JPH0421258B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0421258B2 JPH0421258B2 JP24608383A JP24608383A JPH0421258B2 JP H0421258 B2 JPH0421258 B2 JP H0421258B2 JP 24608383 A JP24608383 A JP 24608383A JP 24608383 A JP24608383 A JP 24608383A JP H0421258 B2 JPH0421258 B2 JP H0421258B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- disk
- reflective film
- vacuum
- digital signal
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 3
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 claims description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 claims description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 claims description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/0057—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、ビデオデイスク，デイジタルオーデ
イオデイスク（たとえばコンパクトデイスク），
静止画，文書フアイルなどのデイジタル信号記録
再生デイスクの製造方法に関するものである。
イオデイスク（たとえばコンパクトデイスク），
静止画，文書フアイルなどのデイジタル信号記録
再生デイスクの製造方法に関するものである。
従来例の構成とその問題点
この種のデイジタル信号記録再生デイスクは、
その情報密度が極めて大きいことや、Ｓ／Ｎが大
きく、ダイナミツクレンジが大きいことなど情報
媒体として有望視され、ビデオデイスクやデイジ
タルオーデイオデイスクとして商品化されてい
る。
その情報密度が極めて大きいことや、Ｓ／Ｎが大
きく、ダイナミツクレンジが大きいことなど情報
媒体として有望視され、ビデオデイスクやデイジ
タルオーデイオデイスクとして商品化されてい
る。
第１図に一般的なデイジタルオーデイオデイス
クであるコンパクトデイスクの概要を示す。これ
はPCM変換されたデイジタル信号が樹脂基板に
ピツト列が記録され、半導体レーザにより再生さ
れるものである。第１図において、１はデイスク
全体、２は樹脂基板、３は樹脂基板の表面に刻ま
れたピツト列のデイジタル信号、４はその表面に
作成された反射膜、５は反射膜４上にコーテイン
グされた保護膜、６はデイスク読取面からの再生
用の半導体レーザである。
クであるコンパクトデイスクの概要を示す。これ
はPCM変換されたデイジタル信号が樹脂基板に
ピツト列が記録され、半導体レーザにより再生さ
れるものである。第１図において、１はデイスク
全体、２は樹脂基板、３は樹脂基板の表面に刻ま
れたピツト列のデイジタル信号、４はその表面に
作成された反射膜、５は反射膜４上にコーテイン
グされた保護膜、６はデイスク読取面からの再生
用の半導体レーザである。
ここで、反射膜４はデイジタル信号３を半導体
レーザ６により再生する場合に照射光を反射させ
るために必要なものである。
レーザ６により再生する場合に照射光を反射させ
るために必要なものである。
第２図に真空蒸着法を用いた従来の反射膜作成
方法を示す。
方法を示す。
真空容器７の中に、デイスク１を第２図ｂのよ
うに並べた基材８を配置し、フイラメント９を加
熱し、Alなどの金属をデイスク１の表面に蒸着
することにより反射膜４を作成する。
うに並べた基材８を配置し、フイラメント９を加
熱し、Alなどの金属をデイスク１の表面に蒸着
することにより反射膜４を作成する。
この場合、装置の自動化は困難であり、処理枚
数に制限があり、量産化に適さないことや、デイ
スク基板を加熱する機構を備えないため反射膜４
の密着性が弱いことや加熱しても装置が複雑であ
り量産に適さないという欠点がある。
数に制限があり、量産化に適さないことや、デイ
スク基板を加熱する機構を備えないため反射膜４
の密着性が弱いことや加熱しても装置が複雑であ
り量産に適さないという欠点がある。
発明の目的
本発明はこれらの欠点を除去し、大量にしかも
連続的に、早く、かつ性能的にも安定に反射膜を
作成することのできるデイジタル信号記録再生デ
イスクの製造方法を提供するものである。
連続的に、早く、かつ性能的にも安定に反射膜を
作成することのできるデイジタル信号記録再生デ
イスクの製造方法を提供するものである。
発明の構成
本発明は、真空容器内にデイスク取出入用の２
つの予備真空室を備え、上記予備真空室からデイ
スクの取出入を行うとともに、真空容器の外部よ
り駆動した装置により真空容器内の一つの円の円
周上の少なくとも３つの位置に、デイスク取付除
去，デイスクの基板加熱，デイスク表面への反射
膜の蒸着を行う３つの装置を備え、その中心に配
置したターンテーブル外周にデイスクを垂直方向
に保持し、このターンテーブルを回転させること
によつてデイスクの取付除去，デイスクの基板加
熱，デイスク表面への反射膜の蒸着を順次行うこ
とにより、上記デイジタル信号記録再生デイスク
の表面に反射膜を作成するようにしたものであ
る。
つの予備真空室を備え、上記予備真空室からデイ
スクの取出入を行うとともに、真空容器の外部よ
り駆動した装置により真空容器内の一つの円の円
周上の少なくとも３つの位置に、デイスク取付除
去，デイスクの基板加熱，デイスク表面への反射
膜の蒸着を行う３つの装置を備え、その中心に配
置したターンテーブル外周にデイスクを垂直方向
に保持し、このターンテーブルを回転させること
によつてデイスクの取付除去，デイスクの基板加
熱，デイスク表面への反射膜の蒸着を順次行うこ
とにより、上記デイジタル信号記録再生デイスク
の表面に反射膜を作成するようにしたものであ
る。
実施例の説明
第３図に本発明のデイジタル信号記録再生デイ
スクの製造方法の一実施例を示す。ここで、デイ
スクは垂直方向に保持されるため装置全体を上面
図にて示す。
スクの製造方法の一実施例を示す。ここで、デイ
スクは垂直方向に保持されるため装置全体を上面
図にて示す。
第３図はデイスクの取付除去，基板加熱，反射
膜の蒸着の３つの装置を有する真空容器内で、デ
イスクを垂直方向に保持したターンテーブル回転
機構により、デイスク取付除去，基板加熱，反射
膜の蒸着の３つの工程を順序行う実施例を示す。
膜の蒸着の３つの装置を有する真空容器内で、デ
イスクを垂直方向に保持したターンテーブル回転
機構により、デイスク取付除去，基板加熱，反射
膜の蒸着の３つの工程を順序行う実施例を示す。
以下その製造方法を説明する。デイスク１が予
備真空室１０を通じて、真空容器１１内に取入れ
られる。次にデイスク１は、真空容器１１の外部
より駆動されるデイスク運搬装置１２により、タ
ーンテーブル１３の外周に設けた第１の回転位置
（デイスク取付除去位置）１４に取付けられる。
次にターンテーブル１３が回転し、第２の回転位
置（デイスクの基板加熱位置）１５に移動し、こ
こでヒータ１６により基板が加熱される。さらに
ターンテーブル１３が回転し、予備の回転位置１
７に移動する。次にターンテーブル１３が回転
し、第３の回転移動（スパツター位置）１８に行
つたところで、Alターゲツト１９によりAlがス
パツターされデイスク表面にAl反射膜が作成さ
れる。最後に、ターンテーブル１３が回転し、再
びデイスク取付除去位置１４に行つたところで、
デイスク１が除去され、デイスク運搬装置１２に
より、予備真空室２０を通じてデイスクが真空容
器外に取出される。
備真空室１０を通じて、真空容器１１内に取入れ
られる。次にデイスク１は、真空容器１１の外部
より駆動されるデイスク運搬装置１２により、タ
ーンテーブル１３の外周に設けた第１の回転位置
（デイスク取付除去位置）１４に取付けられる。
次にターンテーブル１３が回転し、第２の回転位
置（デイスクの基板加熱位置）１５に移動し、こ
こでヒータ１６により基板が加熱される。さらに
ターンテーブル１３が回転し、予備の回転位置１
７に移動する。次にターンテーブル１３が回転
し、第３の回転移動（スパツター位置）１８に行
つたところで、Alターゲツト１９によりAlがス
パツターされデイスク表面にAl反射膜が作成さ
れる。最後に、ターンテーブル１３が回転し、再
びデイスク取付除去位置１４に行つたところで、
デイスク１が除去され、デイスク運搬装置１２に
より、予備真空室２０を通じてデイスクが真空容
器外に取出される。
予備の回転位置１７に、別の材料をスパツター
するターゲツトを置くことにより、別の反射膜を
作成することも可能である。
するターゲツトを置くことにより、別の反射膜を
作成することも可能である。
なお、反射膜は、真空蒸着法，スパツタリン
グ，電子ビーム蒸着法，イオンプレーテイングな
どの物理蒸着で作成することが望ましい。
グ，電子ビーム蒸着法，イオンプレーテイングな
どの物理蒸着で作成することが望ましい。
発明の効果
以上のように本発明によれば、真空容器内にデ
イスク取出入用の２つの予備真空室を備え、上記
真空容器内の円周上の少なくとも３つの位置に、
デイスク取付除去，デイスクの基板加熱，デイス
ク表面への反射膜の蒸着の３つの装置を設け、こ
れらの装置により順次処理して、デイスク表面に
反射膜を作成することができる。
イスク取出入用の２つの予備真空室を備え、上記
真空容器内の円周上の少なくとも３つの位置に、
デイスク取付除去，デイスクの基板加熱，デイス
ク表面への反射膜の蒸着の３つの装置を設け、こ
れらの装置により順次処理して、デイスク表面に
反射膜を作成することができる。
これにより、反射膜作成時の信頼性の向上が図
れ、また自動化によりスピードアツプできるため
量産化が可能であり、安価にデイスクを製造する
ことができる。
れ、また自動化によりスピードアツプできるため
量産化が可能であり、安価にデイスクを製造する
ことができる。
第１図ａ，ｂ，ｃは一般的なデイジタル信号記
録再生デイスクの平面図、断面図および要部断面
図、第２図ａ，ｂは従来のデイジタル信号記録再
生デイスクの製造方法の概略を示す図およびその
基材にデイスクを取付けた状態の斜視図、第３図
は本発明の一実施例を示す上面図である。 １……デイスク、２……樹脂基板、３……デイ
ジタル信号、４……反射膜、５……保護膜、６…
…半導体レーザ、１０……予備真空室、１１……
真空容器、１２……デイスク運搬用装置、１３…
…ターンテーブル、１４……第１の回転位置（デ
イスク取付除去位置）、１５……第２の回転位置
（デイスクの基板加熱位置）、１６……ヒータ、１
７……予備の回転位置、１８……第３の回転位置
（スパツター位置）、１９……Alターゲツト、２
０……予備真空室。
録再生デイスクの平面図、断面図および要部断面
図、第２図ａ，ｂは従来のデイジタル信号記録再
生デイスクの製造方法の概略を示す図およびその
基材にデイスクを取付けた状態の斜視図、第３図
は本発明の一実施例を示す上面図である。 １……デイスク、２……樹脂基板、３……デイ
ジタル信号、４……反射膜、５……保護膜、６…
…半導体レーザ、１０……予備真空室、１１……
真空容器、１２……デイスク運搬用装置、１３…
…ターンテーブル、１４……第１の回転位置（デ
イスク取付除去位置）、１５……第２の回転位置
（デイスクの基板加熱位置）、１６……ヒータ、１
７……予備の回転位置、１８……第３の回転位置
（スパツター位置）、１９……Alターゲツト、２
０……予備真空室。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 真空容器内にデイスク取出入用の２つの予備
真空室を備え、上記予備真空室からデイスクの取
出し入れを行うとともに、上記真空容器内の一つ
の円の円周上の少なくとも３つの位置に、デイス
ク取付除去，デイスクの基板加熱，デイスク表面
への反射膜の蒸着を行う３つの装置を備え、それ
らの装置の中心に配置したターンテーブル外周に
デイスクを垂直方向に保持し、このターンテーブ
ルを回転させることによつてデイスクの取付除
去，デイスクの基板加熱，デイスク表面への反射
膜の蒸着を順次行うことによりデイスク表面に反
射膜を作成することを特徴とするデイジタル信号
記録再生デイスクの製造方法。 ２ 反射膜を、真空蒸着，スパツタリング，電子
ビーム蒸着，イオンプレーテイングなどの物理蒸
着で作成することを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載のデイジタル信号記録再生デイスクの製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24608383A JPS60136045A (ja) | 1983-12-23 | 1983-12-23 | デイジタル信号記録再生デイスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24608383A JPS60136045A (ja) | 1983-12-23 | 1983-12-23 | デイジタル信号記録再生デイスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60136045A JPS60136045A (ja) | 1985-07-19 |
| JPH0421258B2 true JPH0421258B2 (ja) | 1992-04-09 |
Family
ID=17143228
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24608383A Granted JPS60136045A (ja) | 1983-12-23 | 1983-12-23 | デイジタル信号記録再生デイスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60136045A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5170195A (en) * | 1990-09-17 | 1992-12-08 | Pioneer Electronic Corporation | Cooling device for a liquid crystal panel |
-
1983
- 1983-12-23 JP JP24608383A patent/JPS60136045A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60136045A (ja) | 1985-07-19 |
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