JPH04206816A - 半導体製造装置の電気炉 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は電熱ヒーターにかかる電圧な熱電対の起電力
に応して制御する半導体製造装置の電気炉に関するもの
である。

〔従来の技術〕

第３図は従来の半導体製造装置に用いられる電気炉の断
面図で、図において、（１）は石英管、（２）は石英管
（１）を取り巻くヒーターコイル、（３）はウェハを積
載するポート、（４）はポート（３）を支持する保温筒
、（５）はエンドキャップ、（６）は熱電対、（７）は
温度制御を行うコントローラーユニットである。

次に動作について説明する。炉の温度は３分割されたヒ
ーター（２）によって、各ソーンか独立に制御されてい
る。その温度制御力法は、オートプロファイル方式を取
っている。熱電対（６）て観測した温度を炉内が所望の
温度になるように、あらかしめ記憶させた値になるよう
温度コントローラーユニッｈ（７）て制御をする。

〔発明か解決しようと）ｊ−る課題〕

従来の半導体製造装置の電気炉は炉壁に配置した熱電対
て炉内の７１′、Ｘ度を制御′１−るため、炉内の温度
が所望の値になるように補ｒＦをかけなければならず、
また、炉内の温度を直接観測していないのて、炉内の温
度が１−れても瞬時に対応てきないという問題点があっ
た。

この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、炉内の温度を直接モニタリンクし温度制御て
きる゛ト導体製造装置の電気炉を得ることを１」的とす
る。

〔課題を解決１）−るためのｆ段〕 この発明に係る半導体製造装置の電気炉は、熱電対をボ
ート組み込んだものである。

〔作用〕

この発明における半導体製造装置の電気炉は、ウェハ真
近の温度をモニターして制御するため、温度補張を行う
必要がなく、炉温の変化に瞬時に対応できる。

〔実施例〕

以ト−１この発明の一実施例を図について説明する。第
１図において、（３）はウェハを積載するボート、（６
）はボート（３）の支柱の１つに埋め込まれた熱電対、
（５）はボート（３）を支持するエンドキャップである
。これらのボート、エンドキャップを用いた′電気炉の
全体図を第２図に示す。図において、（１）は石英管、
（２）はそれを取り巻くヒーターコイル、（３）はボー
ト、（６）はポー１１３）に埋め込まれた熱電対、（５
）はボート（３）を支持するエンドキャラブ、（７）は
ン品度コントローラーユニ・ントである。

次に動作について説明する。ボート（３）に埋め込まれ
た熱電対（６）によって炉内の温度を測定し、その熱起
電力が温度コントローラーユニット（７）へ伝えられ、
そわに応じた電圧かヒーター（２）にかけられ炉内の温
度を制御する。

なお、ト記実施例におけるｒ−Ｓ体製造装置の電気炉は
ウェハの−ｒオン江大の場合について説明したが、酸化
炉、拡散炉、ＣＶＤ炉に応用できることは言うまてもな
い。

〔発明の効果〕

以北のようにこの発明によれば、熱電対をボート内に設
けたので、炉内の温度で直接制御でき補正を加える必要
がない。また、炉内の温度のずれに瞬時に対応できるな
どの効果かある。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例であるボートの斜視図、第
２図は第１図のボートを用いた電気炉の断面図、第３図
は従来の電気炉の断面図である。 図において、（１）は石英管、（２）はヒーターコイル
、（３）はボート、（５）はエン］・キャップ、（６）
は熱電対、（７）は温度コントローラーユニットを示す
。 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　石英管とそれを取り巻く電熱ヒーターと、ウェハを積
   載するためのボートと、それを支持するエンドキャップ
   と、熱電対と、温度を制御するユニットとを備えた半導
   体製造装置において、前記熱電対を前記ボートに組み込
   んだことを特徴とする半導体製造装置の電気炉。