JPH04198316A - フェノール系樹脂の製造方法 - Google Patents

フェノール系樹脂の製造方法

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JPH04198316A
JPH04198316A JP32313690A JP32313690A JPH04198316A JP H04198316 A JPH04198316 A JP H04198316A JP 32313690 A JP32313690 A JP 32313690A JP 32313690 A JP32313690 A JP 32313690A JP H04198316 A JPH04198316 A JP H04198316A
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  • Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はフェノール系樹脂の製造方法に関するものであ
る。
本発明のフェノール系樹脂は、電気的特性、耐熱性等に
優れ、成形材、摩擦材、封止材、塗料等の基材として有
用される。
[従来の技術] フェノール化合物とアラルキル化合物の反応生成物であ
るフェノール系樹脂の製造方法は従来より多数の方法が
開示されている。
例えば、特公昭47−15111号公報及び、特公昭5
2−14280号公報では、フェノール、p−キソリレ
ングリコールジメチルエーテル(以下PXDMと略称す
る)および触媒をコンデンサー付き反応フラスコに一括
して仕込み、混合物をかきまぜながら130°C〜20
0°Cで一定時間反応させ、後処理を行いフェノール系
樹脂が得られている。
しかし、上記特公昭47−15111号公報、特公昭5
2−14280号公報等の製造方法では反応物の液面が
上笑する欠点がある。
即ち反応の進行とともに反応物は高分子化、増粘し、反
応末期では副生ずるアルコールが反応系から抜は難くな
るため反応物中でガス化、泡となって反応物の液面を上
昇させる。特に高分子の樹脂を製造する場合は著しい発
泡のため、反応器の容量の割りには1ハ、チ当たりの生
産量が少なく設備の能力が出ないという問題があった。
[発明が解決しようとする課題] 本発明の目的はフェノール系樹脂を製造するに際し、消
泡剤を添加し、熟成時の発泡及び減圧下で行うフェノー
ル化合物の除去の際の液面上昇を抑え、高い生産性を有
した製造方法を提供することにある。
C課題を解決するための手段〕 本発明者らは上記課題につき鋭意検討し本発明に到った
即ち、本発明はフェノール化合物とアラルキルエーテル
を反応させるに際し、消泡剤を添加することを特徴とす
るフェノール系樹脂の製造方法である。
以下本発明を更に詳細に説明する。
本発明の方法の好ましい実施態様は、反応器にフェノー
ル化合物、低沸点溶剤及び触媒を仕込み、所望する反応
温度Gこ昇温し、アラルキルエーテルを連続的に装入後
、消泡剤の存在下で熟成反応を行うことである。
消泡剤の添加効果は、フェノール化合物とアラルキルエ
ーテルの反応によって側止するアルコールを高粘度の反
応物中から容易ムこ抜き出し、発泡による反応物の液面
上昇を防止することである。
本発明で使用するフェノール化合物は、芳香核に結合し
た1個ないし3個、好ましくは1個ないし2個の水酸基
を含有するが、芳香核の炭素原子に結合した置換基が全
体で3個以下の芳香族化合物またはそれらの混合物であ
る。例えば、フェノール、0−クレゾール、−クレゾー
ル、p−クレゾール、2.6−キシレノール、レゾルシ
ン、カテコール、p−エチルフェノール、p−tert
−ブチルフェノール、p−フェニルフェノール、p−ア
ミンフェノール、ピロガロール、α−ナフトール、β−
ナフトール等が挙げられる。特に好ましいフェノール化
合物はフェノール、0−クレゾール等である。
本発明で使用するアラルキルエーテルは、下記−数式(
1)で表される。
(上式中、Rは炭素数が1〜6のアルキル基を示し、n
=1の場合はn=2であり、n・2の場合は蒙21の整
数である。) 例えば、α、α”−ジメトキシ−p−キシレン(PXD
M)、α、α゛−ジェトキシーp−キシレン、α。
α゛−ジメトキシー〇−キシレンα、α′−ジメトキシ
ー鋼−キシーキシレンDM)、α、α、α゛−トリメト
キシーp−キシレン等である。特に好ましいアラルキル
エーテルはPXDMである。
本発明の方法においてフェノール化合物のアラルキルエ
ーテルに対する使用比率は広範囲に変化させることがで
きるが、好ましくは反応系の最終モル比が1.3以上で
ある。1.3未満ではゲル化する恐れがある。
本発明の方法を実施する際の特徴である消泡剤としては
、市販のシリコーン系の消泡剤を用いることができる。
例えば、東芝シリコーン■より商品名T S A−72
0、ピングケミ−・ジャパン■より商品名Byk@−A
520、日本ユニカー■より商品名L−45,5AG−
41等として市販されているものが挙げられる。
消泡剤としてのシリコーンの添加量は、反応物の粘度、
発泡状態により特に制限はないが、フェノール化合物と
アラルキルエーテルの反応から得られるフェノール系樹
脂100重量部に対し、lXl0−4〜5X]0−”重
量部が好ましく、5X10−’〜5XIO−3重量部が
特に好ましい。
lXl0−’重量部未満では消泡剤としての効果が少な
く発泡を抑えることが困難であり、5X10−”重量部
を超えるとフェノール系樹脂が白濁、変質する。
また、消泡剤としてのシリコーンの添加は原料仕込み時
から発泡時までの間に行われるが、PXDMの装入終了
と同時に行うことが最も効果的である。即ち、微量のシ
リコーンで消泡効果を持続させるには、発泡が起こる少
し前に、しかも反応物の粘度が低(、反応物と良く混合
される時期が効果が大きく、原料仕込み時或いはPXD
Mの装入中では多く添加しないと効果が薄くなる。
市販の消泡剤は種々の溶剤で希釈されているのが一般的
であり、いずれの濃度のものも使用出来るが所望の濃度
に調製して使用するのが好ましい。
本発明の方法においては、反応初期の発熱を抑え、反応
温度を安定に保つために低沸点の溶剤が使用される。低
沸点溶剤としてはアラルキルエーテルを構成するアルコ
ール成分と同種のアルコール、例えば、メタノール、エ
タノール等が挙げられ、特に反応で副生ずるアルコール
と同一のアルコールが好ましい。
また、沸点が50°C〜150°Cの溶剤も使用できる
例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等の
酢酸エステル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素が挙げられ、フェノールとの相溶性を有し
た溶剤、更には性成する樹脂との相溶性を有した溶剤が
好ましい。溶剤の沸点が50°C未満の場合は、フェノ
ール化合物に対する飽和量が少ないため、飽和温度(反
応開始温度)を厳密に管理しなければならない。更に、
安全面でも好ましくない。また、150°Cを超えると
、飽和量が多く使用量が増し、反応後の製品、フェノー
ル化合物、溶剤の分離が困難となる。更に反応温度が高
くなり、副生ずるアルコールと同伴するフェノール化合
物の濃度が高く、凝縮器の負担が大きくなる。
該アルコール及び/又は該溶剤の使用量は、選択するア
ルコール及び溶剤の沸点、フェノールに対する飽和量が
異なるため、特に制限はないがフェノール化合物に対し
て重量%で1〜10%が好ましい。使用量が1%未満で
は反応温度が著しく高くなり易く、副生ずるアルコール
の蕉気圧が高くなり危険である。また、10%以上の使
用は反応温度が低くなり易く円滑な反応が行い難くなる
本発明の方法においては、上記成分のほかに、触媒とし
て、例えば塩化第二錫、塩化亜鉛、塩化第二鉄、塩化第
二銅、硫酸第二銅、硫酸第二水銀、硫酸第一水銀、塩化
第二水銀、塩化第一水銀、硫酸銀、塩化銀、硫酸水素ナ
トリウム、硫酸等の無機化合物、モノエチル硫酸、ジエ
チル硫酸、〕゛メメチル硫酸−トルエンスルホン酸、p
−フェノールスルホン酸、メタンスルホノ酸等の有機ス
ルホン酸類を用いることが好ましく、反応には少なくと
も一種類が使用される。特に好ましい触媒は、塩化第二
錫、シュチルg酸、p−フェノールスルホン酸である。
触媒の使用量に特に制限はなく、フェノール化合物とア
ラルキルエーテルの重量和の0.001〜5重量%の範
囲で使用されるが、安全且つ速やかに反応を完結させる
には0.01〜0.5%の範囲が好ましい。
本発明の方法の好ましい実施態様は、予め最適の反応温
度としたフェノール化合物と触媒及び低沸点溶剤の混合
液中にアラルキルエーテルを連続的に装入、反応させる
ことである。また、多量のフェノール化合物と少量のア
ラルキルエーテルを伴って発生する副生アルコールを凝
縮器で凝縮し大部分のフェノール化合物とアラルキルエ
ーテルを反応系に還流させることである。
反応温度は通常120〜200°Cの範囲で行われるが
好ましくは130〜160°Cである。120°C以下
では極端に反応が遅くなり、200°C以上では反応中
に発生するアルコールの温度が高く、圧力も高くなり凝
縮器の負担が増すとともに安全な反応ができなくなる。
また、反応中発生する副生アルコールを主成分とする蒸
発物を凝縮器で原料物質を凝縮させ反応系に還流させる
(以下、分縮と略称)温度は副生アルコールの沸点〜1
50°Cの範囲であるが、好ましくは65〜100°C
である。最も好ましい温度は発生する副生アルコールの
沸点+5°C以内の温度である。副生アルコールの沸点
未満では副生アルコールの蓄積がおこり、反応温度の低
下、未反応物の蓄積をきたす。150°Cを超えると高
濃度のフェノール化合物を含有したアルコールが反応系
外に抜き出されてしまう。
アラルキルエーテルの連続装入時間は反応のスケール、
凝縮器の能力にもよるが、通常30分〜10時間である
。好ましくは、1〜5時間である。30分未満では、発
生する副生アルコールを主成分とする蒸発物を分縮させ
ることアク困難となる。また未反応のアラルキルエーテ
ルが多くなり、実質的に熟成反応が長時間必要となる。
10時間以上では特に問題はないが生産性が悪く現実的
ではない。
反応は加圧、常圧、減圧のいずれでも良いが、常圧か1
000+n+eHzO以下の僅かな加圧が好ましい。
著しい減圧、加圧下の反応では、反応条件を安定させる
ことが困難となる。
〔実施例〕
以下、実施例により本発明を説明する。
以下に示す濃度(%)はすべて重量パーセントである。
以下に示す反応器は直径75mm、深さ165m5の容
量約700mの円筒反応器である。
以下に示す液深は反応器の底から液面までの距離(mm
)である。
以下に示す攪拌機は錨型のものである。
以下に示す攪拌は300rpmである。
以下に示す消泡剤のシリコーンは東芝シリコーン株製、
商品名TSA−720(5重量%トルエン溶液)である
実施例1 234.3g (2,49モル)のフェノール、9.7
gのメタノール及び0.53gのジエチル硫酸を85°
Cの冷却水を通した凝縮器を備えた反応器に装入し、攪
拌しながらオイルハスで液温を140″Cに昇温した。
液温が140°Cに達したところでPXDMの装入を開
始し、3背後メタノールの留出が認められた。
300 g (1,805% ル)(D P X D 
Mを3時間かけて連続的に装入した後、0.16gの消
泡剤を添加し、液温140°Cで1.5時間熟成反応を
行った。PXDM装入終了時の液深は102+n+nで
あった。熟成を開始して10分後、最高の液深109a
+mに達し、熟成終了時の液深は9918111であっ
た。
次いで液温を165“Cに昇温し、減圧下で未反応のフ
ェノールを7分間要して除去し、軟化点92°Cの樹脂
385gを得た。なお液温を165°Cに昇温した際の
最高の液深は109mmであっ1こ。
実施例2 消泡剤の添加時期を熟成を開始巳で8分後二二行った他
は実施例Iと同様に実施した。熟成時及び昇温時の最高
液深はそれぞれ1201.113Iであった。次いで減
圧下で未反応のフェノールを8分間要して除去じ、軟化
点92°Cの樹脂385gを得た。
実施例3 消泡剤の添加時期を熟成を開始して50分後に行った他
は実施例1と同様に実施した。熟成時及び昇温時の最高
液深はそれぞれ140m@、 117m+であった。次
いで減圧下で未反応のフェノールを10分間要して除去
し、軟化点92°Cの樹脂385gを得た。
実施例4 0.77 gの消泡剤を原料仕込み時に添加した他は実
施例1と同様に実施した。熟成時及び昇温時の最高液深
はそれぞれ141mm、131+mmであった。次いで
減圧下で未反応のフェノールを17分間要して除去し、
軟化点90°Cの樹脂388gを得た。
実施例5 0.077 gの消泡剤を熟成開始時に添加した他は実
施例1と同様に実施した。熟成時及び昇温時の最高液深
はそれぞれ140mm、109mmであった。次いで減
圧下で未反応のフェノールを7分間要して除去し、軟化
点91″Cの樹脂386gを得た。
実施例6 触媒をジエチルg酸のかわりにp−フェノールスルホン
酸を使用した他は、実施例1と同様に実施した。熟成時
及び昇温時の最高液深はそれぞれ11011+m、11
0+mであった。次いで減圧下で未反応のフェノールを
8分間要して除去し、軟化点91°Cの樹脂387gを
得た。
実施例7 257.7 g (2,383モアv)ノo−クレゾー
ル、10.6gのメタノール及び0.56gのジエチル
硫酸を85°Cの冷却水を通したa縮器を備えた反応器
に装入し、攪拌しながら液温を】50°Cに昇温した。
、WL温が150°Cに達したところでPXDMの装入
を開始し、3背後メタノールの留出が認、められた。
300 g (1,805モル)のPXDMを3時間か
けて連続的に装入した後、0.25gの消泡剤を添加し
、液温150°Cで3時間熟成反応を行った。PXDM
装入終了時の液深は110mmであった。熟成を開始し
て10分後、最高の液深1231に達し、熟成終了時の
液深は1201であった。
次いで液温を170°Cに昇温し、減圧下で未反応の0
−クレゾールを25分間要して除去し、軟化点94°C
の樹脂428gを得た。なお液温を170°Cに昇温し
た際の最高の液深は123mtであった。
比較例1 消泡剤を使用しなかった他は実施例1と同様に実施した
。熟成時及び昇温時の最高液深はそれぞれ1651.1
60m5であった。次いで減圧下で未反応のフェノール
を40分間要して除去し、軟化点91°Cの樹脂387
gを得た。
比較例2 241.5g (2,566モル)のフェノール、30
0g(1゜805モル)のPXDM及び0.53gのジ
エチル硫酸を空冷管を備えた反応器に装入した。その時
の液深は1201であった。撹拌しながらオイルハスで
昇温し液温が128°Cに達したところでメタノールの
留出が認められた。液温を135〜143°Cに保ち1
.5時間反応したところで反応物は留出側まで抜は出た
[発明の効果] 本発明のフェノール系樹脂の製造方法による効果は、反
応物の液面上昇が抑えられ、反応器の容量が充分活用で
きる。特に高粘度(高分子)品の製造には効果が大きく
、1ハツチ当たりの生産量が大幅に増加できる。また、
工業化スケールでは減圧時間の大幅短縮が可能である。
本発明の方法で得られるポリマーは、通常のフェノール
樹脂(ノボラック樹脂)に比べ耐熱性、耐摩耗性、耐薬
品性、電気特性等に便れ広範囲の分野に使用できる。特
に電気、電子材料、摩擦材、成形材、ゴム配合用等とし
てはフェノール樹脂と全く同し硬化方法で使用できる性
能を持った熱硬化性ポリマーである。
特許出願人 三井東圧化学株式会社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、フェノール化合物とアラルキルエーテルを反応させ
    るに際し、消泡剤を添加することを特徴とするフェノー
    ル系樹脂の製造方法。 2、該消泡剤の添加時期がアラルキルエーテルの装入終
    了後である請求項1記載のフェノール系樹脂の製造方法
JP32313690A 1990-11-28 1990-11-28 フェノール系樹脂の製造方法 Expired - Lifetime JPH0819218B2 (ja)

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