JPH0421260B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0421260B2 JPH0421260B2 JP59099079A JP9907984A JPH0421260B2 JP H0421260 B2 JPH0421260 B2 JP H0421260B2 JP 59099079 A JP59099079 A JP 59099079A JP 9907984 A JP9907984 A JP 9907984A JP H0421260 B2 JPH0421260 B2 JP H0421260B2
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- JP
- Japan
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- recording
- film
- digital signal
- reflective film
- disk
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
Links
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 claims description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 7
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 5
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 9
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 7
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/38—Visual features other than those contained in record tracks or represented by sprocket holes the visual signals being auxiliary signals
- G11B23/42—Marks for indexing, speed-controlling, synchronising, or timing
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B21/00—Head arrangements not specific to the method of recording or reproducing
- G11B21/02—Driving or moving of heads
- G11B21/10—Track finding or aligning by moving the head ; Provisions for maintaining alignment of the head relative to the track during transducing operation, i.e. track following
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はビデオデイスク，デイジタルオーデイ
オデイスク（たとえばコンパクトデイスク）、静
止画，文書フアイルなどのデイジタル信号記録再
生デイスクのデイスク製造方法に関するものであ
る。
オデイスク（たとえばコンパクトデイスク）、静
止画，文書フアイルなどのデイジタル信号記録再
生デイスクのデイスク製造方法に関するものであ
る。
従来例の構成とその問題点
この種のデイジタル信号記録再生デイスクは、
その情報密度が大きいことや、Ｓ／Ｎ，ダイナミ
ツクレンジが大きいことなど情報媒体として有望
視され、ビデオデイスクやデイジタルオーデイオ
デイスクとして商品化されている。
その情報密度が大きいことや、Ｓ／Ｎ，ダイナミ
ツクレンジが大きいことなど情報媒体として有望
視され、ビデオデイスクやデイジタルオーデイオ
デイスクとして商品化されている。
第１図に一般的なデイジタルオーデイオデイス
クであるコンパクトデイスクの概要を示す。これ
はPCM変換されたデイジタル信号が樹脂基板に
凹凸状のピツト列状に記録され、これが半導体レ
ーザにより再生されるものである。第１図におい
て１はデイスク全体、２は樹脂基板、３は凹凸状
にピツト列状に刻まれたデイジタル信号、４はそ
の表面に形成された反射膜、５は反射膜４の表面
にコーテイングされた保護膜、６はデイスク読取
面より照射される半導体レーザ光である。
クであるコンパクトデイスクの概要を示す。これ
はPCM変換されたデイジタル信号が樹脂基板に
凹凸状のピツト列状に記録され、これが半導体レ
ーザにより再生されるものである。第１図におい
て１はデイスク全体、２は樹脂基板、３は凹凸状
にピツト列状に刻まれたデイジタル信号、４はそ
の表面に形成された反射膜、５は反射膜４の表面
にコーテイングされた保護膜、６はデイスク読取
面より照射される半導体レーザ光である。
ここで反射膜４はデイジタル信号３を半導体レ
ーザ６により再生する場合に照射光を反射させる
ために必要である。反射膜形成には一般的に真空
蒸着法やスパツタリング法が用いられるが、ピン
ホール等が生じ反射膜の無い欠陥部分が生じるこ
とがある。また、デイジタル信号記録再生デイス
クにおいても記録膜形成工程にてピンホールが生
じ記録膜の無い欠陥部分を生じることがある。
ーザ６により再生する場合に照射光を反射させる
ために必要である。反射膜形成には一般的に真空
蒸着法やスパツタリング法が用いられるが、ピン
ホール等が生じ反射膜の無い欠陥部分が生じるこ
とがある。また、デイジタル信号記録再生デイス
クにおいても記録膜形成工程にてピンホールが生
じ記録膜の無い欠陥部分を生じることがある。
さらに、一般的はデイスク製造方法としては、
成形，反射膜または記録膜形成，保護膜形成の工
程を経るがこの工程中に反射膜または記録膜の一
部欠陥が発生することもある。
成形，反射膜または記録膜形成，保護膜形成の工
程を経るがこの工程中に反射膜または記録膜の一
部欠陥が発生することもある。
このように、反射膜または記録膜の無い欠陥部
分が生じればデイジタル信号再生装置（例えばコ
ンパクトデイスクプレーヤや文書フアイル装置）
が再生不可能となり音や映像に問題が生じる。
分が生じればデイジタル信号再生装置（例えばコ
ンパクトデイスクプレーヤや文書フアイル装置）
が再生不可能となり音や映像に問題が生じる。
従来はこの種の欠陥に相当するテストデイスク
が存在しなかつたため、デイジタル信号再生装置
のトレース性能を判定する規準を設けることがで
きず、トレース性能の向上を図ることも困難であ
るなどの問題点を有していた。
が存在しなかつたため、デイジタル信号再生装置
のトレース性能を判定する規準を設けることがで
きず、トレース性能の向上を図ることも困難であ
るなどの問題点を有していた。
発明の目的
本発明はこれらの問題点を解消するものであ
り、寸法精度の良い信頼性の高い、しかも大量に
安価にデイジタル信号記録再生デイスクの製造方
法を提供するものである。
り、寸法精度の良い信頼性の高い、しかも大量に
安価にデイジタル信号記録再生デイスクの製造方
法を提供するものである。
発明の構成
本発明は、情報の含まれたまたは記録可能な樹
脂基板の信号領域に、あらかじめ上記信号のトラ
ツク方向の幅を一定にしたマスキング基体を樹脂
基板上に付着し、その上に反射膜または記録膜を
蒸着等で設けたのちマスキング基体を除去するこ
とにより選択的に反射膜または記録膜の無い部分
を形成することをによりデイジタル信号記録再生
デイスクを製造するものである。
脂基板の信号領域に、あらかじめ上記信号のトラ
ツク方向の幅を一定にしたマスキング基体を樹脂
基板上に付着し、その上に反射膜または記録膜を
蒸着等で設けたのちマスキング基体を除去するこ
とにより選択的に反射膜または記録膜の無い部分
を形成することをによりデイジタル信号記録再生
デイスクを製造するものである。
実施例の説明
第２図に本発明のデイジタル信号記録再生デイ
スクの製造方法の一実施例を示す。第２図ａ，
ｂ，ｃは製造工程を示す断面図である。第２図ａ
は、樹脂基板２の上にポリエステルフイルムのマ
スキング基体７を付着したものである。第２図ｂ
は、このマスキング基体７上を含めて反射膜８を
スパツタリング法で形成した場合を示す。第２図
ｃは、マスキング基体７を除去しれ、反射膜の無
い部分９が形成された場合を示す。
スクの製造方法の一実施例を示す。第２図ａ，
ｂ，ｃは製造工程を示す断面図である。第２図ａ
は、樹脂基板２の上にポリエステルフイルムのマ
スキング基体７を付着したものである。第２図ｂ
は、このマスキング基体７上を含めて反射膜８を
スパツタリング法で形成した場合を示す。第２図
ｃは、マスキング基体７を除去しれ、反射膜の無
い部分９が形成された場合を示す。
マスキング基体７はあらかじめレーザー加工や
超音波切断加工法により寸法精度の良いものが準
備できる。また、ポリエステルフイルムには接着
剤が塗布されているため付着が簡単で取付精度の
向上が図れる。
超音波切断加工法により寸法精度の良いものが準
備できる。また、ポリエステルフイルムには接着
剤が塗布されているため付着が簡単で取付精度の
向上が図れる。
第３図に本発明のデイジタル信号記録再生デイ
スクの製造方法により得られたテストデイスクを
示す。第３図ａは平面図、第３図ｂはその断面図
を示す。トラツク方向の幅が３種類変化した反射
膜の無い欠陥部分９′が設けられている。８は反
射膜、５は保護膜を示す。このように、反射膜の
無い欠陥部分のトラツク方向の幅を階段状矩形形
状に変化させることはデイジタル信号再生装置の
トレース性能を順次テストすることができ、トレ
ース性能の評価を容易に行うことが可能であるた
め、再生装置のトレース性能向上に役立つ。
スクの製造方法により得られたテストデイスクを
示す。第３図ａは平面図、第３図ｂはその断面図
を示す。トラツク方向の幅が３種類変化した反射
膜の無い欠陥部分９′が設けられている。８は反
射膜、５は保護膜を示す。このように、反射膜の
無い欠陥部分のトラツク方向の幅を階段状矩形形
状に変化させることはデイジタル信号再生装置の
トレース性能を順次テストすることができ、トレ
ース性能の評価を容易に行うことが可能であるた
め、再生装置のトレース性能向上に役立つ。
反射膜のかわりに記録膜形成のデイジタル信号
記録再生テストデイスクの場合も同じで、記録膜
の無い欠陥部分をこれらの方法により形成すれば
信頼性の高いテストデイスクが得られる。
記録再生テストデイスクの場合も同じで、記録膜
の無い欠陥部分をこれらの方法により形成すれば
信頼性の高いテストデイスクが得られる。
なお上記の実施例では、反射膜の無い部分９を
いわゆる欠陥として、この欠陥の存在を利用する
テストデイスクの場合について説明したが、本願
はこのようなテスト用のデイスクに限られるもの
ではなく、例えば音楽用のデイスクの音楽記録部
以外の所に上記の方法により選択的に反射膜の無
い部分を設け、模様や文字を形成しインデツクス
としてまた意匠的な利用も可能である。さらに反
射膜（記録膜でも同様）の有無により広義の情報
ビツトを形成し、この情報ビツトにより例えばデ
イスクの種類、誤装着検出等の制御に利用するこ
とも可能である。この場合その情報ビツトの検出
は、通常の光ピツクアツプのみならず他の光学的
検出手段を利用しても良いものである。
いわゆる欠陥として、この欠陥の存在を利用する
テストデイスクの場合について説明したが、本願
はこのようなテスト用のデイスクに限られるもの
ではなく、例えば音楽用のデイスクの音楽記録部
以外の所に上記の方法により選択的に反射膜の無
い部分を設け、模様や文字を形成しインデツクス
としてまた意匠的な利用も可能である。さらに反
射膜（記録膜でも同様）の有無により広義の情報
ビツトを形成し、この情報ビツトにより例えばデ
イスクの種類、誤装着検出等の制御に利用するこ
とも可能である。この場合その情報ビツトの検出
は、通常の光ピツクアツプのみならず他の光学的
検出手段を利用しても良いものである。
発明の効果
本発明は、情報の含まれたまたは記録可能な樹
脂基板の信号領域に、上記信号のトラツク方向の
幅を一定にしたマスキング基体を樹脂基板上に付
着し、その上に反射膜または記録膜を設けマスキ
ング基体を除去する方法にて反射膜または記録膜
の無い部分を形成するものであり、例えば寸法精
度の良い信頼性の高いデイジタル信号記録再生テ
ストデイスクを大量に安価に製造することができ
る。さらに信号のトラツク方向の幅が一定な数種
類の反射膜または記録膜の無い欠陥部分を階段状
矩形形状に設けるためデイジタル信号再生装置の
トレース性能テスト用に適し、トレース性能の向
上を図ることができる。また本発明によれば、上
記テスト用のみならず、反射膜または記録膜を寸
法精度良く形成できるので、文字や模様を形成し
たり、各種検出用ビツトを形成でき、デイスクの
価値をさらに高めることができるものである。
脂基板の信号領域に、上記信号のトラツク方向の
幅を一定にしたマスキング基体を樹脂基板上に付
着し、その上に反射膜または記録膜を設けマスキ
ング基体を除去する方法にて反射膜または記録膜
の無い部分を形成するものであり、例えば寸法精
度の良い信頼性の高いデイジタル信号記録再生テ
ストデイスクを大量に安価に製造することができ
る。さらに信号のトラツク方向の幅が一定な数種
類の反射膜または記録膜の無い欠陥部分を階段状
矩形形状に設けるためデイジタル信号再生装置の
トレース性能テスト用に適し、トレース性能の向
上を図ることができる。また本発明によれば、上
記テスト用のみならず、反射膜または記録膜を寸
法精度良く形成できるので、文字や模様を形成し
たり、各種検出用ビツトを形成でき、デイスクの
価値をさらに高めることができるものである。
第１図ａは一般的なデイジタル信号記録再生デ
イスクの平面図、同図ｂは断面図、同図ｃは要部
拡大図、第２図ａ，ｂ，ｃは本発明の一実施例を
示すデイジタル信号記録再生デイスクの製造工程
を示す断面図、第３図ａは本発明の製造方法によ
り得られたデイジタル信号記録再生デイスクの平
面図、同図ｂは断面図である。 １……デイスク、２……樹脂基板、３……デイ
ジタル信号、４……反射膜、５……保護膜、６…
…半導体レーザ、７……マスキング基体、８……
反射膜、９……反射膜の無い部分。
イスクの平面図、同図ｂは断面図、同図ｃは要部
拡大図、第２図ａ，ｂ，ｃは本発明の一実施例を
示すデイジタル信号記録再生デイスクの製造工程
を示す断面図、第３図ａは本発明の製造方法によ
り得られたデイジタル信号記録再生デイスクの平
面図、同図ｂは断面図である。 １……デイスク、２……樹脂基板、３……デイ
ジタル信号、４……反射膜、５……保護膜、６…
…半導体レーザ、７……マスキング基体、８……
反射膜、９……反射膜の無い部分。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 情報の含まれた、または記録可能な樹脂基板
の信号領域に、あらかじめ上記信号のトラツク方
向の幅を一定にしたマスキング基体を上記基板上
に付着し、その上に反射膜または記録膜を蒸着等
の方法で設けたのち上記マスキング基体を除去す
ることにより、選択的に上記反射膜または記録膜
の無い部分を形成することを特徴とするデイジタ
ル信号記録再生デイスクの製造方法。 ２ マスキング基体としては、信号のトラツク方
向の一定幅の欠陥に相当する１種類または数種類
の連続した階段状矩形形状であることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載のデイジタル信号記
録再生デイスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59099079A JPS60243839A (ja) | 1984-05-17 | 1984-05-17 | デイジタル信号記録再生デイスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59099079A JPS60243839A (ja) | 1984-05-17 | 1984-05-17 | デイジタル信号記録再生デイスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60243839A JPS60243839A (ja) | 1985-12-03 |
| JPH0421260B2 true JPH0421260B2 (ja) | 1992-04-09 |
Family
ID=14237907
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59099079A Granted JPS60243839A (ja) | 1984-05-17 | 1984-05-17 | デイジタル信号記録再生デイスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60243839A (ja) |
-
1984
- 1984-05-17 JP JP59099079A patent/JPS60243839A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60243839A (ja) | 1985-12-03 |
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