JPH0420434B2 - - Google Patents

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JPH0420434B2
JPH0420434B2 JP26264285A JP26264285A JPH0420434B2 JP H0420434 B2 JPH0420434 B2 JP H0420434B2 JP 26264285 A JP26264285 A JP 26264285A JP 26264285 A JP26264285 A JP 26264285A JP H0420434 B2 JPH0420434 B2 JP H0420434B2
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methyl
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hydrogen
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Masahiro Aya
Junichi Saito
Kazutomi Yasui
Kozo Shiokawa
Norihisa Morishima
Toshio Goshima
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NIPPON BAIERU AGUROKEMU KK
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NIPPON BAIERU AGUROKEMU KK
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【発明の詳細な説明】
本発明は新規な置換フエニルスルホニルウレア
誘導体及び該誘導体を有効成分として含有する除
草剤に関する。 更に詳しくは、本発明の新規な置換フエニルス
ルホニルウレア誘導体は、 式: で表わされる。 更に、本発明は上記式()で表わされるN−
2−ビフエニリルスルホニル、N′−(4−メトキ
シ−6−メチル−1,3,5−トリアジン−2−
イル)ウレアを有効成分として含有することを特
徴とする除草剤に関する。 本願出願日前公知の米国特許第4127405号、同
第4169719号および日本特許出願公開昭和52年第
122384号には 式 Rは
【式】または
【式】であ り; R1
【式】
【式】
【式】 または
【式】であり; R3およびR6は独立的に水素、フツ素、臭素、
沃素、1〜4炭素原子のアルキル、1〜4炭素原
子のアルコキシ、ニトロ、トリフルオロメチル、
シアノ、CH3S(O)o−またはCH3CH2S(O)o−で
あり; R4は水素、フツ素、塩素、臭素またはメチル
であり; R5は水素、フツ素、塩素、臭素、メチルまた
はメトキシであり; R7は水素、フツ素、臭素、1〜2炭素原子の
アルキルまたは1〜2炭素原子のアルコキシであ
り; R8は水素、メチル、塩素または臭素であり; R9およびR10独立的に水素、メチル、塩素また
は臭素であり; WおよびQは独立的に酸素または硫黄であり; nは0、1または2であり; Xは水素、塩素、臭素、メチル、エチル、1〜
3炭素原子アルコキシ、トリフルオロメチル、
CH3S−またはCH3OCH2−であり;且つ Zはメチルまたはメトキシであり; 但しここに: a) R5が水素以外のものであるときは、R3
R4,R6およびR7の中で少なくとも1は水素以
外のものであり且つR3,R4,R6およびR7の中
の少なくとも2が水素でなければならない; b) R5が水素であり且つR3,R4,R6およびR7
のすべてが水素以外のものであるときは、R3
R4,R6およびR7のすべてが塩素またはメチル
のどちらかでなければならない;且つ c) R3およびR7が共に水素であるときは、R4
R5またはR6の中で少なくとも1は水素でなけ
ればならない;) を有する化合物または農薬として適するその塩が
除草活性を有する旨、記載されている。 本発明者等は、置換フエニルスルホニルウレア
誘導体について、より優れた除草活性を有する新
規な該誘導体を求めるべく、試験研究を重ねた結
果、此度前記式()で表わされる新規な置換フ
エニルスルホニルウレア誘導体が、上記一般式(A)
の化合物には全く見られない優れた選択的除草活
性を有することを見いだした。 すなわち、本発明の置換フエニリルスルホニル
ウレア誘導体は、上記一般式(A)の化合物が従来除
草剤に比し、かなり低薬量で除草効果を表わす一
方で、稲に対しても、相当な薬害を呈するのに対
し、全く稲に対し、薬害を及ぼさず、且つ低薬量
で、的確な優れた選択的除草効果を表わす。 本発明の化合物は、特に水田雑草の発芽前土壌
処理剤、茎葉兼土壌処理剤として使用した場合、
卓越した選択的防除効力を示す。 本発明の化合物は安全性に優れ、かつ、卓越し
た除草活性を発現し、巾広い除草スペクトルを有
している。 例えば、水田雑草としては、
【表】 等に除草活性が認められ、水稲に対して全く害作
用が認められない特徴を有する。 本発明の前記一般式()で表わされる置換フ
エニルスルホニルウレア誘導体は、下記の一般的
な方法により合成される。 上記反応式で示される式()の化合物の製造
方法において、原料である式()の化合物は、
2−ビフエニリルスルホニルイソシアネートを示
す。 また、同様に原料である式()の化合物は、
2−アミノ−4−メトキシ−6−メチル−1,
3,5−トリアジンを示す。 上記の製造方法は、望ましくは溶剤または希釈
剤を用いて実施される。このためにはすべての不
活性溶剤、希釈剤は使用することができる。 かかる溶剤ないし希釈剤としては、脂肪族、環
脂肪族および芳香族炭化水素類(場合によつては
塩素化されてもよい)例えば、ヘキサン、シクロ
ヘキサン、石油エーテル、リグロイン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、メチレンクロライド、
クロロホルム、四塩化炭素、エチレンクロライド
およびトリ−クロルエチレン、クロルベンゼン;
その他エーテル類例えば、ジエチルエーテル、メ
チルエチルエーテル、ジ−iso−プロピルエーテ
ル、ジブチルエーテル、プロピレンオキサイド、
ジオキサン、テトラヒドロフラン;ケトン類例え
ばアセトン、メチルエチルケトン、メチル−iso
−プロピルケトン、メチル−iso−ブチルケト
ン;ニトリル類例えば、アセトニトリル、プロピ
オニトリル、アクリロニトリル;エステル類例え
ば、酢酸エチル、酢酸アミル;酸アミド類例え
ば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド;スルホン、スルホキシド類例えば、ジメチル
スルホキシド、スルホラン;および塩基例えば、
ピリジン等をあげることができる。 また、上記の方法は触媒下で効率良く行うこと
ができ、斯る触媒としては例えば、1,4−ジア
ザビシクロ〔2,2,2〕オクタン等を挙げるこ
とができる。 上記の法は、広い温度範囲内において実施する
ことができる。一般には−20℃と混合物の沸点と
の間で実施され、望ましくは0〜100℃の間で実
施される。また、反応は常圧の下でおこなうのが
望ましいが、加圧または減圧下で操作することも
可能である。 本発明の除草剤を使用する場合、前記式()
の化合物を、そのまま直接水で希釈して使用する
か、または農薬補助剤を用いて農薬製造分野に於
いて一般に行われている方法により、種々の製剤
形態にして使用することができる。これらの種々
の製剤は、実際の使用に際しては、直接そのまま
使用するか、または水で所望濃度に希釈して使用
することができる。ここに言う、農薬補助剤は例
えば、希釈剤(溶剤、増量剤、担体)、界面活性
剤(可溶化剤、乳化剤、分散剤、湿展剤)、安定
剤、固着剤、エーロゾル用噴射剤、共力剤を挙げ
ることができる。 溶剤としては、水:有機溶剤;炭化水素類〔例
えば、n−ヘキサン、石油エーテル、ナフサ、石
油留分(パラフイン蝋、灯油、軽油、中油、重
油)、ベンゼン、トルエン、キシレン類)、ハロゲ
ン化炭化水素類〔例えば、クロルメチレン、四塩
化炭素、トリクロルエチレン、エチレンクロライ
ド、二臭化エチレン、クロルベンゼン、クロロホ
ルム〕、アルコール類〔例えば、メチルアルコー
ル、エチルアルコール、プロピルアルコール、エ
エレングリコール〕、エーテル類〔例えば、エチ
ルエーテル、エチレンオキシド、ジオキサン〕、
アルコールエーテル類〔例えば、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル〕、ケトン類〔例えば、
アセトン、イソホロン〕、エステル類〔例えば、
酢酸エチル、酢酸アミル〕、アミド類〔〔例えば、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド〕、
スルホキシド類〔例えば、ジメチルスルホキシ
ド〕を挙げることができる。 増量剤または担体としては無機質粉粒体;硫
黄、消石灰、マグネシウム石灰、石膏、炭酸カル
シウム、硅石、パーライト、軽石、方解石、珪藻
土、無晶形酸化ケイ素、アルミナ、ゼオライト、
粘土鉱物例えば、パイロフイライト、滑石、モン
モリロナイト、バイデライト、バーミキユライ
ト、カオリナイト、雲母):植物性粉粒体;穀粉、
澱粉、加工デンプン、砂糖、ブドウ糖、植物茎幹
破砕物:合成樹脂粉粒体;フエノール樹脂、尿素
樹脂、塩化ビニル樹脂を挙げることができる。 界面活性剤としては、アニオン(陰イオン)界
面活性剤;アルキル硫酸エステル類〔例えば、ラ
ウリル硫酸ナトリウム〕、アリールスルホン酸類
〔例えば、アルキルアリールスルホン酸塩、アル
キルナフタレスルホン酸ナトリウム〕、コハク酸
塩類、ポリエチレングリコールアルキルアリール
エーテル硫酸エステル塩類:カチオン(陽イオ
ン)界面活性剤;アルキルアミン類〔例えば、ラ
ウリルアミン、ステアリルトリメチルアンモニウ
ムクロライド、アルキルジメチルベンジルアンモ
ニウムクロライド〕、ポリオキシエチレンアルキ
ルアミン類:非イオン界面活性剤;ポリオキシエ
チレングリコールエーテル類〔例えば、ポリオキ
シエチレンアルキルアリールエーテル、およびそ
の縮合剤〕、ポリオキシエチレングリコールエス
テル類〔例えば、ポリオキシエチレン脂肪酸エス
テル〕、多価アルコールエステル類〔例えば、ポ
リオキシエチレンソルビタンモノラウレート〕:
両性界面活性剤等を挙げることができる。 その他、安定剤、固着剤〔例えば、農業用石
鹸、カゼイン石灰、アルギン酸ソーダ、ポリビニ
ルアルコール(PVA)、酢酸ビニル系接着剤、ア
クリル系接着剤〕、効力延長剤、分散安定剤〔例
えば、カゼイン、トラガカント、カルボキシメチ
ルセルロース(CMC)、ポリビニルアルコール
(PVA)〕、共力剤等を挙げることができる。 本発明の化合物は、一般に農薬製分野で行われ
ている方法により種々の製剤形態に製造すること
ができる。製剤の形態としては、乳剤:油剤:水
和剤:水溶剤:懸濁剤:粉剤:粒剤:粉粒剤:カ
プセル剤等を挙げることができる。 本発明の除草剤は、前記活性成分を0.001〜100
重量%、好ましくは0.005〜95重量%を含有する
ことができる。 実際の使用に際しては、前記した種々の製剤お
よび散布用調製物(ready−to−use−
preparation)中の活性化合物含量は、一般に
0.01〜95重量%、好ましくは0.05〜60重量%の範
囲が適当である。これらの活性成分の含有量は、
製剤の形態および施用する方法、目的、時期、場
所および雑草の発生状況等によつて適当に変更で
きる。 本発明の化合物は、更に必要ならば、他の農
薬、例えば、殺虫剤、殺菌剤、殺ダニ剤、殺線虫
剤、抗ウイルス剤、除草剤、植物成長調製剤、誘
引剤〔例えば、有機燐酸エステル系化合物、カー
バメート系化合物、ジチオ(またはチオール)カ
ーバメート系化合物、有機塩素系化合物、ジニト
ロ系化合物、有機硫黄または金属系化合物、抗生
物質、置換ジフエニルエーテル系化合物、尿素系
化合物、トリアジン系化合物〕および/または肥
料等を共存させることもできる。 本発明の前記活性成分を含有する種々の製剤ま
たは散布用調製物(ready−to−use−
preparation)は農薬製造分野にて通常一般に行
われている施用方法、散布〔例えば、液剤散布
(噴霧)、ミステイング(misting)、アトマイズイ
ング(atomizing)、散粉、散粒、水面施用、ポ
アリング(pouring)〕:土壌施用〔例えば、土壌
混入、スプリンクリング(sprinkling)〕等によ
り行うことができる。またいわゆる超高濃度少量
散布法(ultralow−volume)により使用するこ
ともできる。この方法においては、活性成分を
100%含有することが可能である。 単位面積当りの施用量は、1ヘクタール当り活
性化合物として約0.1〜3Kg、好ましくは0.2〜1
Kgが使用される。しかしながら特別の場合には、
これらの範囲を超えることが、または下まわるこ
とが可能であり、また時には必要でさえある。 本発明は活性成分として前記一般式()の化
合物を含み、且つ希釈剤(溶剤および/または増
量剤および/または担体)および/または界面活
性剤、更に必要ならば、例えば安定剤、固着剤、
共力剤を含む除草組成物がが提供される。 更に、本発明は雑草および/またはそれらの生
育個所に前記一般式()の化合物を単独に、ま
たは希釈剤(溶剤および/または増量剤および/
または担体)および/または界面活性剤、更に必
要ならば、安定剤、固着剤、共力剤とを混合して
施用する雑草防除方法が提供される。 次に実施例により本発明の内容を具体的に説明
するが、本発明はこれのみに限定されるべきもの
ではない。 実施例 1 (水和剤) 前記式()の化合物、15部、粉未珪藻土と粉
末クレーとの混合物(1:5)、80部、アルキル
ベンゼンスルホン酸ナトリウム、2部、アルキル
ナフタレンスルホン酸ナトリウムホルマリン縮合
物、3部を粉砕混合し、水和剤とする。これを水
で希釈して、雑草および/またはそれらの生育個
所に滴下処理する。 実施例 2 (乳剤) 前記式()の化合物、30部、キシレン、55
部、ポリオキシエチレンアルキルフエニルエーテ
ル、8部、アルキルベンゼンスルホン酸カルシウ
ム、7部を混合撹拌して乳剤とする。これを水で
希釈して、雑草および/またはそれらの生育個所
に滴下処理する。 実施例 3 (粉剤) 前記式()の化合物、2部、粉末クレー、98
部を粉砕混合して粉剤とする。これを雑草およ
び/またはそれらの生育個所に散粉する。 実施例 4 (粉剤) 前記式()の化合物、1.5部、イソプロピル
ハイドロゲンホスフエート(PAP)、0.5部、粉末
クレー、98部を粉砕混合して粉剤とし、雑草およ
び/またはそれらの生育個所に散粉する。 実施例 5 (粒剤) 前記式()の化合物、10部、ベントナイト
(モンモリロナイト)、30部、タルク(滑石)、58
部、リグニンスルホン酸塩、2部の混合物に、
水、25部を加え、良く捏化し、押し出し式造粒機
により、10〜40メツシユの粒状として、40〜50℃
で乾燥して粒剤とする。これを雑草および/また
はそれらの生育個所に散粒する。 実施例 6 (粒剤) 0.2〜2mmに粒径分布を有する粘土鉱物粒、95
部を回転混合機に入れ、回転下、有機溶剤に溶解
させた前記式()の化合物、5部を噴霧し均等
にしめらせた後40〜50℃で乾燥して粒剤とする。
これを雑草および/またはそれらの生育個所に散
粒する。 文献によりすでに公知の類似な構造の活性化合
物及び同様な活性型の化合物と比較した際、本発
明による新規化合物は、効果が実質的に改善され
たこと、並びに温血動物に対して毒性が非常に低
いことに特徴があり、従つて該化合物は非常に利
用価値が高い。 本発明の活性化合物の予想以上にすぐれた点及
び著しい効果を、種々の雑草に対して使用した以
下の試験結果から認めることができる。 試験例 1 水田雑草に対する湛水下茎葉兼土壌処理試験
(ポツト試験) 活性化合物の調製 担 体:アセトン5重量部 乳化剤:ベンジルオキシポリグリコールエーテ
ル1重量部 活性化合物の調合剤は、1重量部の活性化合物
と上述した分量の担体および乳化剤とを混合し、
乳剤として得られる。その調合剤の所定薬量を、
水で希釈して調製する。 試験方法 1/5000アールのワグネルポツトに水田土壌を
充填し、2〜3葉期(草丈約10cm)の水稲苗(品
種:金南風)を1ポツト当り2本移植した。更
に、ノビエ、カヤツリグサ、コナギ、ホタルイ、
広葉雑草の種子及びマツバイの小片及びミズガヤ
ツリ、ウリカワの塊茎を接種し、湿潤状態に保つ
た。ノビエが2葉期後に生育した後(接種後約7
〜9日)約6cmに湛水し、本発明化合物を乳剤の
形態にして所定量をピペツトにて処理した。処理
後1日2〜3cmの割合で2日間漏水処理し、その
後は約3cmの湛水状態を保ち、薬剤処理4週間目
に除草効果、薬害の程度を次の基準により0〜5
の段階に類別評価した。 効果の評価は無処理区に比較した場合、 5:無処理区に対する殺草率 95%以上(枯
死) 4:無処理区に対する殺草率 80%以上95%未
満 3:無処理区に対する殺草率 50%以上80%未
満 2:無処理区に対する殺草率 30%以上50%未
満 1:無処理区に対する殺草率 10%以上30%未
満 0:無処理区に対する殺草率 10%未満(効果
なし) 水稲に対する薬害の評価は無処理区に比較した
場合、 5:無処理区に対する薬害率 90%以上(致命
的損傷) 4:無処理区に対する薬害率 50%以上90%未
満 3:無処理区に対する薬害率 30%以上50%未
満 2:無処理区に対する薬害率 10%以上30%未
満 1:無処理区に対する薬害率 0越10%未満 0:無処理区に対する薬害率 0%(薬害あ
し) とした。 試験結果は第1表に示す。
【表】 N−2−クロルフエニルスルホニル、N′−(4
−メトキシ−6−メチル−1,3,5−トリアジ
ン−2−イル)ウレア。 (特開昭52−122384号記載化合物) 次に本発明における活性物質である前記式
()の合成例を下記に示す。 合成例 2−アミノ−4−メトキシ−6−メチル−1,
3,5−トリアジン14.0gを乾燥アセトニトリル
100mlに懸濁させ、更に1,4−ジアザビシクロ
〔2,2,2〕オクタン0.1gを加える。この混合
物に、2−ビフエニリルスルホニルイソシアネー
ト28.5gのキシレン30ml溶液を1時間で滴下する。
滴下中、弱い発熱を伴つて反応するので、必要な
らば冷却する。滴下終了後、室温で5時間更に、
40℃で5時間反応させる。内容物を室温に冷却
後、沈澱している無色の結晶を過し、エーテル
で洗浄後、乾燥すれば目的物であるN−2−ビフ
エニリルスルホニル、N′−(4−メトキシ−6−
メチル−1,3,5−トリアジン−2−イル)ウ
レア33.9gが得られる。mp190〜193℃

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 式: で表わせるN−2−ビフエニリルスルホニル、
    N′−(4−メトキシ−6−メチル−1,3,5−
    トリアジン−2−イル)ウレア。 2 式: で表わされる置換フエニルスルホニルウレア誘導
    体を有効成分として含有することを特徴とする除
    草剤。 3 該除草剤が水田雑草の選択的防除剤である特
    許請求の範囲第2項記載の除草剤。
JP26264285A 1985-11-25 1985-11-25 置換フェニルスルホニルウレア誘導体及び除草剤 Granted JPS61171474A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9462251B2 (en) 2014-01-02 2016-10-04 Industrial Technology Research Institute Depth map aligning method and system

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US9462251B2 (en) 2014-01-02 2016-10-04 Industrial Technology Research Institute Depth map aligning method and system

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