JPH04187247A - 排気ガス浄化用触媒の製造方法 - Google Patents
排気ガス浄化用触媒の製造方法Info
- Publication number
- JPH04187247A JPH04187247A JP2316324A JP31632490A JPH04187247A JP H04187247 A JPH04187247 A JP H04187247A JP 2316324 A JP2316324 A JP 2316324A JP 31632490 A JP31632490 A JP 31632490A JP H04187247 A JPH04187247 A JP H04187247A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- vapor deposition
- exhaust gas
- metal
- cvd
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims abstract description 33
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 238000000746 purification Methods 0.000 title abstract description 19
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 38
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 38
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 29
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims abstract description 19
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 claims abstract description 18
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 29
- 238000005245 sintering Methods 0.000 abstract description 8
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 abstract description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 5
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 abstract description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 3
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 abstract description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract description 2
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 abstract description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 abstract 1
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 16
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 12
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 8
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 8
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 4
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 4
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- IXSUHTFXKKBBJP-UHFFFAOYSA-L azanide;platinum(2+);dinitrite Chemical compound [NH2-].[NH2-].[Pt+2].[O-]N=O.[O-]N=O IXSUHTFXKKBBJP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000006255 coating slurry Substances 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M (3-methylphenyl)methyl-triphenylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC1=CC=CC(C[P+](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- FXGFZZYDXMUETH-UHFFFAOYSA-L difluoroplatinum Chemical compound F[Pt]F FXGFZZYDXMUETH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K rhodium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Rh+3] SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- TXUZMGFRPPRPQA-UHFFFAOYSA-K trifluororhodium Chemical compound F[Rh](F)F TXUZMGFRPPRPQA-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/20—Air quality improvement or preservation, e.g. vehicle emission control or emission reduction by using catalytic converters
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Exhaust Gas After Treatment (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、自動車の排気ガスを浄化する排気ガス浄化用
触媒の製造方法に関する。
触媒の製造方法に関する。
従来より、自動車排気ガス浄化用の触媒としては、活性
アルミナをコートした担体上に白金を担持した触媒が広
く利用されている。しかして、この種触媒においては、
白金粒子を均一微細に担持することによって、高性能の
触媒を開発する努力がなされており、例えば特公昭１３
−１００４９号公報には、ジニトロジアンミン白金（Ｐ
ｔ（ＮＨ＊）ｓ（Ｎ ｏ ｓ）ｚ ）水溶液を用いて白
金を担持する方法、また特公昭６１−３８６２０号公報
には、ジニトロジアンミン白金を硝酸水溶液に溶解し、
熟成して得られる白金薬液を用いて白金を担持する方法
が開示されている。
アルミナをコートした担体上に白金を担持した触媒が広
く利用されている。しかして、この種触媒においては、
白金粒子を均一微細に担持することによって、高性能の
触媒を開発する努力がなされており、例えば特公昭１３
−１００４９号公報には、ジニトロジアンミン白金（Ｐ
ｔ（ＮＨ＊）ｓ（Ｎ ｏ ｓ）ｚ ）水溶液を用いて白
金を担持する方法、また特公昭６１−３８６２０号公報
には、ジニトロジアンミン白金を硝酸水溶液に溶解し、
熟成して得られる白金薬液を用いて白金を担持する方法
が開示されている。
前記２つの提案はいずれも水溶液を用いたいわゆる浸漬
法によるものであるが、さらに物理的蒸着法（ＰＶＤ法
）や化学的蒸着法（ＣＶＤ法）が用いられている。例え
ば、化学的蒸着法によるものとしては、フッ化白金およ
びフッ化ロジウムの混合気体を用いて、活性アルミナを
コート、した担体に、白金およびロジウムを担持させる
方法が提案されている（特願平１−２９３０６号）。
法によるものであるが、さらに物理的蒸着法（ＰＶＤ法
）や化学的蒸着法（ＣＶＤ法）が用いられている。例え
ば、化学的蒸着法によるものとしては、フッ化白金およ
びフッ化ロジウムの混合気体を用いて、活性アルミナを
コート、した担体に、白金およびロジウムを担持させる
方法が提案されている（特願平１−２９３０６号）。
ところで、ジニトロジアンミン白金水溶液を用いて、活
性アルミナをコートした担体に触媒を担持させる前記の
浸漬法は常温で行われることは勿論であるが、物理的蒸
着法による場合も化学的蒸着法による場合も、蒸着基板
となる活性アルミナコート担体の加熱温度はせいぜい３
００〜４００°Ｃである。
性アルミナをコートした担体に触媒を担持させる前記の
浸漬法は常温で行われることは勿論であるが、物理的蒸
着法による場合も化学的蒸着法による場合も、蒸着基板
となる活性アルミナコート担体の加熱温度はせいぜい３
００〜４００°Ｃである。
然るに、自動車用排気ガス浄化触媒として使用する温度
は８５０〜９００℃であって、従来方法によって製造さ
れた触媒を使用すると、貴金属の担持状態の良い初期の
段階では高浄化能を示すものの、高温で長時間使用する
と、貴金属粒子が凝集して粒成長を起こすいわゆるシン
タリングが発生し、浄化性能が著しく劣化するという問
題点がある。
は８５０〜９００℃であって、従来方法によって製造さ
れた触媒を使用すると、貴金属の担持状態の良い初期の
段階では高浄化能を示すものの、高温で長時間使用する
と、貴金属粒子が凝集して粒成長を起こすいわゆるシン
タリングが発生し、浄化性能が著しく劣化するという問
題点がある。
また、一方において活性アルミナのシンタリングを防止
する目的で、熱処理を行う技術もあるが、貴金属のシン
タリングまで完全の抑えることはできない。
する目的で、熱処理を行う技術もあるが、貴金属のシン
タリングまで完全の抑えることはできない。
本発明は、活性アルミナに白金等の貴金属を担持させて
排気ガス浄イヒ用触媒を製造する方法の前記のごとき問
題点を解決すべくなされたものであって、高温長時間使
用後の貴金属粒子の凝集によるシンタリングを防止して
、触媒性能が劣化せず耐久性に優れた排気ガス浄化用触
媒を製造することのできる方法を提供することを目的と
する。
排気ガス浄イヒ用触媒を製造する方法の前記のごとき問
題点を解決すべくなされたものであって、高温長時間使
用後の貴金属粒子の凝集によるシンタリングを防止して
、触媒性能が劣化せず耐久性に優れた排気ガス浄化用触
媒を製造することのできる方法を提供することを目的と
する。
発明者は活性アルミナに担持された貴金属の高温長時間
使用後におけるシンタリングを防止するため、種々の方
法について検討を重ねた。その結果、貴金属の蒸着温度
を高温化することを着想し、触媒使用時の温度以上で貴
金属の担持を行えば、高温における貴金属の凝集が防止
できることを新たに知見して、本発明を完成した。
使用後におけるシンタリングを防止するため、種々の方
法について検討を重ねた。その結果、貴金属の蒸着温度
を高温化することを着想し、触媒使用時の温度以上で貴
金属の担持を行えば、高温における貴金属の凝集が防止
できることを新たに知見して、本発明を完成した。
本発明の排気ガス浄化用触媒の製造方法は、活性アルミ
ナをコートしたメタル担体を１０００℃以上に加熱し、
物理的蒸着法（ＰＶＤ法）または化学的蒸着法（ＣＶＤ
法）により前記メタル担体に触媒金属を担持させること
を要旨とする。
ナをコートしたメタル担体を１０００℃以上に加熱し、
物理的蒸着法（ＰＶＤ法）または化学的蒸着法（ＣＶＤ
法）により前記メタル担体に触媒金属を担持させること
を要旨とする。
本発明が適用される物理的蒸着法（ＰＶＤ法）には、真
空蒸着法、スパッタリング、イオンブレーティング等を
用いることができる。また、化学的蒸着法（ＣＶＤ法）
ニハ、熱ＣＶＤ、光ＣＶＤ。
空蒸着法、スパッタリング、イオンブレーティング等を
用いることができる。また、化学的蒸着法（ＣＶＤ法）
ニハ、熱ＣＶＤ、光ＣＶＤ。
プラズマＣＶＤ等を用いることができる。
本発明の排気ガス浄化用触媒の製造方法は、蒸着基板と
なる活性アルミナをコートしたメタル担体を、自動車排
気ガス浄化触媒の使用温度以上である１０００°Ｃ以上
に加熱して、物理的蒸着法（ＰＶＤ法）または化学的蒸
着法（ＣＶＤ法）により前記メタル担体に触媒金属を担
持させるものであるため、担持された貴金属触媒粒子は
自動車排気ガス浄化用触媒として長時間使用されても、
貴金属粒子が凝集せず、シンタリングが防止されて、触
媒性能が劣化せず、耐久性に優れた排気ガス浄化用触媒
を製造することができる。
なる活性アルミナをコートしたメタル担体を、自動車排
気ガス浄化触媒の使用温度以上である１０００°Ｃ以上
に加熱して、物理的蒸着法（ＰＶＤ法）または化学的蒸
着法（ＣＶＤ法）により前記メタル担体に触媒金属を担
持させるものであるため、担持された貴金属触媒粒子は
自動車排気ガス浄化用触媒として長時間使用されても、
貴金属粒子が凝集せず、シンタリングが防止されて、触
媒性能が劣化せず、耐久性に優れた排気ガス浄化用触媒
を製造することができる。
本発明の実施例について、従来例と比較しつつ説明し、
本発明の効果を明らかにする。なお、本実施例において
、部は全て重量部を表す。
本発明の効果を明らかにする。なお、本実施例において
、部は全て重量部を表す。
（実施例１）
アルミナ粉末１００部に対して、アルミナ含有率１０％
のアルミナシルア０部、４０重量％の硝酸アルミニウム
水溶液１５部、水３０部を加えて攪拌し、コーティング
スラリーとした。このコーティングスラリーにメタル平
板を浸漬して引き上げることにより、メタル平板にコー
ティングした後、２５０℃で１時間乾燥し、更に７００
℃で１時間焼成し、活性アルミナコートメタル平板担体
を製造した。なお、コート量はメタル平板を最終的にモ
ノリスハニカム状に加工した場合に担体１１当たり１０
０ｇになるようにした。
のアルミナシルア０部、４０重量％の硝酸アルミニウム
水溶液１５部、水３０部を加えて攪拌し、コーティング
スラリーとした。このコーティングスラリーにメタル平
板を浸漬して引き上げることにより、メタル平板にコー
ティングした後、２５０℃で１時間乾燥し、更に７００
℃で１時間焼成し、活性アルミナコートメタル平板担体
を製造した。なお、コート量はメタル平板を最終的にモ
ノリスハニカム状に加工した場合に担体１１当たり１０
０ｇになるようにした。
続いて、第１図に示すように、製造された活性アルミナ
コートメタル平板担体２をロール１より送り出して蒸着
基板とし、ヒータ３で１０００℃に加熱しながら、５Ｘ
１０−’Ｔｏｒｒの真空中で、蒸発材料として金属白金
４および金属ロジウム５を用いて、電子ビーム６で溶融
して、真空蒸着を行い、活性アルミナコートメタル平板
担体２上に白金およびロジウムの蒸着膜を形成した。な
お、蒸着量は、メタル平板担体２をモノリスハニカム状
に加工した場合に、担体１１当たり白金が１゜５ｇ１０
ジウムが０．８ｇになるようにメタル平板に均一に蒸着
した。
コートメタル平板担体２をロール１より送り出して蒸着
基板とし、ヒータ３で１０００℃に加熱しながら、５Ｘ
１０−’Ｔｏｒｒの真空中で、蒸発材料として金属白金
４および金属ロジウム５を用いて、電子ビーム６で溶融
して、真空蒸着を行い、活性アルミナコートメタル平板
担体２上に白金およびロジウムの蒸着膜を形成した。な
お、蒸着量は、メタル平板担体２をモノリスハニカム状
に加工した場合に、担体１１当たり白金が１゜５ｇ１０
ジウムが０．８ｇになるようにメタル平板に均一に蒸着
した。
貴金属担持後の活性アルミナコートメタル平板担体２は
、ロール７で巻取り、従来法によりモノリスハニカム状
に加工した。
、ロール７で巻取り、従来法によりモノリスハニカム状
に加工した。
（比較例１）
実施例１で製造した活性アルミナコートメタル平板担体
を蒸着基板とし、ヒータによる加熱を行わず常温で、５
Ｘ１０−’Ｔｏｒｒの真空中で、電子ビームを加熱源と
して、白金およびロジウムを真空蒸着した。なお、蒸着
量は、実施例１と同様にメタル平板担体をモノリスハニ
カム状に加工した場合に、担体１１当たり白金が１１．
５ｇ１０ジウムが０．３ｇになるようにメタル平板に均
一に蒸着した。
を蒸着基板とし、ヒータによる加熱を行わず常温で、５
Ｘ１０−’Ｔｏｒｒの真空中で、電子ビームを加熱源と
して、白金およびロジウムを真空蒸着した。なお、蒸着
量は、実施例１と同様にメタル平板担体をモノリスハニ
カム状に加工した場合に、担体１１当たり白金が１１．
５ｇ１０ジウムが０．３ｇになるようにメタル平板に均
一に蒸着した。
貴金属担持後の活性アルミナコートメタル平板担体は、
従来法によりモノリスハニカム状に加工した。
従来法によりモノリスハニカム状に加工した。
（比較例２）
実施例１と同じ方法で製造した活性アルミナコートメタ
ル平板担体を、ジニトロジアンミン白金溶液に浸漬して
、メタル平板担体がモノリスハニカム状に加工された場
合に、担体ＩＩｌ当たり白金が１．５ｇとなるように担
持せしめた後１時間放置し、２５０℃で１時間乾燥した
。続いてこの活性アルミナコートメタル平板を塩化ロジ
ウム溶液に浸漬し、メタル平板担体がモノリスハニカム
状に加工された場合に、担体１！当たりロジウムが０．
８ｇとなるように担持せしめた後、２５０℃で１時間乾
燥した。
ル平板担体を、ジニトロジアンミン白金溶液に浸漬して
、メタル平板担体がモノリスハニカム状に加工された場
合に、担体ＩＩｌ当たり白金が１．５ｇとなるように担
持せしめた後１時間放置し、２５０℃で１時間乾燥した
。続いてこの活性アルミナコートメタル平板を塩化ロジ
ウム溶液に浸漬し、メタル平板担体がモノリスハニカム
状に加工された場合に、担体１！当たりロジウムが０．
８ｇとなるように担持せしめた後、２５０℃で１時間乾
燥した。
このようにして白金およびロジウムを担持させた活性ア
ルミナコートメタル平板担体を、実施例１と同様にモノ
リスハニカム状に加工した。
ルミナコートメタル平板担体を、実施例１と同様にモノ
リスハニカム状に加工した。
（比較例８）
比較例１で真空蒸着により白金とロジウムを担持した活
性アルミナコート平板担体を１０００℃で１時間大気中
で熱処理を行ワた。熱処理後の活性アルミナコートメタ
ル平板担体を、実施例１と同様にモノリスハニカム状に
加工した。
性アルミナコート平板担体を１０００℃で１時間大気中
で熱処理を行ワた。熱処理後の活性アルミナコートメタ
ル平板担体を、実施例１と同様にモノリスハニカム状に
加工した。
（試験例）：
前記実施例１、比較例１１比較例２および比較例３で製
造された触媒について、下記の条件で耐久試験を行った
後、浄化率を測定することにより浄化性能を比較した。
造された触媒について、下記の条件で耐久試験を行った
後、浄化率を測定することにより浄化性能を比較した。
大ガス温度二９００℃
空間速度（Ｓ、 Ｖ） ： １００，０００ ｈｒ−
’空燃比（Ａ／Ｆ）： １４．６ 耐久時間：１００ｈｒ なお、浄化率の評価条件は、大ガス温度３００℃および
４００℃、Ｓ 、 Ｖ ＝６０，０００ｈ ｒ−’、Ａ
／Ｆ＝１４．６である。測定結果は第１表に示す。
’空燃比（Ａ／Ｆ）： １４．６ 耐久時間：１００ｈｒ なお、浄化率の評価条件は、大ガス温度３００℃および
４００℃、Ｓ 、 Ｖ ＝６０，０００ｈ ｒ−’、Ａ
／Ｆ＝１４．６である。測定結果は第１表に示す。
（以 下 余 白 ）
第１表に示したように、４００℃におけるＨＣ。
ＣＯおよびＮＯｘの３成分の浄化率は、比較例２が８５
〜８６％と最も劣り、次いで比較例３が８５〜８９％、
比較例１が８６〜９０％であった。
〜８６％と最も劣り、次いで比較例３が８５〜８９％、
比較例１が８６〜９０％であった。
これに対して、本発明の実施例１は８９〜９２％と最も
優れた結果を示した。また、３００℃におけるＨＣ，Ｃ
ｏおよびＮＯｘの３成分の浄化率は、比較例２が５３〜
５４％と最も劣り、次いで比較例１および比較例３が６
０〜６３％であった。これに対して、本発明の実施例１
は７６〜７９％と最も優れた結果を示した。この結果、
本発明により製造された触媒は、耐久後の浄化率が従来
例と比較して著しく高いことが確認された。
優れた結果を示した。また、３００℃におけるＨＣ，Ｃ
ｏおよびＮＯｘの３成分の浄化率は、比較例２が５３〜
５４％と最も劣り、次いで比較例１および比較例３が６
０〜６３％であった。これに対して、本発明の実施例１
は７６〜７９％と最も優れた結果を示した。この結果、
本発明により製造された触媒は、耐久後の浄化率が従来
例と比較して著しく高いことが確認された。
本発明の排気ガス浄化用触媒の製造方法は、以上説明し
たように、活性アルミナコートメタル担体を自動車排気
ガス浄化触媒の使用温度以上である１０００℃以上に加
熱して、物理的蒸着法（ＰＶＤ法）または化学的蒸着法
（ＣＶＤ法）により活性アルミナコートメタル担体に触
媒金属を担持させるものであるため、従来のように貴金
属粒子が凝集してシンタリングが起きることがなく、高
温長時間の使用によっても触媒性能の劣化しない耐久性
の優れた排気ガス浄化用触媒を製造することができる。
たように、活性アルミナコートメタル担体を自動車排気
ガス浄化触媒の使用温度以上である１０００℃以上に加
熱して、物理的蒸着法（ＰＶＤ法）または化学的蒸着法
（ＣＶＤ法）により活性アルミナコートメタル担体に触
媒金属を担持させるものであるため、従来のように貴金
属粒子が凝集してシンタリングが起きることがなく、高
温長時間の使用によっても触媒性能の劣化しない耐久性
の優れた排気ガス浄化用触媒を製造することができる。
第１図は本発明の実施例で用いられた真空蒸着法の模式
図である。 （Ｌ ７） ・・・ロール、２・・・活性アルミナコ
ートメタル平板担体、３・・・ヒータ、４・・・白金、
５・・・ロジウム、６・・・電子ビーム 特許出願人 トヨタ自動車株式会社
図である。 （Ｌ ７） ・・・ロール、２・・・活性アルミナコ
ートメタル平板担体、３・・・ヒータ、４・・・白金、
５・・・ロジウム、６・・・電子ビーム 特許出願人 トヨタ自動車株式会社
Claims (1)
- （１）活性アルミナをコートしたメタル担体を１０００
℃以上に加熱し、物理的蒸着法（ＰＶＤ法）または化学
的蒸着法（ＣＶＤ法）により前記メタル担体に触媒金属
を担持させることを特徴とする排気ガス浄化用触媒の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2316324A JPH04187247A (ja) | 1990-11-20 | 1990-11-20 | 排気ガス浄化用触媒の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2316324A JPH04187247A (ja) | 1990-11-20 | 1990-11-20 | 排気ガス浄化用触媒の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04187247A true JPH04187247A (ja) | 1992-07-03 |
Family
ID=18075863
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2316324A Pending JPH04187247A (ja) | 1990-11-20 | 1990-11-20 | 排気ガス浄化用触媒の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04187247A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0655034A (ja) * | 1992-06-10 | 1994-03-01 | Shimadzu Corp | 排気ガス浄化装置及びその製造方法 |
| JPH06165936A (ja) * | 1992-09-03 | 1994-06-14 | Chisso Corp | アルミナ担持白金触媒 |
| JPH06315641A (ja) * | 1993-05-01 | 1994-11-15 | Toyo Radiator Co Ltd | 排ガス浄化用触媒皮膜の形成法 |
| JP2004509740A (ja) * | 2000-09-29 | 2004-04-02 | オーエムゲー アクチエンゲゼルシャフト ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト | 触媒すすフィルターおよびリーン排気ガスの処理おけるその使用 |
| JP2007500818A (ja) * | 2003-05-22 | 2007-01-18 | ブレーン | 触媒コンバータの再生方法 |
-
1990
- 1990-11-20 JP JP2316324A patent/JPH04187247A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0655034A (ja) * | 1992-06-10 | 1994-03-01 | Shimadzu Corp | 排気ガス浄化装置及びその製造方法 |
| JPH06165936A (ja) * | 1992-09-03 | 1994-06-14 | Chisso Corp | アルミナ担持白金触媒 |
| JPH06315641A (ja) * | 1993-05-01 | 1994-11-15 | Toyo Radiator Co Ltd | 排ガス浄化用触媒皮膜の形成法 |
| JP2004509740A (ja) * | 2000-09-29 | 2004-04-02 | オーエムゲー アクチエンゲゼルシャフト ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト | 触媒すすフィルターおよびリーン排気ガスの処理おけるその使用 |
| JP2007500818A (ja) * | 2003-05-22 | 2007-01-18 | ブレーン | 触媒コンバータの再生方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6147027A (en) | Alloy catalyst and process for producing the same | |
| JPH0760117A (ja) | 排気ガス浄化用触媒 | |
| GB1581628A (en) | Catalytic purification of automobile exhaust gases | |
| JP2529739B2 (ja) | 排気ガス浄化触媒および方法 | |
| JPH04187247A (ja) | 排気ガス浄化用触媒の製造方法 | |
| JPS6384635A (ja) | 排気ガス浄化用触媒 | |
| JPH05154381A (ja) | 排気ガス浄化触媒形成方法 | |
| JP2909230B2 (ja) | 排気ガス処理触媒及びその製造方法 | |
| JPH04108539A (ja) | 排気ガス浄化用触媒の製造方法 | |
| JPH07100137B2 (ja) | 排気ガス用吸着材の製造方法 | |
| JPS62149339A (ja) | 排ガス浄化用触媒の製造法 | |
| JPH0899039A (ja) | ＮＯｘ分解用アモルファス合金触媒 | |
| JP3750350B2 (ja) | 合金触媒 | |
| JP3277261B2 (ja) | 排ガス浄化用触媒皮膜の形成法 | |
| JPH09308833A (ja) | 光触媒含有繊維複合体の製造方法 | |
| JP2000350933A (ja) | 排気ガス浄化触媒およびその製造方法 | |
| JPH0628730B2 (ja) | 排ガス浄化用触媒の製造法 | |
| JPS63156544A (ja) | メタル担体の製造方法 | |
| JPH10192715A (ja) | 排気ガス浄化触媒担持用構造体及び該構造体に触媒を担持した触媒構造体 | |
| JPS5830333A (ja) | 触媒担体の高温焼成アルミナ皮膜コ−テイング法 | |
| JPH04166229A (ja) | 排ガス浄化用触媒 | |
| JPH01307449A (ja) | 排気ガス浄化触媒体 | |
| JPH04187246A (ja) | 排気ガス浄化用触媒の製造方法 | |
| JP2003053187A (ja) | 排ガス浄化用触媒及びその製造方法 | |
| JPH02218439A (ja) | 排気ガス浄化用触媒の製造方法 |