JPH04198316A - フェノール系樹脂の製造方法 - Google Patents
フェノール系樹脂の製造方法Info
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- JPH04198316A JPH04198316A JP32313690A JP32313690A JPH04198316A JP H04198316 A JPH04198316 A JP H04198316A JP 32313690 A JP32313690 A JP 32313690A JP 32313690 A JP32313690 A JP 32313690A JP H04198316 A JPH04198316 A JP H04198316A
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Landscapes
- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はフェノール系樹脂の製造方法に関するものであ
る。
る。
本発明のフェノール系樹脂は、電気的特性、耐熱性等に
優れ、成形材、摩擦材、封止材、塗料等の基材として有
用される。
優れ、成形材、摩擦材、封止材、塗料等の基材として有
用される。
[従来の技術]
フェノール化合物とアラルキル化合物の反応生成物であ
るフェノール系樹脂の製造方法は従来より多数の方法が
開示されている。
るフェノール系樹脂の製造方法は従来より多数の方法が
開示されている。
例えば、特公昭47−15111号公報及び、特公昭5
2−14280号公報では、フェノール、p−キソリレ
ングリコールジメチルエーテル(以下PXDMと略称す
る)および触媒をコンデンサー付き反応フラスコに一括
して仕込み、混合物をかきまぜながら130°C〜20
0°Cで一定時間反応させ、後処理を行いフェノール系
樹脂が得られている。
2−14280号公報では、フェノール、p−キソリレ
ングリコールジメチルエーテル(以下PXDMと略称す
る)および触媒をコンデンサー付き反応フラスコに一括
して仕込み、混合物をかきまぜながら130°C〜20
0°Cで一定時間反応させ、後処理を行いフェノール系
樹脂が得られている。
しかし、上記特公昭47−15111号公報、特公昭5
2−14280号公報等の製造方法では反応物の液面が
上笑する欠点がある。
2−14280号公報等の製造方法では反応物の液面が
上笑する欠点がある。
即ち反応の進行とともに反応物は高分子化、増粘し、反
応末期では副生ずるアルコールが反応系から抜は難くな
るため反応物中でガス化、泡となって反応物の液面を上
昇させる。特に高分子の樹脂を製造する場合は著しい発
泡のため、反応器の容量の割りには1ハ、チ当たりの生
産量が少なく設備の能力が出ないという問題があった。
応末期では副生ずるアルコールが反応系から抜は難くな
るため反応物中でガス化、泡となって反応物の液面を上
昇させる。特に高分子の樹脂を製造する場合は著しい発
泡のため、反応器の容量の割りには1ハ、チ当たりの生
産量が少なく設備の能力が出ないという問題があった。
[発明が解決しようとする課題]
本発明の目的はフェノール系樹脂を製造するに際し、消
泡剤を添加し、熟成時の発泡及び減圧下で行うフェノー
ル化合物の除去の際の液面上昇を抑え、高い生産性を有
した製造方法を提供することにある。
泡剤を添加し、熟成時の発泡及び減圧下で行うフェノー
ル化合物の除去の際の液面上昇を抑え、高い生産性を有
した製造方法を提供することにある。
C課題を解決するための手段〕
本発明者らは上記課題につき鋭意検討し本発明に到った
。
。
即ち、本発明はフェノール化合物とアラルキルエーテル
を反応させるに際し、消泡剤を添加することを特徴とす
るフェノール系樹脂の製造方法である。
を反応させるに際し、消泡剤を添加することを特徴とす
るフェノール系樹脂の製造方法である。
以下本発明を更に詳細に説明する。
本発明の方法の好ましい実施態様は、反応器にフェノー
ル化合物、低沸点溶剤及び触媒を仕込み、所望する反応
温度Gこ昇温し、アラルキルエーテルを連続的に装入後
、消泡剤の存在下で熟成反応を行うことである。
ル化合物、低沸点溶剤及び触媒を仕込み、所望する反応
温度Gこ昇温し、アラルキルエーテルを連続的に装入後
、消泡剤の存在下で熟成反応を行うことである。
消泡剤の添加効果は、フェノール化合物とアラルキルエ
ーテルの反応によって側止するアルコールを高粘度の反
応物中から容易ムこ抜き出し、発泡による反応物の液面
上昇を防止することである。
ーテルの反応によって側止するアルコールを高粘度の反
応物中から容易ムこ抜き出し、発泡による反応物の液面
上昇を防止することである。
本発明で使用するフェノール化合物は、芳香核に結合し
た1個ないし3個、好ましくは1個ないし2個の水酸基
を含有するが、芳香核の炭素原子に結合した置換基が全
体で3個以下の芳香族化合物またはそれらの混合物であ
る。例えば、フェノール、0−クレゾール、−クレゾー
ル、p−クレゾール、2.6−キシレノール、レゾルシ
ン、カテコール、p−エチルフェノール、p−tert
−ブチルフェノール、p−フェニルフェノール、p−ア
ミンフェノール、ピロガロール、α−ナフトール、β−
ナフトール等が挙げられる。特に好ましいフェノール化
合物はフェノール、0−クレゾール等である。
た1個ないし3個、好ましくは1個ないし2個の水酸基
を含有するが、芳香核の炭素原子に結合した置換基が全
体で3個以下の芳香族化合物またはそれらの混合物であ
る。例えば、フェノール、0−クレゾール、−クレゾー
ル、p−クレゾール、2.6−キシレノール、レゾルシ
ン、カテコール、p−エチルフェノール、p−tert
−ブチルフェノール、p−フェニルフェノール、p−ア
ミンフェノール、ピロガロール、α−ナフトール、β−
ナフトール等が挙げられる。特に好ましいフェノール化
合物はフェノール、0−クレゾール等である。
本発明で使用するアラルキルエーテルは、下記−数式(
1)で表される。
1)で表される。
(上式中、Rは炭素数が1〜6のアルキル基を示し、n
=1の場合はn=2であり、n・2の場合は蒙21の整
数である。) 例えば、α、α”−ジメトキシ−p−キシレン(PXD
M)、α、α゛−ジェトキシーp−キシレン、α。
=1の場合はn=2であり、n・2の場合は蒙21の整
数である。) 例えば、α、α”−ジメトキシ−p−キシレン(PXD
M)、α、α゛−ジェトキシーp−キシレン、α。
α゛−ジメトキシー〇−キシレンα、α′−ジメトキシ
ー鋼−キシーキシレンDM)、α、α、α゛−トリメト
キシーp−キシレン等である。特に好ましいアラルキル
エーテルはPXDMである。
ー鋼−キシーキシレンDM)、α、α、α゛−トリメト
キシーp−キシレン等である。特に好ましいアラルキル
エーテルはPXDMである。
本発明の方法においてフェノール化合物のアラルキルエ
ーテルに対する使用比率は広範囲に変化させることがで
きるが、好ましくは反応系の最終モル比が1.3以上で
ある。1.3未満ではゲル化する恐れがある。
ーテルに対する使用比率は広範囲に変化させることがで
きるが、好ましくは反応系の最終モル比が1.3以上で
ある。1.3未満ではゲル化する恐れがある。
本発明の方法を実施する際の特徴である消泡剤としては
、市販のシリコーン系の消泡剤を用いることができる。
、市販のシリコーン系の消泡剤を用いることができる。
例えば、東芝シリコーン■より商品名T S A−72
0、ピングケミ−・ジャパン■より商品名Byk@−A
520、日本ユニカー■より商品名L−45,5AG−
41等として市販されているものが挙げられる。
0、ピングケミ−・ジャパン■より商品名Byk@−A
520、日本ユニカー■より商品名L−45,5AG−
41等として市販されているものが挙げられる。
消泡剤としてのシリコーンの添加量は、反応物の粘度、
発泡状態により特に制限はないが、フェノール化合物と
アラルキルエーテルの反応から得られるフェノール系樹
脂100重量部に対し、lXl0−4〜5X]0−”重
量部が好ましく、5X10−’〜5XIO−3重量部が
特に好ましい。
発泡状態により特に制限はないが、フェノール化合物と
アラルキルエーテルの反応から得られるフェノール系樹
脂100重量部に対し、lXl0−4〜5X]0−”重
量部が好ましく、5X10−’〜5XIO−3重量部が
特に好ましい。
lXl0−’重量部未満では消泡剤としての効果が少な
く発泡を抑えることが困難であり、5X10−”重量部
を超えるとフェノール系樹脂が白濁、変質する。
く発泡を抑えることが困難であり、5X10−”重量部
を超えるとフェノール系樹脂が白濁、変質する。
また、消泡剤としてのシリコーンの添加は原料仕込み時
から発泡時までの間に行われるが、PXDMの装入終了
と同時に行うことが最も効果的である。即ち、微量のシ
リコーンで消泡効果を持続させるには、発泡が起こる少
し前に、しかも反応物の粘度が低(、反応物と良く混合
される時期が効果が大きく、原料仕込み時或いはPXD
Mの装入中では多く添加しないと効果が薄くなる。
から発泡時までの間に行われるが、PXDMの装入終了
と同時に行うことが最も効果的である。即ち、微量のシ
リコーンで消泡効果を持続させるには、発泡が起こる少
し前に、しかも反応物の粘度が低(、反応物と良く混合
される時期が効果が大きく、原料仕込み時或いはPXD
Mの装入中では多く添加しないと効果が薄くなる。
市販の消泡剤は種々の溶剤で希釈されているのが一般的
であり、いずれの濃度のものも使用出来るが所望の濃度
に調製して使用するのが好ましい。
であり、いずれの濃度のものも使用出来るが所望の濃度
に調製して使用するのが好ましい。
本発明の方法においては、反応初期の発熱を抑え、反応
温度を安定に保つために低沸点の溶剤が使用される。低
沸点溶剤としてはアラルキルエーテルを構成するアルコ
ール成分と同種のアルコール、例えば、メタノール、エ
タノール等が挙げられ、特に反応で副生ずるアルコール
と同一のアルコールが好ましい。
温度を安定に保つために低沸点の溶剤が使用される。低
沸点溶剤としてはアラルキルエーテルを構成するアルコ
ール成分と同種のアルコール、例えば、メタノール、エ
タノール等が挙げられ、特に反応で副生ずるアルコール
と同一のアルコールが好ましい。
また、沸点が50°C〜150°Cの溶剤も使用できる
。
。
例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等の
酢酸エステル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素が挙げられ、フェノールとの相溶性を有し
た溶剤、更には性成する樹脂との相溶性を有した溶剤が
好ましい。溶剤の沸点が50°C未満の場合は、フェノ
ール化合物に対する飽和量が少ないため、飽和温度(反
応開始温度)を厳密に管理しなければならない。更に、
安全面でも好ましくない。また、150°Cを超えると
、飽和量が多く使用量が増し、反応後の製品、フェノー
ル化合物、溶剤の分離が困難となる。更に反応温度が高
くなり、副生ずるアルコールと同伴するフェノール化合
物の濃度が高く、凝縮器の負担が大きくなる。
チルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等の
酢酸エステル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素が挙げられ、フェノールとの相溶性を有し
た溶剤、更には性成する樹脂との相溶性を有した溶剤が
好ましい。溶剤の沸点が50°C未満の場合は、フェノ
ール化合物に対する飽和量が少ないため、飽和温度(反
応開始温度)を厳密に管理しなければならない。更に、
安全面でも好ましくない。また、150°Cを超えると
、飽和量が多く使用量が増し、反応後の製品、フェノー
ル化合物、溶剤の分離が困難となる。更に反応温度が高
くなり、副生ずるアルコールと同伴するフェノール化合
物の濃度が高く、凝縮器の負担が大きくなる。
該アルコール及び/又は該溶剤の使用量は、選択するア
ルコール及び溶剤の沸点、フェノールに対する飽和量が
異なるため、特に制限はないがフェノール化合物に対し
て重量%で1〜10%が好ましい。使用量が1%未満で
は反応温度が著しく高くなり易く、副生ずるアルコール
の蕉気圧が高くなり危険である。また、10%以上の使
用は反応温度が低くなり易く円滑な反応が行い難くなる
。
ルコール及び溶剤の沸点、フェノールに対する飽和量が
異なるため、特に制限はないがフェノール化合物に対し
て重量%で1〜10%が好ましい。使用量が1%未満で
は反応温度が著しく高くなり易く、副生ずるアルコール
の蕉気圧が高くなり危険である。また、10%以上の使
用は反応温度が低くなり易く円滑な反応が行い難くなる
。
本発明の方法においては、上記成分のほかに、触媒とし
て、例えば塩化第二錫、塩化亜鉛、塩化第二鉄、塩化第
二銅、硫酸第二銅、硫酸第二水銀、硫酸第一水銀、塩化
第二水銀、塩化第一水銀、硫酸銀、塩化銀、硫酸水素ナ
トリウム、硫酸等の無機化合物、モノエチル硫酸、ジエ
チル硫酸、〕゛メメチル硫酸−トルエンスルホン酸、p
−フェノールスルホン酸、メタンスルホノ酸等の有機ス
ルホン酸類を用いることが好ましく、反応には少なくと
も一種類が使用される。特に好ましい触媒は、塩化第二
錫、シュチルg酸、p−フェノールスルホン酸である。
て、例えば塩化第二錫、塩化亜鉛、塩化第二鉄、塩化第
二銅、硫酸第二銅、硫酸第二水銀、硫酸第一水銀、塩化
第二水銀、塩化第一水銀、硫酸銀、塩化銀、硫酸水素ナ
トリウム、硫酸等の無機化合物、モノエチル硫酸、ジエ
チル硫酸、〕゛メメチル硫酸−トルエンスルホン酸、p
−フェノールスルホン酸、メタンスルホノ酸等の有機ス
ルホン酸類を用いることが好ましく、反応には少なくと
も一種類が使用される。特に好ましい触媒は、塩化第二
錫、シュチルg酸、p−フェノールスルホン酸である。
触媒の使用量に特に制限はなく、フェノール化合物とア
ラルキルエーテルの重量和の0.001〜5重量%の範
囲で使用されるが、安全且つ速やかに反応を完結させる
には0.01〜0.5%の範囲が好ましい。
ラルキルエーテルの重量和の0.001〜5重量%の範
囲で使用されるが、安全且つ速やかに反応を完結させる
には0.01〜0.5%の範囲が好ましい。
本発明の方法の好ましい実施態様は、予め最適の反応温
度としたフェノール化合物と触媒及び低沸点溶剤の混合
液中にアラルキルエーテルを連続的に装入、反応させる
ことである。また、多量のフェノール化合物と少量のア
ラルキルエーテルを伴って発生する副生アルコールを凝
縮器で凝縮し大部分のフェノール化合物とアラルキルエ
ーテルを反応系に還流させることである。
度としたフェノール化合物と触媒及び低沸点溶剤の混合
液中にアラルキルエーテルを連続的に装入、反応させる
ことである。また、多量のフェノール化合物と少量のア
ラルキルエーテルを伴って発生する副生アルコールを凝
縮器で凝縮し大部分のフェノール化合物とアラルキルエ
ーテルを反応系に還流させることである。
反応温度は通常120〜200°Cの範囲で行われるが
好ましくは130〜160°Cである。120°C以下
では極端に反応が遅くなり、200°C以上では反応中
に発生するアルコールの温度が高く、圧力も高くなり凝
縮器の負担が増すとともに安全な反応ができなくなる。
好ましくは130〜160°Cである。120°C以下
では極端に反応が遅くなり、200°C以上では反応中
に発生するアルコールの温度が高く、圧力も高くなり凝
縮器の負担が増すとともに安全な反応ができなくなる。
また、反応中発生する副生アルコールを主成分とする蒸
発物を凝縮器で原料物質を凝縮させ反応系に還流させる
(以下、分縮と略称)温度は副生アルコールの沸点〜1
50°Cの範囲であるが、好ましくは65〜100°C
である。最も好ましい温度は発生する副生アルコールの
沸点+5°C以内の温度である。副生アルコールの沸点
未満では副生アルコールの蓄積がおこり、反応温度の低
下、未反応物の蓄積をきたす。150°Cを超えると高
濃度のフェノール化合物を含有したアルコールが反応系
外に抜き出されてしまう。
発物を凝縮器で原料物質を凝縮させ反応系に還流させる
(以下、分縮と略称)温度は副生アルコールの沸点〜1
50°Cの範囲であるが、好ましくは65〜100°C
である。最も好ましい温度は発生する副生アルコールの
沸点+5°C以内の温度である。副生アルコールの沸点
未満では副生アルコールの蓄積がおこり、反応温度の低
下、未反応物の蓄積をきたす。150°Cを超えると高
濃度のフェノール化合物を含有したアルコールが反応系
外に抜き出されてしまう。
アラルキルエーテルの連続装入時間は反応のスケール、
凝縮器の能力にもよるが、通常30分〜10時間である
。好ましくは、1〜5時間である。30分未満では、発
生する副生アルコールを主成分とする蒸発物を分縮させ
ることアク困難となる。また未反応のアラルキルエーテ
ルが多くなり、実質的に熟成反応が長時間必要となる。
凝縮器の能力にもよるが、通常30分〜10時間である
。好ましくは、1〜5時間である。30分未満では、発
生する副生アルコールを主成分とする蒸発物を分縮させ
ることアク困難となる。また未反応のアラルキルエーテ
ルが多くなり、実質的に熟成反応が長時間必要となる。
10時間以上では特に問題はないが生産性が悪く現実的
ではない。
ではない。
反応は加圧、常圧、減圧のいずれでも良いが、常圧か1
000+n+eHzO以下の僅かな加圧が好ましい。
000+n+eHzO以下の僅かな加圧が好ましい。
著しい減圧、加圧下の反応では、反応条件を安定させる
ことが困難となる。
ことが困難となる。
以下、実施例により本発明を説明する。
以下に示す濃度(%)はすべて重量パーセントである。
以下に示す反応器は直径75mm、深さ165m5の容
量約700mの円筒反応器である。
量約700mの円筒反応器である。
以下に示す液深は反応器の底から液面までの距離(mm
)である。
)である。
以下に示す攪拌機は錨型のものである。
以下に示す攪拌は300rpmである。
以下に示す消泡剤のシリコーンは東芝シリコーン株製、
商品名TSA−720(5重量%トルエン溶液)である
。
商品名TSA−720(5重量%トルエン溶液)である
。
実施例1
234.3g (2,49モル)のフェノール、9.7
gのメタノール及び0.53gのジエチル硫酸を85°
Cの冷却水を通した凝縮器を備えた反応器に装入し、攪
拌しながらオイルハスで液温を140″Cに昇温した。
gのメタノール及び0.53gのジエチル硫酸を85°
Cの冷却水を通した凝縮器を備えた反応器に装入し、攪
拌しながらオイルハスで液温を140″Cに昇温した。
液温が140°Cに達したところでPXDMの装入を開
始し、3背後メタノールの留出が認められた。
始し、3背後メタノールの留出が認められた。
300 g (1,805% ル)(D P X D
Mを3時間かけて連続的に装入した後、0.16gの消
泡剤を添加し、液温140°Cで1.5時間熟成反応を
行った。PXDM装入終了時の液深は102+n+nで
あった。熟成を開始して10分後、最高の液深109a
+mに達し、熟成終了時の液深は9918111であっ
た。
Mを3時間かけて連続的に装入した後、0.16gの消
泡剤を添加し、液温140°Cで1.5時間熟成反応を
行った。PXDM装入終了時の液深は102+n+nで
あった。熟成を開始して10分後、最高の液深109a
+mに達し、熟成終了時の液深は9918111であっ
た。
次いで液温を165“Cに昇温し、減圧下で未反応のフ
ェノールを7分間要して除去し、軟化点92°Cの樹脂
385gを得た。なお液温を165°Cに昇温した際の
最高の液深は109mmであっ1こ。
ェノールを7分間要して除去し、軟化点92°Cの樹脂
385gを得た。なお液温を165°Cに昇温した際の
最高の液深は109mmであっ1こ。
実施例2
消泡剤の添加時期を熟成を開始巳で8分後二二行った他
は実施例Iと同様に実施した。熟成時及び昇温時の最高
液深はそれぞれ1201.113Iであった。次いで減
圧下で未反応のフェノールを8分間要して除去じ、軟化
点92°Cの樹脂385gを得た。
は実施例Iと同様に実施した。熟成時及び昇温時の最高
液深はそれぞれ1201.113Iであった。次いで減
圧下で未反応のフェノールを8分間要して除去じ、軟化
点92°Cの樹脂385gを得た。
実施例3
消泡剤の添加時期を熟成を開始して50分後に行った他
は実施例1と同様に実施した。熟成時及び昇温時の最高
液深はそれぞれ140m@、 117m+であった。次
いで減圧下で未反応のフェノールを10分間要して除去
し、軟化点92°Cの樹脂385gを得た。
は実施例1と同様に実施した。熟成時及び昇温時の最高
液深はそれぞれ140m@、 117m+であった。次
いで減圧下で未反応のフェノールを10分間要して除去
し、軟化点92°Cの樹脂385gを得た。
実施例4
0.77 gの消泡剤を原料仕込み時に添加した他は実
施例1と同様に実施した。熟成時及び昇温時の最高液深
はそれぞれ141mm、131+mmであった。次いで
減圧下で未反応のフェノールを17分間要して除去し、
軟化点90°Cの樹脂388gを得た。
施例1と同様に実施した。熟成時及び昇温時の最高液深
はそれぞれ141mm、131+mmであった。次いで
減圧下で未反応のフェノールを17分間要して除去し、
軟化点90°Cの樹脂388gを得た。
実施例5
0.077 gの消泡剤を熟成開始時に添加した他は実
施例1と同様に実施した。熟成時及び昇温時の最高液深
はそれぞれ140mm、109mmであった。次いで減
圧下で未反応のフェノールを7分間要して除去し、軟化
点91″Cの樹脂386gを得た。
施例1と同様に実施した。熟成時及び昇温時の最高液深
はそれぞれ140mm、109mmであった。次いで減
圧下で未反応のフェノールを7分間要して除去し、軟化
点91″Cの樹脂386gを得た。
実施例6
触媒をジエチルg酸のかわりにp−フェノールスルホン
酸を使用した他は、実施例1と同様に実施した。熟成時
及び昇温時の最高液深はそれぞれ11011+m、11
0+mであった。次いで減圧下で未反応のフェノールを
8分間要して除去し、軟化点91°Cの樹脂387gを
得た。
酸を使用した他は、実施例1と同様に実施した。熟成時
及び昇温時の最高液深はそれぞれ11011+m、11
0+mであった。次いで減圧下で未反応のフェノールを
8分間要して除去し、軟化点91°Cの樹脂387gを
得た。
実施例7
257.7 g (2,383モアv)ノo−クレゾー
ル、10.6gのメタノール及び0.56gのジエチル
硫酸を85°Cの冷却水を通したa縮器を備えた反応器
に装入し、攪拌しながら液温を】50°Cに昇温した。
ル、10.6gのメタノール及び0.56gのジエチル
硫酸を85°Cの冷却水を通したa縮器を備えた反応器
に装入し、攪拌しながら液温を】50°Cに昇温した。
、WL温が150°Cに達したところでPXDMの装入
を開始し、3背後メタノールの留出が認、められた。
を開始し、3背後メタノールの留出が認、められた。
300 g (1,805モル)のPXDMを3時間か
けて連続的に装入した後、0.25gの消泡剤を添加し
、液温150°Cで3時間熟成反応を行った。PXDM
装入終了時の液深は110mmであった。熟成を開始し
て10分後、最高の液深1231に達し、熟成終了時の
液深は1201であった。
けて連続的に装入した後、0.25gの消泡剤を添加し
、液温150°Cで3時間熟成反応を行った。PXDM
装入終了時の液深は110mmであった。熟成を開始し
て10分後、最高の液深1231に達し、熟成終了時の
液深は1201であった。
次いで液温を170°Cに昇温し、減圧下で未反応の0
−クレゾールを25分間要して除去し、軟化点94°C
の樹脂428gを得た。なお液温を170°Cに昇温し
た際の最高の液深は123mtであった。
−クレゾールを25分間要して除去し、軟化点94°C
の樹脂428gを得た。なお液温を170°Cに昇温し
た際の最高の液深は123mtであった。
比較例1
消泡剤を使用しなかった他は実施例1と同様に実施した
。熟成時及び昇温時の最高液深はそれぞれ1651.1
60m5であった。次いで減圧下で未反応のフェノール
を40分間要して除去し、軟化点91°Cの樹脂387
gを得た。
。熟成時及び昇温時の最高液深はそれぞれ1651.1
60m5であった。次いで減圧下で未反応のフェノール
を40分間要して除去し、軟化点91°Cの樹脂387
gを得た。
比較例2
241.5g (2,566モル)のフェノール、30
0g(1゜805モル)のPXDM及び0.53gのジ
エチル硫酸を空冷管を備えた反応器に装入した。その時
の液深は1201であった。撹拌しながらオイルハスで
昇温し液温が128°Cに達したところでメタノールの
留出が認められた。液温を135〜143°Cに保ち1
.5時間反応したところで反応物は留出側まで抜は出た
。
0g(1゜805モル)のPXDM及び0.53gのジ
エチル硫酸を空冷管を備えた反応器に装入した。その時
の液深は1201であった。撹拌しながらオイルハスで
昇温し液温が128°Cに達したところでメタノールの
留出が認められた。液温を135〜143°Cに保ち1
.5時間反応したところで反応物は留出側まで抜は出た
。
[発明の効果]
本発明のフェノール系樹脂の製造方法による効果は、反
応物の液面上昇が抑えられ、反応器の容量が充分活用で
きる。特に高粘度(高分子)品の製造には効果が大きく
、1ハツチ当たりの生産量が大幅に増加できる。また、
工業化スケールでは減圧時間の大幅短縮が可能である。
応物の液面上昇が抑えられ、反応器の容量が充分活用で
きる。特に高粘度(高分子)品の製造には効果が大きく
、1ハツチ当たりの生産量が大幅に増加できる。また、
工業化スケールでは減圧時間の大幅短縮が可能である。
本発明の方法で得られるポリマーは、通常のフェノール
樹脂(ノボラック樹脂)に比べ耐熱性、耐摩耗性、耐薬
品性、電気特性等に便れ広範囲の分野に使用できる。特
に電気、電子材料、摩擦材、成形材、ゴム配合用等とし
てはフェノール樹脂と全く同し硬化方法で使用できる性
能を持った熱硬化性ポリマーである。
樹脂(ノボラック樹脂)に比べ耐熱性、耐摩耗性、耐薬
品性、電気特性等に便れ広範囲の分野に使用できる。特
に電気、電子材料、摩擦材、成形材、ゴム配合用等とし
てはフェノール樹脂と全く同し硬化方法で使用できる性
能を持った熱硬化性ポリマーである。
特許出願人 三井東圧化学株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、フェノール化合物とアラルキルエーテルを反応させ
るに際し、消泡剤を添加することを特徴とするフェノー
ル系樹脂の製造方法。 2、該消泡剤の添加時期がアラルキルエーテルの装入終
了後である請求項1記載のフェノール系樹脂の製造方法
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32313690A JPH0819218B2 (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | フェノール系樹脂の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32313690A JPH0819218B2 (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | フェノール系樹脂の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04198316A true JPH04198316A (ja) | 1992-07-17 |
JPH0819218B2 JPH0819218B2 (ja) | 1996-02-28 |
Family
ID=18151487
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32313690A Expired - Lifetime JPH0819218B2 (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | フェノール系樹脂の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0819218B2 (ja) |
-
1990
- 1990-11-28 JP JP32313690A patent/JPH0819218B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0819218B2 (ja) | 1996-02-28 |
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