JPH0419748A - 画像形成層 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野〕 本発明は新規な画像形成層に関するものであり、更に詳
しくは露光することにより原画に対して感度よくネガ画
像が得られる画像形成層に関する。

〔従来技術〕

近年安全衛生上の問題から印刷版あるいはレジスト形成
工程において有機溶剤を主成分とする現像液による現像
に代り、水性アルカリ現像液を用いるアルカリ現像が採
用されるようになってきた。

そのため、アルカリ現像に適した感光層が要求され、バ
インダーとして多（のカルボキシル基を含有するポリマ
ーまたは樹脂が使用されている。しかしながら、露光、
現像後に残った画像部分は予め存在するカルボン酸によ
りアルカリ現像液で膨潤し、印刷版あるいはレジストと
して使用した場合、皮膜強度や支持体への接着力（付着
力）が十分ではないという本質的な問題を内在していた
。

本問題を解決する方法として、特開昭６４−３２２５５
号公報に記載されているような露光によりカルボン酸を
脱炭酸させて、カルボン酸を消失させる方法がある。し
かるに、この方法では感度が低く、また低露光時にはカ
ルボン酸が多く残存し、現像時に画像部が傷つきやすく
なるという問題がある。

〔発明が解決しようとする課題〕

従って本発明の目的は、高感度であり、かつ現像時に画
像部が傷つきにくい画像形成層を提供することにある。

〔課題を解決するための手段］ 上記目的を達成すべく種々検討した結果、下記一般式（
１）で示されるカルボン酸（塩）を有する構成成分及び
３２０ｎｍ以上にＵＶ吸収を有する構成成分をともに同
一のポリマー中に導入することにより、上記目的を達成
できることを見出し、本発明に到った。

すなわち、本発明は、下記一般式（１）で示されるカル
ボキシル基を有する構成成分及び３２０ｎ…以上にＵＶ
吸収を有する構成成分を含むポリマーを含む画像形成層
である。

云−Ｙ　＋−Ｘ　　＋ＣＨ２＋−ＣロＯＴ　　　　　−
−−−−−（Ｉ　　）（式中、Ｘはイオウ、酸素、単結
合、Ｃ＝　’ｖＶあるいはＮ−Ｕを意味し、Ｗは酸素、
イオウを意味し、Ｕは置換基を有してもよいアリール基
、アルキル基、水素原子を意味し、Ｙは置換基を有して
もよいアルキレン、アリーレン、アラルキレン、２価の
複素環を意味し、Ｔは水素原子、アルカリ金属、（ここ
で、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ同一であっても異なっ
ていてもよく、水素原子、置換基を有してもよいアルキ
ル基、アリール基を意味する。

またＲ’　、Ｒ’　、Ｒ３は連結し環を形成していても
よい。〉、Ｋは０あるいは１であり、βは０あるいは１
であり、Ｋ＝ＯのときＸはＣ＝Ｗである。）。

以下、本発明の詳細な説明する。

本発明に用いられるポリマーには、上記一般式（１）で
示される光により脱炭酸するカルボキシル基を有する構
成成分（以下「カルボキシル基含存骨格」という。）及
び３２０ｎｍ以上にＵＶ吸収を有する構成成分（以下「
増悪剤骨格」という。）が導入されている。

一般式（１）において、Ｕのアリール基としては炭素数
６〜２０のアリール基が好ましく、例えばフェニル基、
ナフチル基が含まれる。また、Ｕのアルキル基としては
炭素数１〜２０のものが好ましい。これらのアルキル基
又はアリール基の置換基としては弗素原子、塩素原子、
臭素原子、ヨウ素原子のようなハロゲン原子、シアノ基
、ニトロ基、水酸基、カルボキシル基、−ＯＲ，−ＣＯ
ＯＲ。

−０ＣＯＲ，−ＣＯＮＨＲ，−ＮＩＩＣＯＲ（ここでＲ
は炭素数１〜２０のアルキル基又は炭素数６〜２０の了
り−ル基を示す、）、アルキル基の置換基としてのアリ
ール基、アリール基の置換基としてのアルキル基が含ま
れる。また、Ｙのアルキレン基としては炭素数１〜２０
のものが好ましく、アリーレン基としては炭素数６〜２
０のものが好ましく、アラルキレン基としては炭素数７
〜２０のものが好ましく、２価の複素環基としてはカル
バゾール環、インドール環、ピラゾール環から誘導され
る２価の基が好ましい。更にこれらのアルキレン、アリ
ーレン、アラルキレン、２価の複素環の置換基としては
Ｕの所で説肋した置換基が含まれる。

またＲ１　、Ｒ２、Ｒｊのアルキル基、アリール基、お
よびこれらに対する置換基としてはＵについて説明した
ものが含まれる。

本発明に用いられるポリマーに導入されるカルボキシル
基含有骨格として、好ましくはインドール−３−酢酸、
フェノキシ酢酸、７２−メチルフェノキシ酢酸、３−メ
トキシフェノキシ酢酸、２−ニトロフェノキシ酢酸、３
−クロロフェノキシ酢酸、４−メチルフェノキシ酢酸、
ｎ−ブトキシ酢酸、チオフェノキシ酢酸、３−メトキシ
チオフェノキシ酢酸、２−クロルチオフェノキシ酢酸、
２−メチルチオフェノキシ酢酸、４−ニトロチオフェノ
キシ酢酸、ｎ−ブチルチオ酢酸、フェニル酢１２−二ト
ロフェニル酢酸、４−ニトロフェニル酢酸、２，４−ジ
ニトロフェニル酢酸、ベンゾイルギ酸、４−クロルベン
ゾイルギ酸、チオベンゾイルギ酸、ピルビン酸、Ｎ−フ
ェニルグリシン、Ｎ−（３−クロルフェニル）グリシン
、Ｎ−（２゜４−ジクロルフェニル）グリシン、Ｎ−（
４−アセチルフェニル）グリシン、Ｎ−（２−ニトロフ
ェニル）グリシン、Ｎ−（２，４−ジニトロフェニル）
グリシン、Ｎ−（４−シアノフェニル）グリシン、Ｎ−
（２−ブロモフェニル）グリシン、Ｎ−（２−メチルフ
ェニル）グリシン、Ｎ−（２−メトキシフェニル）グリ
シン、Ｎ−（２，４−ジメトキシフェニル）グリシン、
Ｎ−（ｎ−ブチル）グリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−（２−
メチルフェニル）グリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ク
ロルフェニル）グリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−（２−二ト
ロフェニル）グリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−（２−メトキ
シフェニル）グリシン、Ｎ−（４−カルバモイルフェニ
ル）グリシン、Ｎ−（４−スルファモイルフェニル）グ
リシンなどの骨格を含む残基が挙げられる。これらのカ
ルボキシル基含有骨格を２種以上組み合わせて用いるこ
ともてきる。

これらのカルボン酸はカルボン酸塩であってもよい。カ
ルボン酸塩としては、アルカリ金属塩、アルカリ土類金
属塩、アンモニウム塩などがあるが、これらに限定され
たものではない。アンモニウム塩としてはモノ、ジ、又
はトリメチルアミン、モノ、ジ又はトリエチルアミン、
モノ、ジ又はトリイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミ
ン、モノ、ジ又はトリエタノールアミン、モノ、ジ又は
トリイソプロパツールアミン、エチレンイミン、エチレ
ンジイミン、Ｎ、Ｎ−ジエチルアニリン、ＮＮ−ジメチ
ルアニリン等のアミンをもとに形成されるアンモニウム
塩などが挙げられるがこれらに限定されたものではない
。

また、カルボキシル基含有骨格は、前記一般式（Ｉ）に
おいてＸがイオウ、酸素、単結合又はＮ−Ｕ（７）場合
、−ｘ＋ＣＨ２→−ｒ（：ＯＯＴ　　はアリール核また
は芳香族複素環核に結合している場合が感度上好ましい
。

本発明に用いられるポリマーに導入される増感剤骨格と
して、好ましくはキサントン、フルオレノン、ベンゾフ
ェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、
２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサ
ントン、２．４−ジエチルチオキサントン、アセトフェ
ノン、ナフチルアセトン、４．４′−ビスジメチルアミ
ノベンゾフェノン、トリニトロフルオレノン、ジヘンゾ
スベロン、２．５−ビス−（４′−ジエチルアミノベン
ザル）シクロペンタノン、α、α−ジクロロ−４−フェ
ノキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシル
フェニルケトンなどの芳香族ケトン系化合物ｉ４，４’
−ビスジメチルアミノチオベンゾフェノンなどの芳香族
チオケトン化合物；ベンゾキノン、ジクロルベンゾキノ
ン、テトラクロルベンゾキノン、ジクロルナフトキノン
、アントラキノン、フェンナントレンキノン、ジクロロ
アントラキノン、ジニトロアントラキノン、アリザリン
、ベンズアントラキノンなどのキノン系化合物；ニトロ
ベンゼン、１−ニトロビフェニル、４−ニトロビフェニ
ル、４−ニトロトルエン、１゜３−ジニトロベンゼン、
２，４．６−）！Ｊニトロアニリンなどの芳香族ニトロ
化合物；ナフタレンアントラセン、フェナントレン、ベ
ンズアントラセン、ベンズピレンなどの芳香族炭化水素
；トリフェニルピラゾリンなとのトリアリールピラゾリ
ン系化合物；テトラフェニルイミダゾール、トリフェニ
ルイミダゾールなどのモノイミダゾール系化合物；フル
オレセイン、エオシンＹ２０−ズベンガル、エリトロシ
ンＢ１フロキシンなどのキサンチン系化合物；アクリフ
ラビン、リボフラビンアクリジン、９−フェニルアクリ
ジン、Ｎ−フェニルアクリジン、フェナジン、２．３−
ジフェニルキノキサリン、アセナフト（１，２−ｂ）キ
ノキサリンなどのアクリジン系化合物；７−Ｎ、Ｎ−ジ
エチルアミノケトクマリン、３−ベンゾイル−７−シエ
チルアミノクマリン、３−ベンゾイル−７−メドキシク
マリン、３．３′−カルボニルビス（７−シエチルアミ
ノクマリン）などの米国特許第４，２８９．８４４号公
報に記載されたクマリン系化合物；チモールブルー、ブ
ロムチモールブルーブロムクレゾールグリーンなどのト
リフェニルメタン系化合物；２−メチル−３−ベンゼン
スルホニルオキシ−４（３Ｈ）−キナゾリノン、２−（
β−スチリル）−３−ベンゼンスルホニルオキシ−４（
３Ｈ）−キナゾリノン等のキナゾリノン系化合物などの
骨格を含む残基が挙げられる。上記増感剤骨格を２種以
上組み合わせて用いることもできる。

これらの増感剤骨格は、用いる光源の輝線にマツチング
した波長領域に吸収を有するものが好ましい。

上記カルボキシル基含有骨格及び増感剤骨格は連結基を
介して、又は介さずに、ポリマー主鎖と結合されている
。連結基としてはエーテル結合、アミド結合、エステル
結合、ウレタン結合、ウレイド結合又はそれらを含有す
る連結基である。なお、上記カルボン酸含有骨格及び増
感剤骨格の一部がポリマー主鎖に含まれていてもよい。

エーテル結合、アミド結合、エステル結合、ウレタン結
合、ウレイド結合を含有する連結基としては、下記一般
式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＴＶ）、（Ｖ）で示される
ものが挙げられる。

−Ｌ−＋Ｒ−Ｌ＋ｒ−Ｒ− （ＩＩ） −Ｌ−＋Ｒ−Ｌ→１−− （ＩＩＩ） −Ｒ−＋Ｌ−Ｒ＋ｒ−Ｌ−（ＩＶ） −Ｒ−←Ｌ−Ｒ→ｒ−（Ｖ） ここで、Ｒはそれぞれ異っていてもよいアルキレン、ア
リーレン、アラルキレン、又は２価の複素環を表わし、
Ｌはそれぞれ異っていてもよいエーテル結合、アミド結
合、エステル結合、ウレタン結合、ウレイド結合を示す
、ｎはＯあるいは１あるいは２である。

本発明に用いられるポリマーとしては、アクリル系樹脂
、ビニルアルコール系樹脂を含むビニル重合系樹脂、ポ
リウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリビニルアセ
クール系樹脂、ポリアミド系樹脂、エポキシ樹脂等が含
まれるが、これらに限定されたもので：′！ない。これ
らのポリマーのうち、合成上の見地からビニル重合系樹
脂が好ましい。

上記カルボキシル基含有骨格及び増感剤骨格をポリマー
に導入するには、ポリマーがビニル重合系樹脂の場合は
、例えば下記一般式（Ｖｌ）に示されるようなカルボキ
シル基含有骨格を有するモノマー、増感剤骨格及び重合
可能なエチレン性不飽和結合を有するモノマー、及び必
要に応じてこれらと共重合し得る他のモノマー（例えば
アクリル酸エステル、メタクリル酸エステルなど）を共
重合すればよい。

このように共重合させて得たポリマーは、ブロック体、
ランダム体、グラフト体等いずれであってもよい。

（式中、ＥはＣＨ３あるいは水素原子を表わし、２は連
結基を表わす。連結基としては、アルキレン基、アリー
レン基、アラルキレン基、エーテル結合、アミド結合、
エステル結合、ウレタン結合又はこれらの基又：ま結合
を２以上含む基が含まれる。

Ｘ、　Ｙ、　Ｔ、　　ｊ２及ヒｋｉｔ各々、前記一般式
（Ｉ）に示されるものと同様である。） あるいは高分子反応を用いて、ビニル重合系樹脂ポリマ
ーにカルボキシル基含有骨格及び増感剤骨格を導入して
もよい。

上記増感剤骨格及び重合可能なエチレン性不飽和結合を
含むモノマーとしては下記構造式で示されるものが含ま
れる。

ＣＨ２＝Ｃ−２−３ ！ ここでＥおよび２は一般式（ＶＴ）と同義であり、Ｓは
増感剤骨格を表わす。

具体的には以下のものが挙げられるが、これらに限定さ
れたものではない。

（Ｓ−３） ＣＨ２＝ＣＨ す （Ｓ＝４） Ｃ）Ｉｆｆ Ｃ）１．＝ｃ ■ （Ｓ−８） 上記必要に応じて共重合に用いられる他のモノマーとし
ては、例えばアクリル酸エステル類、アクリルアミド類
、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド類、アリ
ル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、スチ
レン類、クロトン酸エステル類などから選ばれる付加重
合性不飽和結合を１個有する化合物が挙げられる。具体
的には、例えばアクリル酸エステル類、例えばアルキル
（該アルキル基の炭素原子数は１〜１０のものが好まし
い）アクリレート（例えばアクリル酸メチル、アクリル
酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、ア
クリル酸アミル、アクリル酸エチルヘキシル、アクリル
酸オクチル、アクリル酸−ｔ−オクチル、クロルエチル
アクリレート、２．２−ジメチルヒドロキシプロピルア
クリレート、５−ヒドロキシペンチルアクリレート、ト
リメチロールプロパンモノアクリレート、ペンタエリス
リトールモノアクリレート、グリシジルアクリレート、
２−ヒドロキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレ
ート、メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアク
リレート、テトラヒドロフルフリルアクリレートなど）
、アリールアクリレート（例えばフェニルアクリレート
など）；メタクリル酸エステル類、例えば、アルキル（
該アルキル基の炭素原子数は１〜１０のものが好ましい
）メタクリレート（例えばメチルメタクリレート、エチ
ルメタクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロ
ピルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシル
メタクリレート、シクロへキシルメタクリレート、ベン
ジルメタクリレート、クロルベンジルメタクリレート、
オクチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタク
リレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、５−
ヒドロキシペンチルメタクリレート、２．２−ジメチル
−３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、トリメチロ
ールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルモノメタクリレート、グリシジルメタクリレート、フ
ルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタ
クリレートなど）、アリールメタクリレート（例えば、
フェニルメタクリレート、タレジルメタクリレート、ナ
フチルメタクリレートなど）；アクリルアミド類、例え
ばアクリルアミド、Ｎ−アルキルアクリルアミド（該ア
ルキル基としては、炭素原子数１〜ｌＯのもの、例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ｔ−ブチ
ル基、ヘプチル基、オクチル基、シクロヘキシル基、ベ
ンジル基、ヒドロキシエチル基、ベンジル基などがある
。）、Ｎ−アリールアクリルアミド、ｐ−ヒドロキシフ
ェニルアクリルアミド（該アリール基としては、例えば
フェニル基、トリル基、ニトロフェニル基、ナフチル基
、ヒドロキシフェニル基などがある。）、Ｎ。

Ｎ−ジアルキルアクリルアミド（該アルキル基としては
、炭素原子数１〜１０のもの、例えばメチル基、エチル
基、ブチル基、イソブチル基、エチルヘキシル基、シク
ロヘキシル基などがある。）、Ｎ、Ｎ−アリールアクリ
ルアミド（該アリール基としては、例えばフェニル基な
どがある。）、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアクリルアミ
ド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルアクリルアミド
、Ｎ−２−アセトアミドエチル−Ｎ−アセチルアクリル
アミドなど；メタクリルアミド類、例えばメタクリルア
ミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド（該アルキル基と
しては、炭素原子数１〜１０のもの、例えばメチル基、
エチル基、し−ブチル基、エチルヘキシル基、ヒドロキ
シエチル基、シクロヘキシル基などがある。）、Ｎ−ア
リールメタクリルアミド、ｐ−ヒドロキシフェニルメタ
クリルアミド（核子り−ル基としては、フェニル基など
がある。）、Ｎ、Ｎ−ジアルキルメタクリルアミド（該
アルキル基としては、エチル基、プロピル基、ブチル基
などがある。）、Ｎ、Ｎ−ジアリールメタクリルアミド
（該アリール基としては、フェニル基などがある。）、
Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメタクリルアミド、
Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−エチ
ル−Ｎ−フェニルメタクリルアミドなど；アリル化合物
、例えばアリルエステル類（例えば酢酸アリル、カプロ
ン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パ
ルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリ
ル、アセト酢酸アリル、乳酸アリルなど）、アリルオキ
シエタノールなど；ビニルエーテル類、例えばアルキル
ビニルエーテル（例エバヘキシルビニルエーテル、オク
チルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘ
キシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル
、エトキシエチルビニルエーテル、クロルエチルビニル
エーテル、１−メチル−２，２−’；メチルプロピルビ
ニルエーテル、２−エチルブチルエーテル、ヒドロキシ
エチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエ
ーテル、ジメチルアミンエチルビニルエーテル、ジエチ
ルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビ
ニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロ
フルフリルビニルエーテルなど）、ビニルアリールエー
テル（例えばビニルフェニルエーテル、ビニルトリルエ
ーテル、ビニルクロルフェニルエーテル、ビニル−２，
４−ジクロルフェニルエーテル、ビニルナフチルエーテ
ル、ビニルアントラニルエーテルなど）；ビニルエステ
ル類、例えばビニルブチレート、ビニルイソブチレート
、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテ
ート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビニルク
ロルアセテート、ビニルジクロルアセテート、ビニルメ
トキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニル
フェニルアセテート、ビニルアセトアセテート、ビニル
ラクテート、ビニル−β−フェニルブチレート、ビニル
シクロへキシルカルボキシレート、安息香酸ビニル、サ
リチル酸ビニル、クロル安息香酸ビニル、テトラクロル
安息香酸ビニル、ナフトエ酸ビニルなど；スチレン類、
例えばスチレン、アルキルスチレン（例えばメチルスチ
レン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチル
スチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、
ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルス
チレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロルメ
チルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシ
メチルスチレン、アセトキシメチルスチレンなど）、ア
ルコキシスチレン（例えばメトキシスチレン、４−メト
キシ−３−メチルスチレン、ジメトキシスチレンなど）
、ハロゲンスチレン（例えばクロルスチレン、ジクロル
スチレン、トリクロルスチレン、テトラクロルスチレン
、ペンタクロルスチレン、ブロムスチレン、ジブロムス
チレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、トリフル
オロスチレン、２−ブロム−４−トリフルオロメチルス
チレン、４−フルオロ−３−トリフルオロメチルスチレ
ンなど）；クロトン酸エステル類、例えば、クロトン酸
アルキル（例えばクロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシ
ル、グリセリンモノクロトネートなど）；イタコン酸ジ
アルキル類（例えばイタコン酸ジメチル、イタコン酸ジ
エチル、イタコン酸ジブチルなど）；マレイン酸あるい
はフマール酸のジアルキル類（例えばジメチルマレエー
ト、ジブチルフマレートなど）；アクロニトリル、メタ
クロニトリル等があるが、これらに限定されたものでは
ない。これらのモノマーを２種以上組み合わせて用いる
こともできる。

また、ポリマーがポリウレタン樹脂の場合は、例えば下
記一般式（■）に示されるようなカルボキシル基含有骨
格を有するジオール及び下記一般式（■）に示されるよ
うな増感剤骨格を含むジオールをジイソシアネートと反
応させることにより得ることができる。

（ＨＯＣＨｚＣＨｚ＋Ｔ−Ｎ　−Ｚ−云Ｙ←−Ｘ→ＣＨ
２す、　ＣＯＯＴ（■） （式中、Ｘ、Ｙ、Ｔ、ｆ及びＫは各々、前記一般式に示
されるものと同様である。Ｚは連結基を意味し、単結合
を含む。） （ＨＯＣＨ２ＣＨ２？　Ｎ　−Ｚ　−Ｓ　　　　　　（
■）（式中、Ｚは連結基を意味し、単結合を含む。Ｓは
′増感剤骨格を意味する。） また、ポリマーがポリエステル樹脂の場合は、上記一般
式（■）に示されるようなジオール及び上記一般式（■
）に示されるようなジオールを両末端が酸クロライドと
なった化合物と反応させることにより得ることができる
。

本発明に用いられるポリマーの酸含量は６．０＋ｅｅｑ
／　ｇ　〜０．０１　＋ａｅｑ／　ｇが好ましく、３．
Ｏｍｅｑ／ｇ　〜０．１　ｍｅｑ　／　ｇが特に好まし
い。０．０１　ｍｅｑ／　ｇより低くなるにつれて、ア
ルカリ現像液による現像性が低下していき、他方、６．
　Ｏｍｅｑ／　ｇよりも高くなるにつれて、皮膜強度、
支持体への接着力が低下するようになるからである。ま
た、これらの樹脂中のカルボン酸には光により脱炭酸し
ないものを付加的に含んでいてもよい。また、光により
脱炭酸するカルボン酸含有骨格が同一のポリマー中に２
種以上導入されていてもよい。

本発明に用いられるポリマーの分子量はゲルパーミェー
ションクロマトグラフィーより測定して重量平均分子量
で２０００〜１００万が適当であるが、好ましくは８０
００〜２０万である。８０００よりも小さくなるにつれ
て、現像時に画像が傷つきやすくなり、２０万より大き
くなると現像性が低下してい（からである。

更に上記ポリマーを２種以上使用したり、上記ポリマー
と、カルボキシル基含有骨格及び／又は増感剤骨格を有
しないポリマーとを混合して、使用してもよい。

この場合、他のポリマーを混合できる割合は全画像形成
層に対し９５重量％以下である。他の樹脂の量が９５重
量％よりも多くなるにつれて、本発明によるポリマーを
用いたことによる特長が減少するからである。混入され
るポリマーとしてはポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポ
リビニルアセクール樹脂等を挙げることができる。

−ｉに、本発明に用いられるポリマー中におけるカルボ
キシル基含有骨格の増感剤骨格に対するモル比は０．１
以上が好ましいが、特に０．５以上が好ましい。

また、ポリマーがビニル系重合樹脂の場合は、カルボキ
シル基含有骨格を有するモノマーはポリマー中に０．５
〜９５モル％、増感剤骨格を有するモノマーはポリマー
中に０．５〜５０モル％導入するのが好ましい。

また、本発明の画像形成層にはジアゾニウム化合物を添
加してもよい。本発明に用いられるジアゾニウム化合物
としては米国特許第３８６７１４７号記載のジアゾニウ
ム化合物、米国特許第２６３２７０３号明細書記載のジ
アゾニウム化合物などが挙げられるが、特に芳香族ジア
ゾニウム塩と活性なカルボニル基含有化合物（例えば、
ホルムアルデヒド）との縮合物で代表されるジアゾ樹脂
が有用である。

好ましいジアゾ樹脂には、例えばｐ−ジアゾジフェニル
アミンとホルムアルデヒド又はアセトアルデヒドの縮合
物のへキサフルオロリン酸塩、テトラフルオロホウ酸塩
、リン酸塩が含まれる。また、米国特許第３３００３０
９号に記載されているようなｐ−ジアゾジフェニルアミ
ンとホルムアルデヒドとの縮合物のスルホン酸塩（例え
ば、ｐ−トルエンスルホン酸塩、２−メトキシ−４−ヒ
ドロキシ−５−ベンゾイルベンゼンスルホン酸塩など）
ホスフィン酸塩（例えば、ベンゼンスルホン酸塩など）
、ヒドロキシ基含有化合物塩（例えば、２４−ジヒドロ
キシベンゾフェノン塩など）、有機カルボン酸塩なども
好ましい。

更には特開昭５８−２７１４１号公報に示されているよ
うなジアゾ樹脂、特に３−メトキシ−４−ジアゾ−ジフ
ェニルアミンを４，４−ビス−メトキシ−メチル−ジフ
ェニルエーテルで縮合させメシチレンスルホン酸塩とし
たものなども適当である。

また特開平１−１０２４５７号、同１−２５４９４９号
、同２−６６号、同２−２９６５０号、同１−２４５２
４６号の各公報に記載されたアルカリ可溶性基を有する
ジアゾニウム塩化合物であってもよい。

これらのジアゾニウム化合物の全画像形成層に対する添
加量は０．１〜５０重量％が好ましく、より好ましくは
３〜１５重量％である。１重量％より少ないと支持体と
の密着性が改良されず、一方、５０重量％より多いと膜
質が悪化する。

さらに、本発明の画像形成層には染料を添加してもよい
。好適な染料としては、油溶性染料、例えば、Ｃ，１，
２６１０５（オイルレッドＲＲ）、Ｃ，１，２１２６０
（オイルブルーレツト＃３０Ｂ）、Ｃ，１，７４３５０
（オイルブルー）、Ｃ，１，５２０１５（メチレンブル
ー）、Ｃ，１，４２５５５（クリスタルバイオレット）
、Ｃ，１，４２５９５（ビクトリアピュアブルー）など
が含まれる。

これらの染料の全画像形成層に対する添加量は０．０１
〜２０．０重量％が好ましい。

また、本発明の画像形成層には、特開昭６４−３２２５
５号公報に記載の低分子増悪剤を添加してもよい。

更にまた、本発明の画像形成層にはエチレン性不飽和結
合を有する重合可能な化合物を添加してモヨイ。ここに
、エチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合物とは
、その化学構造中に少なくとも１個のエチレン性不飽和
結合を有する化合物であって、モノマー、プレポリマー
、すなわち２量体、３量体および他のオリゴマーそれら
の混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態を
もつものである。それらの例としては不飽和カルボン酸
およびその塩、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコー
ル化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価
アミン化合物とのアミド等が挙げられる。

不飽和カルボン酸の具体例としては、アクリル酸、メタ
クリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、
マレイン酸などがある。

不飽和カルボン酸の塩としては、前述の酸のアルカリ金
属塩、たとえば、ナトリウム塩およびカリウム塩などが
ある。

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエ
ステルの具体例としてはアクリル酸エステルとして、エ
チレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコ
ールジアクリレート、１．３−ブタンジオールジアクリ
レート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プ
ロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリア
クリレート、１．４−シクロヘキサンジオールジアクリ
レート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ベ
ンクエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラア
クリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、
ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエ
リスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリト
ールへキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレー
ト、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペ
ンタアクリレート、ソルビトールへキサアクリレート、
ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。メタク
リル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジ
メタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレ
ート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ト
リメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリ
コールジメタクリレート、１．３−ブタンジオールジメ
タクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート
、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタ
エリスリトールジメタクリレート、ソルビトールトリア
クリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス
−（ｐ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロ
ポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス−（ｐ−（メ
タクリルオキシエトキシ）フェニル］、ジメチルメタン
等がある。イタコン酸エステルとしては、エチレングリ
コールシイタコネート、プロピレングリコールシイタコ
ネート、１．３−ブタンジオールシイタコネート、１．
４−ブタンジオールシイタコネート、テトラメチレング
リコールシイタコネート、ペンタエリスリトールシイタ
コネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。

クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジク
ロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート
、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトール
テトラクロトネート等がある。イソクロトン酸エステル
としては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペ
ンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトール
テトライソクロトネート等がある。マレイン酸エステル
としては、エチレングリコールシマレート、トリエチレ
ングリコールシマレート、ペンタエリスリトールシマレ
ート、ソルビトールテトラマレート等がある。

さらに、前述のエステルの混合物も挙げることができる
。

脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミド
の具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メ
チレンビス−メタクリルアミド、１．６−へキサメチレ
ンビス−アクリルアミド、１．６−へキサメチレンビス
−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアク
リルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレ
ンビスメタクリルアミド等がある。

その他の例としては、特公昭４Ｂ−４１７０８号公報中
に記載されている１分子に２個以上のイソシアネート基
を有するポリイソシアネート化合物に、下記の一般式（
ＩＸ）で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付
加せしめた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有
するビニルウレタン化合物等が挙げられる。

Ｃ１２−Ｃ（Ｒ）ＣＯＯＣＨＩＣＨ（Ｒ’）０１（（Ｉ
Ｘ）（ただし、ＲおよびＲ′はＨあるいはＣＨ，を示す
。）これらエチレン性不飽和結合を有する重合可能な化
合物の全画像形成層に対する添加量は１〜８０重量％が
好ましく、より好ましくは５〜６０重量％である。

以上の他に、本発明の感光性組成物には必要に応じて、
顔料、安定剤、充てん剤、界面活性剤、可塑剤、汚れ防
止剤、感脂化剤などを添加して性能の改良を図ることも
できる。

本発明の画像形成層は通常、溶剤に溶解した後、適当な
支持体に塗布し、乾燥して使用される。その塗布量は乾
燥重量で約０．０１〜５００　ｇ／ｍ２、好ましくは０
．１〜２００ｇ／ｍ”である。

かかる’４１ＮＩとしては、例えばメタノール、エタノ
ール、イソプロパツール、ｎ−ブタノール、ｔ−ブタノ
ール、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノー
ル、２−メトキシエチルアセテート、エチレングリコー
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルスルホ
キシド、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトン、メ
チルエチルケトン、１−メトキシ−２−プロパツール、
２−メトキシ−１−プロパツール、１−メトキシ−２−
アセトキシプロパン、２−メトキシ−１−アセトキシプ
ロパン、酢酸エチル、酢酸メチル、トルエン、キシレン
など及びこれらの混合物が使用される。

本発明の画像形成層が塗布される支持体としては、例え
ば、紙、プラスチツクス（例えばポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリスチレンなど）がラミネートされた紙、
例えばアルミニウム（アルミニウム合金も含む。）、亜
鉛、銅などのような金属の板、例えば二酢酸セルロース
、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セ
ルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン
、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセ
タールなどのようなプラスチックのフィルム、上記の如
き金属がラミネート、もしくは蒸着された紙もしくはプ
ラスチックフィルムなどが含まれる。これらの支持体の
うち印刷版として用いる場合、アルミニウム板は寸度的
に著しく安定であり、しかも安価であるので特に好まし
い。

更に、特公昭４Ｂ−１８３２７号公報に記されているよ
うなポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニ
ウムシートが結合された複合体シートも好ましい。

金属、特にアルミニウムの表面を有する支持体の場合に
は、電解グレイン処理、複合グレイン処理、砂目立て処
理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム酸カリウム、リン酸
塩等が水溶液への浸漬処理、あるいは陽極酸化処理など
の表面処理がなされていることが好ましい。好ましい陽
極酸化処理には、英国特許第１４１２，７６８号明細書
に記載されている硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方
法および米国特許筒３，５１Ｌ６６１号明細書に記載さ
れている燐酸を電解浴として陽極酸化する方法、特公昭
４６４３１２４号、特開昭５２−１０３２０８号や、同
５５−２８４００号の各公報に記載されているような燐
酸と硫酸の混酸中で陽極酸化する方法が含まれる。また
、砂目立てしたのちに珪酸ナトリウム水溶液に浸漬処理
されたアルミニウム板、特公昭４７−５１２５号公報に
記載されているようにアルミニウム板を陽極酸化処理し
たのちに、アルカリ金属球°酸塩の水溶液に浸漬処理し
たものも好適に使用される。上記陽極酸化処理は、例え
ば、りん酸、クロム酸、硫酸、硼酸等の無機酸、若しく
は、蓚酸、スルファミン酸等の有機酸またはこれらの塩
の水溶液又は非水溶液の単独又は二種以上を組み合わせ
た電解液中でアルミニウム板を陽極として電流を流すこ
とにより実施される。

また砂重量て処理、陽極酸化後、封孔処理を施したもの
も好ましい。かかる封孔処理は珪酸ナトリウム水溶液、
ポリビニルホスホン酸水溶液、熱水及び無機塩又は有機
塩を含む熱水溶液への浸漬並びに水蒸気浴などによって
行われる。

また、米国特許第３，６５８，６６２号明細書に記載さ
れているようなシリケート電着も有効である。

支持体上に塗布された本発明の画像形成層は線画像、網
点画像等を有する透明原画を通して露光し、次いで水性
現像液で現像することにより、原画に対してネガのレリ
ーフ像を与える。

露光に使用される光源としてはカーボンアーク灯、水銀
灯、キセノンランプ、タングステンランプ、メタルハラ
イドランプ、アルゴンレーザーなどがあるが、それらに
限られない。

本発明に係る画像形成層の現像処理に用いられる現像液
は公知のいずれであっても良いが、好ましくは以下のも
のがよい。すなわち、本発明に係る画像形成層を現像す
る現像液は、少なくとも１種のアルカリ剤と、水とを必
須成分として含有する。

現像液中に必須成分として含有されるアルカリ剤として
は、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化カリウム、
水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第二又は第三リン
酸のナトリウム又はアンモニウム塩、メタ珪酸ナトリウ
ム、炭酸ナトリウム、アンモニア等の無機アルカリ剤、
モノ、ジ、又はトリメチルアミン、モノ、ジ又はトリエ
チルアミン、モノ、ジ又はトリイソプロピルアミン、ｎ
　−ブチルアミン、モノ、ジ又はトリエタノールアミン
、モノ、ジ又はトリイソプロパツールアミン、エチレン
イミン、エチレンジイミン等の有機アミン化合物等が挙
げられる。

これらアルカリ剤の現像液中における含有量は０．０５
〜１０重量％で、好ましくは０．５〜５重量％である。

０．０５重量％より少ないと現像が不良となり、１０重
量％を超えると現像時に画像が傷つきやすくなる。

本発明に係わる画像形成層を現像する現像液は、必要に
応して、特定の有機溶媒を含有していてもよい。

このような有機溶媒としては、現像液中に含有せしめた
とき上述の画像形成層の非露光部（非画像部）を溶解ま
たは膨潤することができ、しかも常温（２０”Ｃ）にお
いて水に対する溶解度が１０重量％以下の有機溶媒をい
う。このような有機溶媒としてはこのような特性を有す
るものでありさえすればなんでもよ（、次のものが挙げ
られるがこれらに限定されるものではない。即ち、例示
するならば、例えば酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブ
チル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、エチレングリコール
モノブチルアセテート、乳酸ブチル、レブリン酸ブチル
のようなカルボン酸エステル；エチルブチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、シクロヘキサノンのようなケト
ン類；エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレ
ングリコールヘンシルエーテル、エチレングリコールモ
ノフェニルエーテル、ベンジルアルコール、メチルフェ
ニルカルビノール、ｎ−アミルアルコール、メチルアミ
ルアルコールのようなアルコール類；キシレンのような
アルキル置換芳香族炭化水素；メチレンジクロライド、
エチレンジクロライド、モノクロルベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素などがある。これら有機溶媒は一種以
上用いてもよく、二種以上組み合わせて用いてもよい。

これら有機溶媒の中では、エチレングリコールモノフェ
ニルエーテルとベンジルアルコール力特に有効である。

また、これら有機溶媒の現像液中における含有量は、概
ね０〜２０重量％であり、特に２〜１０重量％のときよ
り好ましい結果を得る。

また、本発明に係わる画像形成層を現像する現像液は、
必要に応じて水溶性亜硫酸塩を含有しても良い。このよ
うな水溶性亜硫酸塩としては、亜硫酸のアルカリ又はア
ルカリ土類金属塩が好ましく、例えば亜硫酸ナトリウム
、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸マグネシウ
ムなどがある。

これらの亜硫酸塩の現像液組成物における含有量は０〜
４重量％で、好ましくは０．１〜１重量％である。

また、上記水溶性亜硫酸塩の代わりにアルカリ可溶性ピ
ラゾロン化合物、アルカリ可溶性チオール化合物、又は
メチルレゾルシン等のようなヒドロキシ芳香族化合物を
含有させてもよい。勿論、これらの化合物と水溶性亜硫
酸塩を併用することもできる。

上述の有機溶媒の水への溶解を助けるために一定の可溶
化剤を含有させることもできる。このような可溶化剤と
しては、本発明所定の効果を実現するため、用いる有機
溶媒より水易溶性で、低分子のアルコール、ケトン類を
用いるのがよい。

また、アニオン活性剤、両性活性側等も用いる事が出来
る。このようなアルコール、ケトン類としては、例えば
メタノール、エタノール、プロパツール、ブタノール、
アセトン、メチルエチルケトン、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエー
テル、メトキシブタノール、エトキシブタノール、４−
メトキシ−４−メチルブタノール、Ｎ−メチルピロリド
ンなどを用いることが好ましい。また、活性剤としては
、例えばイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム
、ｎ−ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、Ｎ−メ
チル−Ｎ−ペンタデシルアミノ酢酸ナトリウム、ラウリ
ルサルフェートナトリウム塩等が好ましい。これらアル
コール、ケトン等の可溶化剤の使用量は、一般に現像液
全体に対し約３０重量％以下とすることが好ましい。

本発明の画像形成層は主には印刷版及びレジスト材料と
して用いられる。

〔発明の効果〕

本発明の画像形成層は高悪魔であり、かつ現像時に画像
部が傷つきにくい。

次に実施例により本発明を説明するが、本発明はこれら
に限定されるものではない。なお、実施例中の％は特に
指定のない限り重量％を意味する。

合成例 表１に示す各七ツマ−をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
に溶解しくモノマー１ｍｏｌに対しＴＨＦ３００ＩＩｌ
ｌ）、窒素気流下６５°Ｃに昇温した。次に・アゾビス
イソブチロニトリルを加え撹拌を行った。（モノマー１
＋＋＋ｏｌに対しアゾビスイソブチロニトリルＩｇ）。

１０時間撹拌後、重合液を１０１の水に投入してポリマ
ーを析出させた。析出したポリマーをろ過した後乾燥し
た。

実施例１〜１３ 下記の感光液を調製し、ロッドコーターで２５μ厚のポ
リエチレンテレフタレートフィルムに乾燥膜厚が１０μ
になるように塗布して、８０’Ｃのオーブン中で２分間
乾燥した。

玉友沃 ２−メトキシエタノール　　　　　５ｇこうして得られ
た画像形成層を、富士写真フィルム■製ステップウェッ
ジを通して富士写真フィルム■製ＰＳライトで１ｍの距
離から５分間画像露光し、次に示す現像液にて室温で１
分間浸漬した後、脱脂綿で軽くこすりながら水洗し、未
露光部を除去し、明るい黄色の画像を得た。

咀諏員 炭酸ナトリウム　　　　　　　　　５ｇ２−メトキシエ
タノール　　　　　５ｇ水 ０００ｇ 結果を表２に示す。

比較例１．２ ポリマーＮｏ、　１４．１５を含む下記の感光液を用い
たことを除いては、実施例１〜１３と同様にして明るい
黄色の画像を得た。

感光液 フェナジン　　　　　　　　　　　０．１ｇ２−メトキ
シエタノール　　　　　５ｇ結果を表２に示す。

表 表２かられかるように、 本発明の画像は比較例 の画像に比べて感度がよく、 かつ現像時に画像が 傷つきにくい。

実施例１４〜２６ 厚さ０．２４　ｍｍのアルミニウム板をナイロンブラシ
と４００メツシユのパミストンの水性懸濁液を用いてそ
の表面を砂目室てした後、よく水で洗浄した。これを１
０％水酸化ナトリウム水溶液に７０°Ｃで６０秒間浸漬
してエツチングした後、流水で水洗後２０％硝酸水溶液
で中和洗浄後、特開昭５３−６７５０７号公報記載の電
気化学的粗面化法、即ち、ＶＡ＝１２．７Ｖ、Ｖ、＝９
．ＩＶ（７）正弦波交番波形電流を用い、１％硫酸水溶
液中で１６０クローン／　ｄｍ　：ｌの陽極特電気量で
電解粗面化処理を行った。引き続き、３０％の硫酸水溶
液中に浸漬し５５°Ｃで２分間デスマットした後、７％
硫酸水溶液中で厚さが２．０ｇ／ｍ”になるように陽極
酸化処理を行った。その後７０°Ｃの珪酸ナトリウムの
３％水溶液に１分間浸漬処理し、水洗、乾燥した。

以上のようにして得られたアルミニウム板に、次に示す
感光液をホイラーを用いて塗布し、８０°Ｃで２分間乾
燥した。乾燥重量は２．０ｇ／ｍ２であった。

感光液 ２−メトキシエタノール　　　　　８．５ｇこうして得
られた感光性平版印刷原版を富士写真フィルム■製ＰＳ
ライトで１ｍの距離からステップウェッジを通して１０
分間画像露光し、次に示す現像液にて室温で１分間浸漬
した後、脱脂綿でこすりながら水洗し、未露光部を除去
し、明るい青色の画像の平版印刷版を得た。

−里復瓜−１ 亜硫酸ナトリウム　　　　　　　　　５ｇベンジルアル
コール　　　　　　　３０ｇ炭酸ナトリウム　　　　　
　　　　　　５ｇ水　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　１０００ｇ結果を表３に示す。

比較例３．４ ポリマーＮ０１４．１５を含む下記の感光液を用いたこ
とを除いては、実施例１４〜２６と同様にして明るい青
色の画像の平版印刷版を得た。

感光液 フェナジン ２−メトキシエタノール 結果を表３に示す。

０．２ｇ ８．５ｇ 表 表３かられかるように、 本発明の画像の平版印 刷版は、 比較例の画像の平版印刷版に比べて感度がよく、かつ現
像時に画像が傷つきにくい。

実施例２７〜３９ 厚さ０．２４−のアルミニウム板をナイロンブラシと４
００メツシユのパミストンの水性懸濁液を用いてその表
面を砂目室てした後、よく水で洗浄した。これを１０％
水酸化ナトリウム水溶液に７０°Ｃで６０秒間浸漬して
エツチングした後、流水で水洗後２０％硝酸水溶液で中
和洗浄後、特開昭５３−６７５０７号公報記載の電気化
学的粗面化法、即ち、ＶＡ＝１２．７Ｖ、■ゎ＝９．１
■の正弦波交番波形電流を用い、１％硫酸水溶液中で１
６０クローン／ｄＩＩｌコの陽極特電気量で電解粗面化
処理を行った。引き続き３０％の硫酸水溶液中に浸漬し
、５５°Ｃで２分間デスマットした後、７％硫酸水溶液
中で厚さが２．０ｇ／ｍ２になるように陽極酸化処理を
行った。その後、７０″Ｃの珪酸ナトリウムの３％水溶
液に１分間浸漬処理し、水洗、乾燥した。以上のように
して得られたアルミニウム板に次に示す感光液をホイラ
ーを用いて塗布し、８０°Ｃで２分間乾燥した。乾燥重
量は２．０　ｇ　７ｍ”であった。

悠友戒 ポリマーＮｏ、　１〜１３の ＴＨＦ２５　％？容液　　　　　　　　　　　　　　　
　　２．０ｇビクトリアピュアブルー ＢＯＨ０，０１８ｇ テトラヒドロフラン　　　　　　　１０ｇ４−ジアゾジ
フェニルアミンと ホルマリンの縮合物のＰＦ、塩　　　　０．０５　ｇこ
うして得られた感光性平版印刷原版を富士写真フィルム
■製ＰＳライトで１ｍの距離からステップウェッジを通
して５分間画像露光し、次に示す現像液にて室温で１分
間浸漬した後、脱脂綿でこすりながら水洗し、未露光部
を除去し、明るい青色の画像の平版印刷版を得た。

一里鬼柩一 亜硫酸ナトリウム　　　　　　　　　　５ｇベンジルア
ルコール　　　　　　　３０ｇ炭酸ナトリウム　　　　
　　　　　　　５ｇ水 ０００ｇ 結果を表４に示す。

比較例５．６ ボリマーＮｏ、　１４．１５を含む下記の感光液を用い
たことを除いては、実施例２７〜３９と同様にして明る
い青色の画像の平版印刷版を得た。

感光液 フェナジン テトラヒドロフラン 結果を表４に示す。

表 表４かられかるように、 本発明の画像の平版印 刷版は、 比較例の画像の平版印刷版に比べて感度がよく、かつ現
像時に画像が傷つきにくい。

実施例４０〜５２ 表１に記載のポリマーＮｏ、　１〜１３を含み、他の要
素は同一の下記感光液を調製し、ロッドコーターで、２
５μ厚のポリエチレンテレフタレートフィルムに乾燥膜
厚が約５０μになるように塗布し、１００°Ｃのオーブ
ン中で５分間乾燥した。

２．４−ジメチルチオキサントン　　０．３ｇＰ−ジメ
チルアミノ安息香酸エチル　０．３３ｇトリブロモメチ
ルフェニルスルホン　０．４ｇロイコメチルバイオレッ ト ０．０８ メチルセロソルブ　　　　　　　　１０ｇ整面し、乾燥
した銅張積層板上に、上記塗膜面が銅表面に接触するよ
うに、Ａ２４型ラミネーター　（Ｄｕ　Ｐｏｎｔ社製）
を用いて１２０°Ｃでラミネートした。配線パターン（
導体パターン（線幅１００μ）が不透明背景上に透明部
分として現れている高コントラスト透明体画像）を通し
て露光した（２ＫＷ超高圧水銀灯ニジエツトライト（オ
ーク■製）を使用）。ポリエチレンテレフタレートフィ
ルムを剥ぎ取り、４０°Ｃの１重量％炭酸ナトリウム水
溶液を１．５１Ｃｇ／ｃｔｌｌで６０秒間スプレーする
ことにより未露光部を除去した。得られるレジスト像の
画像の形成状況を観察した。

結果を表５に示す。

比較例７．８ ポリーマーＮｏ、１４．１５を含む下記の感光液を用い
たことを除いては、実施例４０〜５２と同様にしてレジ
スト像の画像を得た。

感光液 ２４−ジメチルチオキサントン　　０．３ｇＰ−ジメチ
ルアミノ安息香酸エチル　０．３３　ｇトリブロモメチ
ルフェニルスルホン　０．４ｇロイコメチルハ゛イオレ
ット ０、０８　ｇ フェナジン メチルセロソルブ 結果を表５に示す。

ｇ ０ｇ 表 表５かられかるように、 本発明のレジスト画像 の譬は、 比較例のレジスト画像の質より優れている。

実施例５３〜６５ 表１記載のポリマーＮｏ、　１〜１３を用いた下記感光
液を０．２μｍのミクロフィルターを用いて濾過し、フ
ォトレジスト組成物を調製した。このフォトレジスト組
成物をスピンナーを用いてシリコンウェハーに塗布し、
窒素雰囲気下に対流オーブンで９０°Ｃ１３０分間乾燥
して膜厚１．５μｍのレジスト膜を得た。この膜に縮小
投影露光装置を用いて露光した後、下記現像液で１分間
現像し、３０秒間水洗して乾燥した。

玉友鬼 ポリマーＮ０１〜１３　　　　　　　　５ｇ乳酸エチル
　　　　　　　　　　　１５ｇ反ｉ截 ベンジルアルコール　　　　　　　１５ｇ炭酸ナトリウ
ム　　　　　　　　　　　５ｇイソプロピルナフタレン スルホン酸ナトリウム　　　　　　　１２ｇ水　　　　
　　　　　　　　　　　　　　１０００ｇこの結果、得
られたすべてのレジスト画像の質は良好であった。

比較例９．１０ ポリマーＮ０１４．１５を含む下記の感光液を用いたこ
とを除いては、実施例５３〜６５と同様にしてレジスト
画像を得た。

感光液 ポリマー１４．１５　　　　　　　　５ｇフェナジン　
　　　　　　　　　　　０．１ｇ乳酸エチル　　　　　
　　　　　　１５ｇこの結果得られた画像の質は悪がっ
た。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 下記一般式（ I ）で示されるカルボキシル基を有する
   構成成分及び３２０ｎｍ以上にＵＶ吸収を有する構成成
   分を含むポリマーを含む画像形成層。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｘはイオウ、酸素、単結合、Ｃ＝ＷあるいはＮ
   −Ｕを意味し、Ｗは酸素、イオウを意味し、Ｕは置換基
   を有してもよいアリール基、アルキル基、水素原子を意
   味し、Ｙは置換基を有してもよいアルキレン、アリーレ
   ン、アラルキレン、２価の複素環を意味し、Ｔは水素原
   子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、▲数式、化学式
   、表等があります▼を表わす。 （ここで、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３はそれぞれ同一であ
   っても異なっていてもよく、水素原子、置換基を有して
   もよいアルキル基、アリール基を意味する。 またＲ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３は連結し環を形成していて
   もよい。）、Ｋは０あるいは１であり、ｌは０あるいは
   １であり、Ｋ＝０のときＸはＣ＝Ｗである。）。