった後これに厚さ８μｍのＮｉ
Ｐ皮膜、厚さ２μｍのＮｉＰＣｒ皮膜、厚さ７０Åのク
ロメート皮膜を順次施し、実施例７と同じ測定を行なっ
た。
厚さに施す前処理を行なった後これに厚さ８μｍのＮｉ
Ｐ皮膜、厚さ２μｍのＮｉＰＣｒ皮膜、厚さ７０Åのク
ロメート皮膜を順次施し、実施例７と同じ測定を行なっ
た。
【００４５】比較例８，９
鉄の酸化膜を除去した後、厚さ２０μｍのニッケルクロ
ム皮膜、或いは厚さ１００μｍのエポキシコーティング
をそれぞれ施して試料とし、実施例７と同じ測定を行な
った。
ム皮膜、或いは厚さ１００μｍのエポキシコーティング
をそれぞれ施して試料とし、実施例７と同じ測定を行な
った。
【００４６】実施例７〜９比較例８，９の結果を一括し
て表３に示す。
て表３に示す。
【００４７】
【表３】
【００４８】実施例１０
３０×５０×２ｍｍ厚の前処理アルミダイキャスト（Ａ
ＤＣ−１２）板に厚さ８μｍのＮｉＰ皮膜、厚さ２μｍ
のＮｉＰＣｒ皮膜、厚さ７０Åのクロメート皮膜を順次
形成してテストピースとした。
ＤＣ−１２）板に厚さ８μｍのＮｉＰ皮膜、厚さ２μｍ
のＮｉＰＣｒ皮膜、厚さ７０Åのクロメート皮膜を順次
形成してテストピースとした。
【００４９】試験方法は、人工的に作成した下記の■
人工汗液（酸性タイプ） （成分）塩化ナトリウム、リン酸１ナトリウムＬ−レス
チジン塩酸塩（ＰＨ）５．５ ■ 人工汗液（アルカリタイプ） （成分）塩化ナトリウム、リン酸１ナトリウムＬ−レス
チジン塩酸塩（ＰＨ）８．０ を用い、上記■，■の２種の人工汗液をスポイドで滴下
して放置し２４時間毎に同一場所に汗液を滴下した。９
６時間後ふきとり色差計により変色による黒色度をマン
セル明度で定量した。
人工汗液（酸性タイプ） （成分）塩化ナトリウム、リン酸１ナトリウムＬ−レス
チジン塩酸塩（ＰＨ）５．５ ■ 人工汗液（アルカリタイプ） （成分）塩化ナトリウム、リン酸１ナトリウムＬ−レス
チジン塩酸塩（ＰＨ）８．０ を用い、上記■，■の２種の人工汗液をスポイドで滴下
して放置し２４時間毎に同一場所に汗液を滴下した。９
６時間後ふきとり色差計により変色による黒色度をマン
セル明度で定量した。
【００５０】比較例１０
実施例１０と同じアルミ合金板に厚さ１０μｍのＮｉＰ
皮膜、厚さ７０Åのクロメート皮膜を順次形成してテス
トピースとした。
皮膜、厚さ７０Åのクロメート皮膜を順次形成してテス
トピースとした。
【００５１】このテストピースを用い、実施例１０と同
様にして変色を調べた。
様にして変色を調べた。
【００５２】実施例１０、比較例１０の結果を表４に示
す。
す。
【００５３】
【表４】
【００５４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のクリーン
ルーム用床材は、耐食性、耐摩耗性に優れ、また電導性
を有するので帯電することがない。したがって、腐食や
摩耗による発塵が殆んどなく、さらに発生したほこりが
床材に吸着されず、清掃が容易で、クリーンルームの清
浄度を高く保持することができ、又、敷き込みの際に付
着する手汗指紋跡による酸化変色が防止でき、今後の半
導体製造に大きく貢献するものである。
ルーム用床材は、耐食性、耐摩耗性に優れ、また電導性
を有するので帯電することがない。したがって、腐食や
摩耗による発塵が殆んどなく、さらに発生したほこりが
床材に吸着されず、清掃が容易で、クリーンルームの清
浄度を高く保持することができ、又、敷き込みの際に付
着する手汗指紋跡による酸化変色が防止でき、今後の半
導体製造に大きく貢献するものである。
Claims (5)
- 【請求項１】 金属を母材とするクリーンルーム用床
材において、最上表面に、ニッケル−リン皮膜、ニッケ
ル−リン−タングステン皮膜、クロメート皮膜が無電解
メッキによって順次上層に向って積層された層を有する
ことを特徴とするクリーンルーム用床材。 - 【請求項２】 金属を母材とするクリーンルーム用床
材において、最上表面に、ニッケル−リン皮膜、高リン
含有のニッケル−リン皮膜、クロメート皮膜が無電解メ
ッキによって順次上層に向って積層された層を有するこ
とを特徴とするクリーンルーム用床材。 - 【請求項３】 金属を母材とするクリーンルーム用床
材において、最上表面に、ニッケル−リン皮膜、ニッケ
ル−リン−クロム皮膜、クロメート皮膜が無電解メッキ
によって順次上層に向って積層された層を有することを
特徴とするクリーンルーム用床材。 - 【請求項４】 金属が鉄である場合、前処理としてニ
ッケルメッキを施した鉄を用いることを特徴とする請求
項１，２または３記載のクリーンルーム用床材。 - 【請求項５】 金属がアルミニウムである場合、前処
理として酸化皮膜を除去したアルミニウムを用いること
を特徴とする請求項１，２または３記載のクリーンルー
ム用床材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP875491A JPH04214875A (ja) | 1990-06-11 | 1991-01-28 | クリーンルーム用床材 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2-151832 | 1990-06-11 | ||
| JP15183290 | 1990-06-11 | ||
| JP875491A JPH04214875A (ja) | 1990-06-11 | 1991-01-28 | クリーンルーム用床材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04214875A true JPH04214875A (ja) | 1992-08-05 |
Family
ID=26343340
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP875491A Pending JPH04214875A (ja) | 1990-06-11 | 1991-01-28 | クリーンルーム用床材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04214875A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10443143B2 (en) | 2014-01-15 | 2019-10-15 | Savroc Ltd | Method for producing a chromium coating and a coated object |
| US10443142B2 (en) | 2014-01-15 | 2019-10-15 | Savroc Ltd | Method for producing chromium-containing multilayer coating and a coated object |
| US10487412B2 (en) | 2014-07-11 | 2019-11-26 | Savroc Ltd | Chromium-containing coating, a method for its production and a coated object |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5549939A (en) * | 1978-09-30 | 1980-04-11 | Tokyo Shibaura Electric Co | Stabilized power supply system |
| JPS5771734A (en) * | 1980-10-20 | 1982-05-04 | Hamasawa Kogyo:Kk | Manufacture of cutting tool |
| JPS60258473A (ja) * | 1984-06-06 | 1985-12-20 | C Uyemura & Co Ltd | 耐食性皮膜の製造方法 |
-
1991
- 1991-01-28 JP JP875491A patent/JPH04214875A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5549939A (en) * | 1978-09-30 | 1980-04-11 | Tokyo Shibaura Electric Co | Stabilized power supply system |
| JPS5771734A (en) * | 1980-10-20 | 1982-05-04 | Hamasawa Kogyo:Kk | Manufacture of cutting tool |
| JPS60258473A (ja) * | 1984-06-06 | 1985-12-20 | C Uyemura & Co Ltd | 耐食性皮膜の製造方法 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10443143B2 (en) | 2014-01-15 | 2019-10-15 | Savroc Ltd | Method for producing a chromium coating and a coated object |
| US10443142B2 (en) | 2014-01-15 | 2019-10-15 | Savroc Ltd | Method for producing chromium-containing multilayer coating and a coated object |
| US10487412B2 (en) | 2014-07-11 | 2019-11-26 | Savroc Ltd | Chromium-containing coating, a method for its production and a coated object |
| EP3167100B1 (en) * | 2014-07-11 | 2020-02-26 | Savroc Ltd | A chromium-containing coating and a coated object |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19961203 |