JPH04202652A - 連続浸炭・浸窒炉及び浸炭・浸窒方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、鋼帯を連続的に浸炭及び／又は浸窒する連続
浸炭・浸窒炉及び浸炭・浸窒方法に関する。

〔従来の技術〕

従来から、プレス加工用鋼板は、Ｃ２０，０１％の低Ｃ
−リムド鋼や低Ｃ−Ａβキルト鋼を箱焼鈍することによ
り製造されていたか、最近の省エネルギーならびに製造
納期の短縮要求にかんがみ、連続焼鈍への変換が積極的
に進められている。

この連続焼鈍法では、加熱及び均熱時間か短いので、絞
り性を確保するために種々対策か講しられている。即ち
、絞り性を箱焼鈍材並みにするために、低炭素鋼の熱延
巻取り温度及び焼鈍温度を箱焼鈍法より高温にする等の
対策か採られている。

さらに、連続焼鈍法は、箱焼鈍法に比へ冷却時間も極端
に短いため、過時効処理を施すことにより焼鈍中に固溶
した炭素を析出させているか、固溶炭素が依然として残
留するために、加工性はともかく常温遅時効性を得るこ
とは困難であった。

そこで、箱焼鈍された低Ｃ−Ａβギルド鋼と同等の耐時
効性と、それ以上の高加工性を得る手段として、極低炭
素鋼（Ｃ５０，０１％、ＡＡ≦０．２０％を含有）を用
い、必要に応じてＴｉ、Ｎｂ、Ｂ等の炭化物形成元素を
添加することか行われ、現状では広くプレス加工用鋼板
として採用されている。

しかしこのような極低炭素鋼は、純鉄に近い組成であり
、表面の清浄度か高いので、プレス成形後、塗装下地処
理として施されるリン酸亜鉛処理において、反応性か従
来の低Ｃ−ＩＪムド鋼、低Ｃ−ＡＡキルト鋼と比較して
幾分劣り、生成したリン酸亜鉛鉄結晶の細かさ、化成処
理条件の変動時安定性か不利であった。

そして、溶接性に対しては、極低炭素鋼の場合熱影響部
（ＨＡＺ）の組織か粗大化し、溶着部や母材よりも強度
か低下し易いため、溶接部の強度及び疲労特性の点て低
Ｃ−ＡＡキルト鋼より不利てあった。

さらに、極低炭素鋼は延性に富み、非常に粘り強いため
、低Ｃ−ＡＡギルド鋼と同一の条件で打ち抜きや剪断を
行うと、その端面にノくりか発生し、このパリか後のプ
レス工程で脱落すると星目欠陥を誘発する等の問題かあ
り、極低炭素鋼の打ち抜き住改善か強く望まれていた。

また、加工性の向上のためには、必然的に不純物元素の
低減を伴うため、焼鈍中の鋼中元素の表面濃化量か制御
され、鋼板の表面硬化の低下を引き起こす。そのため、
プレス成形を施した場合に、潤滑か十分てないと鋼板表
面とプレス型とが接触時に噛りあい、鋼板の表面キズ欠
陥か誘発されるはかりでなく、極端な場合にはプレス割
れさえ伴うという問題もあった。　　　　　゛ そこで、前記問題に対する有効な解決策として、銅帯の
表層部のみに浸炭・浸窒を行って表層の物性を変える技
術か特公平１−４２３３１号、特開昭６３−３８５５６
号及び特開平２−１３３５６１号等で提案されているか
、連続して銅帯を浸炭・浸窒するものではなかった。

そして、連続的に鋼帯の連続浸炭・浸窒処理装置として
は、特開昭４７−２９２３０号により開示されているよ
うに、個別部品を対象としたものは存在するか、低炭素
鋼、極低炭素鋼の鋼帯を連続的に効率良く高精度で浸炭
・浸窒処理する装置及び方法については、未だ提案され
ていない。

また、特開昭５０−７０２７５号及び特公昭５６−２６
７０８号に開示されているように、水平パス方式による
高炭素鋼薄帯の連続浸炭装置か存在するか、この装置は
、低炭素鋼及び極低炭素鋼の鋼帯表層部の浸炭・浸窒処
理には適していない。

〔発明が解決しようとする課題〕

鋼板表面に連続して浸炭することにより、鋼板表面層の
みに固溶Ｃを所望量、且つ、所望深さて存在させるため
には、鋼板を短時間（数十秒置内）て浸炭する必要かあ
る。

実際に冷延鋼板の製造現場で浸炭・浸窒を行うには、連
続焼鈍ラインの加熱帯から冷却帯の間で適当な温度域に
浸炭・浸窒炉を挿入して処理するのか最も効率的である
。この場合、通板速度は鋼板本体の熱処理条件で決定さ
れるので、浸炭・浸窒炉の条件をこれに適合させる必要
かある。さらに、鋼板の材質規格と寸法等の条件変更に
より通板速度の変更か常に起こるのでこれＩこも対応す
る必要かある。また、浸炭・浸窒処理自体も異なる製造
仕様に対応する必要かある。

短時間の浸炭においては、炭素の固溶は表面反応律速で
あるため、連続焼鈍に際しての鋼板の通板速度の変化に
伴う浸炭処理時間の変化か浸炭濃度や浸炭深さに大きな
影響を与えることになる。

そこで、この発明は、前記課題を解決するためになされ
たものであり、銅帯を連続的に浸炭及び／又は浸窒処理
する際に、鋼帯の通板速度か変更しても浸炭・浸窒性雰
囲気を迅速、且つ、高精度で変更可能な連続浸炭・浸窒
炉及び浸炭・浸窒方法を提供することを目的とするもの
である。

〔課題を解決するための手段〕

この目的を達成するために本発明は、浸炭及び／又は浸
窒雰囲気を維持する炉と、当該炉内を浸炭・浸窒温度に
加熱保持する手段と、を備え、連続的に送給される銅帯
を浸炭及び／又は浸窒する連続浸炭・浸窒炉において、
前記炉内を複数のゾーンに分割し、当該ゾーン毎に浸炭
・浸窒性雰囲気及び／又は浸炭・浸窒温度を制御する制
御手段か設けられてなる連続浸炭・浸窒炉であることを
特徴とするものである。

そして、炉内に連続的に送給される銅帯を連続的に浸炭
及び／又は浸窒する連続浸炭・浸窒方・法において、前
記炉内を複数のゾーンに分割し、各ゾーン毎に浸炭・浸
窒性雰囲気及び／又は浸炭・浸窒温度を制御する連続浸
炭・浸窒方法であることを特徴とするものである。

さらに、前記複数のゾーンの少なくとも１つを、浸炭・
浸窒性ガスを導入しないように制御し、有効浸炭・浸窒
炉長を変更する連続浸炭・浸窒方法であることを特徴と
するものである。

〔作用〕

この発明によれば、連続浸炭・浸窒炉内を複数のゾーン
に分割し、各ゾーン毎に浸炭・浸窒性雰囲気及び／又は
浸炭・浸窒温度を制御することで、浸炭・浸窒性雰囲気
及び／又は浸炭・浸窒温度の変更を迅速、且つ、高精度
に行える。

そして、浸炭・浸窒性ガスを流通しないゾーンを形成す
ることにより、浸炭・浸窒炉の有効炉長を変更（短く）
することかできる。

従って、いずれの場合も、銅帯の通板速度か減少ないし
は増加した場合でも、過浸炭・浸窒又はその逆の浸炭・
浸窒不足を防ぐことかできる。

〔実施例〕

次に、本発明の一実施例を添付の図面に基ついて説明す
る。

第１図は、鋼帯を連続的に浸炭する連続浸炭炉の構成を
示すもので、第１図（２）は第１図（１）のＡ−Ａ断面
図である。

第１図に示すように、本発明に係る連続浸炭炉４は、熱
を遮断する仕切壁Ｉ８により４つのゾーン（第１ゾーン
１）ないし第４ゾーン１４）に分割されており、各ゾー
ン毎の鋼帯１７の出入口には、隣接するゾーンとの浸炭
性雰囲気ガスの流通及び各ゾーン内温度が隣接するゾー
ン内の温度に影響を及はさないように、シール部材４０
かそれぞれ設けられ、ゾーン毎に隔離された状態となっ
ている。また、各ゾーンには、それぞれ雰囲気ガス人口
Ｉ９及び雰囲気ガス出口２０か設けられている。さらに
、各ゾーンには、ゾーン内を所望の温度にするため、図
示されていないヒータか備付けられており、このヒータ
は、供給される電流を調整することによりゾーン内の温
度を制御可能である。そして、各ゾーンの雰囲気ガス人
口１９には、図示しないか、雰囲気ガス流量制御弁及び
雰囲気ガス流量計を備えた雰囲気ガス供給管か連設され
、さらにこの雰囲気ガス供給管は分岐して、雰囲気ガス
の各々の成分ガス源（ＣＯ，Ｃｏ□。

Ｎ２．Ｎ２）に連設される。そして、この各成分ガス源
のガス出口には、成分ガス流量制御弁および成分ガス流
量計か備付けられている。尚、１６は、鋼帯１７を誘導
するハースロールを示す。

本実施例における連続浸炭炉４内の各ゾーン毎の浸炭性
雰囲気の制御は、前記ヒータの温度制御。

雰囲気ガスの流量制御、雰囲気ガスの組成（Ｃポテンシ
ャル）の制御の少なくとも１つにより行われる。

この浸炭性雰囲気制御は、各ゾーン毎に実行するため、
浸炭帯金体の雰囲気を制御する場合に比較して、浸炭性
雰囲気制御を迅速、確実に実行することを可能とする。

この制御に際しては、銅帯の通板速度を常時モニタし、
マイクロコンピュータに予め設定された記憶テーブルに
基ついて各ゾーン内の温度、雰囲気ガス流量、雰囲気ガ
ス組成をフィードバック制御すること等により、前記制
御を自動化することも可能である。

次に゛、前記連続浸炭炉を連続焼鈍炉に組み込み、銅帯
を連続焼鈍しなから連続的に浸炭を行う方法について図
面に基ついて説明する。

第２図は、銅帯を連続的に焼鈍する竪型連続焼鈍炉の加
熱帯と冷却帯との間に前記第１図の連続浸炭炉を設けた
連続焼鈍炉の構成を示すもので、この連続焼鈍炉は順に
、コイル巻き戻し機、溶接機、洗浄機等を有する図示し
ない入側設備、予熱帯１、加熱帯２、均熱帯３、連続浸
炭炉４、第１冷却帯５、第２冷却帯６、せん断機１巻取
り機等の図示しない出側設備からなる。

極低炭素の鋼帯１７は、入側設備から連続的に送給され
た後、予熱帯ｌ、加熱帯２、均熱帯３を通過し、連続浸
炭炉４に到る。この連続浸炭炉４に供給された鋼帯１７
は、ハースロール１６により、第１ゾーン１）ないし第
４ゾーン１４を通過した後、第１・２冷却帯５，６を順
に通過して最終的には常温まで冷却される。

入側設備から連続的に送給された鋼帯１７は、予熱帯１
で予熱され、次いて、加熱帯２に到る。

この加熱帯２て当該鋼帯１７は、再結晶温度以上（具体
的には炉内温度か９００〜９５０°Ｃで、鋼帯１７の温
度か７００〜８００°Ｃ）になるように加熱される。そ
して、加熱された前記鋼帯１７は、均熱帯３に送給され
、次いて浸炭炉４に到る。

この連続浸炭炉４は、設置面積の低減の要求から竪型に
て形成される。そして、連続浸炭炉４は、銅帯表面の極
薄い部分（０，５μｍ〜１００μｍ以下）にＣ２０，０
１％の浸炭層を形成するために、６５０〜９００’Ｃの
炉内温度に制御される。前記鋼帯温度か６５０　’Ｃ未
満であると、浸炭速度か低下して熱処理生産性か低下す
る。一方、炉内温度が９００°Ｃを越えると、固溶Ｃか
拡散し表面層にのみ固溶Ｃを固定することかてきない。

この連続浸炭炉内温度分布は、銅帯表面へのスーティン
グを防止するため、浸炭炉内温度差は５０°Ｃ以内であ
ることか望ましい。銅帯の表面に遊離Ｃか付着すると化
成処理性の劣化等、品質低下及び後工程の弊害要因とな
る。

連続浸炭炉４内に供給される浸炭性ガスの組成とじては
、例えば、Ｃ０＝５〜１０ｖＯ１％、Ｈ２＝２〜４ｖＯ
１％、Ｃｏ／Ｃｏ２＝１５〜２０、残部Ｎ２か挙げられ
る。

この連続浸炭炉４ては、前記鋼帯１７の通板速度に応し
て浸炭性雰囲気及び／又は浸炭温度か制御される。

例えば、鋼帯の通板速度か通常の通板速度より減少した
場合は、当該鋼帯か浸炭炉内に滞在する時間か長くなり
、その時の浸炭条件を維持すると過浸炭となり、プレス
成形性か劣る等、銅帯の品質か低下する。そこで、この
過浸炭を避ける方法として、以下の制御を行うことか有
効である。

即ち、雰囲気ガス流量制郭弁を全閉し、雰囲気ガスを供
給しないゾーンを作り、実質炉長を短くすることで、銅
帯か炉内に滞在する時間を短くし、過浸炭を避ける。又
は、雰囲気ガス流量制御弁を閉方向に絞り１つ又は２つ
以上のゾーン内に供給する雰囲気ガス流量を減少するこ
とて過浸炭を避ける。又は、各成分ガスの流量制御弁を
閉方向に絞り雰囲気ガス組成を変更し、１つ又は２つ以
上のゾーンに供給される該雰囲気ガスのＣポテンシャル
を下げることて過浸炭を避ける。又は、ヒータに供給す
る電流を調整し、１つ又は２つ以上のゾーン内温度を下
げることて過浸炭を避ける。これらのうち少なくとも１
つ、又は、２つ以上を組み合わせて実行することて、鋼
帯の通板速度か変化しても常に一定した濃度、深さの浸
炭層を形成することがてきる。尚、前記浸炭性雰囲気の
制御は、通板速度の変化に対応して行う他、銅帯の厚さ
２幅、素材等の他の連続焼鈍条件の変化にも対応して行
うことかできる。

次いて、連続浸炭炉４を出た鋼帯１７は、前記、第１冷
却帯５に到る。この第１冷却帯５では、鋼帯１７の表面
の極薄い範囲にのみ固溶Ｃを固定するため、浸炭後の鋼
帯１７の温度か６００°Ｃ以下、好ましくは、５００〜
４００°Ｃ程度になるまて、２０°Ｃ／ｓｅｃ、以上の
一冷却速度で急冷する。第１冷却帯５内では、この冷却
条件か達成できるように、冷却帯内を搬送される鋼帯１
７へ吹きつけられる冷却ガス流量、流速及び冷却ロール
温度１春付は角等が制御される。

この第１冷却帯５を出た鋼帯１７は、次いて第２冷却帯
６に到る。この第２冷却帯では、鋼帯１７温度か２５０
〜２００’Ｃ程度になるまでガス冷却が行われる。

このようにして最終的には、表面層にのみ固溶Ｃか存在
する極低炭素のプしス成形用鋼帯を得ることかできる。

このプレス成形用鋼帯は、特公平１−４２３３１号にも
記載されているように、プレス成形性及び化成処理性に
優れたものとなる。

そして、このようなプレス加工用鋼帯は、溶接性、打ち
抜き性、及び摺動性等各種の特性にも優れたものとなる
。

次に具体的な実施例について説明する。

銅帯中にＣを２０ｐｐｍ含有しているスラブを、転炉出
鋼後ＲＨＮガスび連続鋳造法により作成した。該スラブ
を１２００°Ｃに加熱後、仕上げ温度８９０℃で熱間圧
延し、５４０℃で巻取り熱延コイルとした。次いて、こ
の熱延コイルを巻き戻して酸洗後圧工率７５％で冷間圧
延を施し、厚さ０゜９鵬、板幅１２００叩の鋼帯コイル
とした。

このような鋼帯コイルを前記第２図の連続焼鈍・浸炭炉
にて第３図に示す温度履歴による連続焼鈍を行った。こ
の第３図は、第２図の焼鈍プロセスにおける鋼帯の温度
履歴を示したちのであり、第３図の（ａｌ、　（ｂ）、
　＋ＣＩ、　（ｄｌは、それぞれ第２図の（ａｌ。

（ｂＬ　（Ｃ１，（ｄ）の各点における鋼帯温度に対応
する。

第３図の（ａ）は浸炭炉内温度領域、（ｂｌは浸炭炉出
側温度領域、（Ｃ）は第１冷却帯内温度領域、（ｄ）は
第１冷却帯出側温度領域をそれぞれ示す。

この連続焼鈍において、前記鋼帯の通板速度を２００〜
４００ｍ／ｍｉｎの範囲で変化させるとその変化に伴い
連続浸炭炉４内の浸炭性雰囲気は、以下のように制御さ
れる。

銅帯の通板速度が４００ｍ／ｍｉｎの時は、第１ゾーン
１）ないし第４ゾーン１４の４ゾーン全てに浸炭性ガス
を流す。

銅帯の通板速度か４００ｍ／ｍ　ｉ　ｎから３００ｍ／
ｍｉｎに変化した時は、前記４ゾーンのうちの３ゾーン
に浸炭性ガスを流す。この時、浸炭性ガスを流さないゾ
ーンには、ＨＮガスを流す。

銅帯の通板速度が４００ｍ／ｍｉｎから２００ｍ／ｍｉ
ｎに変化した時は、前記４ゾーンのうちの２ゾーンに浸
炭性ガスを流す。この時、浸炭性ガスを流さないゾーン
には、ＨＮガスを流す。

このように、浸炭性ガスを流さないゾーンを設ける二と
て、有効炉長を短・くすることかてきるため、鋼帯の通
板速度が減少しても、当該鋼帯か浸炭可能ゾーン内に滞
在する時間を一定にすることかできる。この結果、常に
一定した浸炭濃度及び深さとなる浸炭を行うことかでき
る。

鋼帯の通板速度か４００ｍ／ｍｉｎから３５０ｍ／ｍｉ
ｎに変化した時は、全てのゾーンの浸炭性ガスのＣポテ
ンシャルを下げる、又は４つのゾーンのうち選択したゾ
ーンの浸炭性ガスのＣポテンシャルを下げる。

尚、前記連続浸炭炉４における浸炭性ガス組成は、Ｃ○
＝５．０ｖｏｉ％、Ｈ２＝３．０ｖｏｆ％。

Ｈ２０＝０．１　ｖ　ｏ　Ｉ！％、残部Ｎ２とし、ガス
流量を１０００Ｎｒｒ？／ｈ　ｒ、浸炭温度７８０°Ｃ
２浸炭炉内圧力２００韮Ａｇとした。

次いで、連続浸炭炉４を出た鋼帯は、第１冷却帯におけ
る冷却速度か２０’Ｃ／ｓｅｃ、、出側温度か５００°
Ｃになる迄冷却された。

その後、鋼帯は、第２冷却帯６に到り、２５０°Ｃにな
る迄ガス冷却された。

このように、通板速度を変化して、表層面にのみ固溶Ｃ
か存在する極低炭素のプレス成形用鋼帯を４種類作成し
た。

この４種類のプレス成形用鋼帯の表層部のＣａ度を各々
測定したところ、通板速度を前記実施例のように変更し
ても、表層部のＣ濃度のバラツキはＣの平均濃度か１０
０　ｐｐｍの時、９　ｐｐｍであった。

次に、比較例として、前記実施例と同じスラブを用い、
第２図に示す連続焼鈍炉と同様の装置で、連続浸炭炉４
か分割されていない連続焼鈍炉を使用して前記実施例と
同条件で、それぞれの通板速度を変化させた４種類のプ
レス成形用鋼帯を作成した。

この４種類のプレス成形用鋼帯の表層部のＣａ１度を各
々測定したところ、表層部のＣａ度のバラツキはＣの平
均濃度か１００　ｐｐｍの時、３７ｐｐｍであった。

このように、有効炉長の変更、或いは浸炭性雰囲気を制
御して浸炭を行った銅帯は、その表層部のＣ濃度のバラ
ツキか極めて少なく、安定した浸炭品を得ることかでき
た。

尚、前記実施例では、連続焼鈍しながら連続的に浸炭を
行う場合について説明したか、連続浸炭のみを行っても
同様の効果か得られることは、勿論である。

前記実施例では、４つのゾーンを有する連続浸炭炉につ
いて説明したか、これに限らずゾーンの数は任意に決定
して良い。

また、前記実施例では、通板速度か減少した時の浸炭性
雰囲気の制御について説明したか、通板速度か増加した
際にも、前記とは逆の制御を行うことにより同様の効果
か得られることは勿論である。

そして、前記実施例ては、浸炭の場合について説明した
か、連続浸炭炉に変えて浸窒を行う連続浸窒炉を設けて
も良い。また、雰囲気を変えることにより同一炉を浸炭
と浸窒に使い分けることもてきる。浸窒性雰囲気として
は、例えば、ＮＨ３を含有する（Ｎ２＋８２）ガスや、
その他の混合ガスを用いれば充分である。尚、本発明の
連続浸炭炉は、浸炭ばかりでなく浸炭窒化を行うもので
あっても良い。

また、前記実施例では、極低炭素鋼の銅帯の連続焼鈍に
ついて説明したか、これに限定されず低Ｃ−リムド鋼、
低Ｃ−Ａｊ７キルド鋼等の低炭素鋼等地の鋼種に対して
も適用できる。

そしてまた、前記実施例では厚さ０．９ｍｍ、幅１２０
０ａ＋ｍの鋼帯を使用したか、銅帯の使用目的に応じて
鋼帯厚及び銅帯幅共、任意に決定して良い。

また、前記実施例では均熱帯と第１冷却帯との間に連続
浸炭炉が設けられているか、均熱帯と連続浸炭炉とを同
一炉で形成すること、均熱帯を省略して加熱帯と第１冷
却帯との間に連続浸炭炉を設けること、均熱帯のあと連
続浸炭炉の前段に第１冷却帯を設け、この第１冷却帯に
より、均熱後の銅帯を浸炭に適当な温度まで調整して浸
炭後さらに第２冷却帯により冷却すること、連続浸炭炉
と第１冷却帯との間に浸炭深さを調整するための拡散帯
を設けること、等もそれぞれ可能である。

そしてまた、二つある冷却帯を一つの冷却帯にすること
もてきる。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明によれは、連続浸炭・浸窒
炉内を複数のゾーンに分割し、各ゾーン毎に浸炭・浸窒
性雰囲気及び／又は浸炭・浸窒温度を制御することて、
浸炭・浸窒炉をゾーン分割しない場合に比較して、浸炭
・浸窒性雰囲気及び／又は浸炭・浸窒温度の変更を迅速
、且つ、高精度に行える。従って、例えば、鋼帯の通板
速度が変更しても過浸炭・浸窒又はその逆の浸炭・浸窒
不足を生じることなく、鋼帯の材質仕様を満足させなが
ら表層浸炭・浸窒濃度及び深さか常に所望の値となる安
定した品質を有する銅帯を連続して効率良く提供するこ
とができる。

そして、浸炭・浸窒性ガスを流通しないゾーンを形成す
ることにより、浸炭・浸窒炉の有効炉長を変更（短く）
することて、鋼帯の通板速度か大幅に減少した場合でも
前記効果をより確実に達成することか可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明に係る連続浸炭炉の構成図、第２図は
、第１図の連続浸炭炉を利用した連続焼鈍プロセスの構
成図、第３図は、連続焼鈍される銅帯の温度履歴を示す
クラ７である。 図中、２は加熱帯、４は連続浸炭炉、５，６は冷却帯、
１）は第１ゾーン、１２は第２ゾーン、１３は第３ゾー
ン、１４は第４ゾーン、１７は鋼帯、１８は仕切壁、１
９は雰囲気ガス入口、２゜は雰囲気ガス出口を示す。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）浸炭及び／又は浸窒雰囲気を維持する炉と、当該
   炉内を浸炭・浸窒温度に加熱保持する手段と、を備え、
   連続的に送給される鋼帯を浸炭及び／又は浸窒する連続
   浸炭・浸窒炉において、前記炉内を複数のゾーンに分割
   し、当該ゾーン毎に浸炭・浸窒性雰囲気及び／又は浸炭
   ・浸窒温度を制御する制御手段か設けられてなることを
   特徴とする連続浸炭・浸窒炉。
2. （２）炉内に連続的に送給される鋼帯を連続的に浸炭及
   び／又は浸窒する連続浸炭・浸窒方法において、前記炉
   内を複数のゾーンに分割し、各ゾーン毎に浸炭・浸窒性
   雰囲気及び／又は浸炭・浸窒温度を制御することを特徴
   とする連続浸炭・浸窒方法。
3. （３）前記複数のゾーンの少なくとも１つを、浸炭・浸
   窒性ガスを導入しないように制御し、有効浸炭・浸窒炉
   長を変更することを特徴とする請求項（２）記載の連続
   浸炭・浸窒方法。