JPH04166229A - 排ガス浄化用触媒 - Google Patents

排ガス浄化用触媒

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JPH04166229A
JPH04166229A JP2295806A JP29580690A JPH04166229A JP H04166229 A JPH04166229 A JP H04166229A JP 2295806 A JP2295806 A JP 2295806A JP 29580690 A JP29580690 A JP 29580690A JP H04166229 A JPH04166229 A JP H04166229A
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JP
Japan
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catalyst
alumina
sol
silica sol
exhaust gas
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Pending
Application number
JP2295806A
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English (en)
Inventor
Yasuhiro Takeuchi
康弘 竹内
Yoshiharu Yamashita
山下 祥治
Junjiro Awano
順二郎 粟野
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、排気ガス浄化用触媒に関するものである。
従来の技術 従来、自動車の排ガス浄化用触媒あるいは、触媒燃焼用
の触媒等に用いられる触媒担持層には、主としてアルミ
ナが用いられている。アルミナは、1000℃以上の高
温雰囲気にさらされるとα−アルミナに転移し、これに
伴って比表面積は、10rr!/g以下にまで低下する
。これによって、触媒担持層に担持された触媒成分例え
ば白金、パラジウム、ロジウム等はシンタリング等の変
化を起こし、触媒の排ガス浄化性能が劣化する。このこ
とを、一般に触媒の熱劣化と言う。
したがって、熱劣化の少ない触媒を得るためには、高温
雰囲気下にさらされても、高比表面積を維持する材料的
に安定な触媒担持層が必要である。
従来、アルミナの熱的な安定性を向上させる方法として
は、特開昭61−245844号、特開昭62.−14
54号等で提案されているバリウム化合物を添加する方
法や特開昭61.−38627号等で提案されているラ
ンタン化合物を添加する方法等がある。いずれもバリウ
ム化合物、ランタン化合物等を添加後、1200〜13
00℃で焼成することによって耐熱性の高いβ−アルミ
ナに転化さセるものである。これによって、高温雰囲気
にさらされても物性変化が小さく、比表面積変化も小さ
くなり、熱劣化の小さいアルミナが得られるものである
このアルミナを粉砕し、無機バインダーと共に水溶液に
分散さゼでハニカム状等のセラミック成形体を浸漬、乾
燥、熱処理することで、セラミック成形体上に触媒担持
層を形成し、触媒物質を担持して自動車用あるいは、触
媒燃焼用触媒等が製造されている。
発明が解決しようとする課題 しかしながら、上記の従来技術においては、高温雰囲気
でも安定な触媒担持層が得られるものの、1200℃〜
1300℃の高温で焼成されるため、もともとの比表面
積が20〜30m/gと小さく、このため、高価な貴金
属等の触媒活性成分を高分散状態で担持し難いと言う問
題点があった。
課題を解決するための手段 本発明は、上記した従来技術の課題は解決するものであ
り詳しくはセラミック成形体上に、貴金属触媒成分を担
持する触媒担持層が設けられた触媒において、上記触媒
担持層がアルミナゾルおよびシリカゾルの混合液を出発
物質として、セラミック成形体上に形成され、これに白
金、パラジウム、ロジウムからなる群より選ばれた少な
くとも1種以上の貴金属が担持されたことを特徴とする
排ガス浄化用触媒である。
作用 このような、アルミナゾルおよびシリカゾルの混合液を
出発物質として得られる触媒担持層は、熱劣化の小さい
、しかも比表面積が大きく、触媒物質を高分散させるこ
とが可能で、高活性な触媒を製造することができる。
純粋なアルミナは、高い温度領域で容易にα−アルミナ
に転移して比表面積が消滅する。これに対し従来技術で
示したバリウム、ランタン化合物等を添加し、1200
℃−1300℃の高温で焼成することで得られるアルミ
ナは、熱に対して安定なβ−アルミナを生成させる。し
かし、触媒担持層として用いるには比表面積が、20〜
30rd/gと小さく、触媒物質を高分散させることが
困難である。
そこで、本発明者らは、出発物質にゲル状のアルミナゾ
ルおよびシリカゾルを用いることで、微粒子のアルミナ
(X線解析では、δ−A1203)を生成させ、さらに
は、シリカゾル(SiO□)を添加することにより、高
温での安定性の良い触媒担持層が得られることを見いだ
した。
さらに、出発物質が液状であるため、これにセラミック
成形体を浸漬して焼成することにより、触媒担持層を容
易に形成することも可能である。
アルミナゾルおよびシリカゾルはコロイド液であり、粒
子表面の電荷と回りのイオンのバランスにより安定性を
保持している。一般的には、シリカ粒子は負に帯電し、
アルミナ粒子は正に帯電しでおり、アルミナゾルとシリ
カゾルとの混合安定性は大変に悪く単純に混合したので
は、10〜15分程度で程度に増粘してしまう。従って
、生産性を考慮した場合には、通常のアルミナゾル、シ
リカゾルのままでは量産工程にのせることが困難である
本発明者らはシリカゾルに硝酸アルミニウムを重量比で
数%添加してシリカ粒子をカチオン化することで、アル
ミナゾルとの混合安定性を良くできることを見いだした
このことにより、セラミック成形体への触媒担持層の均
一コートが可能となるものである。
本発明はまた、アルミナゾル、シリカゾルの混合液より
形成される触媒担持層を、アルミナ(Al2O3)ニジ
リカ(Sin、、)のモル比で8.51.5〜9.5+
0.5の範囲内とすることで排ガス浄化用触媒として、
特に高温劣化の小さい高活性な触媒の調整を可能とする
ものである。
実施例 以下、本発明の一実施例について説明する。
(実施例1) 第1図に示すような、コージライト質のハニカム状セラ
ミック成形体1(外形寸法:直径100■×厚さ20m
m、 セル密度、210セル/1n)を、(a)アルミ
ナゾル(Al2O3分・20%。
平均粒径 10〜20mμ:結晶形:ベーマイト系、粘
度:15c、p(25℃))溶液、(b)シリカゾル(
8102分、20%、平均粒径・10〜20nm、粘度
:5c、p(25℃))溶液、および(C)上記のアル
ミナゾルとシリカゾルの混合溶液(AI。03・5iO
2=9:1)の3種類に、各々10秒間浸漬して、ノ蔦
二カム状セラミ、ツク成形体のセル内にゾル溶液を含浸
させて、引き上げる。ついで余分なアルミナゾル溶液は
エアーで吹き払い、各々110℃で30分間乾燥する。
その後、500℃〜1200℃まで100℃刻みの温度
で、1時間熱処理を行い、冷却した。
次に、塩化白金酸溶液に浸漬し、乾燥、熱処理(500
℃×1時間)を行い、白金を0.15重量%担持させた
このようにして調製された排ガス浄化用触媒についてそ
れぞれ比表面積(TI!/g)を測定した結果を表−1
に示す。
表−1より明らかなように、(a)のアルミナゾルのみ
と(b)のシリカゾルのみより調製された触媒は、高温
域に移行するに従い比表面積が急激に減少し、大きな変
化を示した。これに対して(C)のアルミナゾルとシリ
カゾルの混合液より調製された触媒は、高温領域でも比
表面積の減少が極めて小さかった。
また、各々500℃、700℃、1000℃で熱処理を
行って調製された触媒について、さらに1000℃の雰
囲気に500時間さらし、この前後のCo浄化能を測定
した結果を第2図にそれぞれ示す。なお、測定条件はC
O入口濃度−150pl)m%触媒温度−200℃、S
V値−30,000hr’−’とした。
第2図より明らかなように、(a)のアルミナゾルのみ
、(b)のシリカゾルのみより調製した触媒は、100
0℃で100時間経過後の浄化性能の低下が大きい。こ
れに対し、(C)のアルミナゾルとシリカゾルの混合液
より調製した触媒は極めて、高性能で、しかも変化が小
さく、熱劣化の非常に小さい優れた触媒であった。
(実施例2) 実施例1で使用したアルミナゾルおよびシリカゾルのモ
ル比で、アルミナ、シリカ=9・1の混合液における硝
酸アルミニウムの添加があり(混合液に対し、AI(N
o3)3として、2重量部添加)と、添加なしについて
、各々の経過時間に対する粘度(25℃でのc、p)の
変化を調べた結果を第3図に示す。
第3図より明らかなように、添加しない場合は約10分
後より急激に増粘した。しかし、硝酸アルミニウムを添
加したものは、はとんど粘度変化をきたさなかった。
このことより、硝酸アルミニウムを添加し、シリカ粒子
をカチオン化することで、混合液の安定性を極めて向上
させることが可能で、品質の安定した触媒の調製を可能
とした。
(実施例3) 実施例1で使用したアルミナゾルおよびシリカゾルを用
い、アルミナゾルとシリカゾルの混合比を、10 : 
4〜0,6まで変化さぜ、実施例1と同様にして、排ガ
ス浄化用触媒を調製した。各混合液には実施例2と同様
に硝酸アルミニウムを混合液に対し、AI(No3)3
とり、て、2重量部添加した。また、触媒担持層の形成
のための熱処理は1000℃で、1時間行フた。これら
の触媒について、比表面積を測定した結果を、第4図に
示す。
この結果から比表面積は、アルミナゾル/シリカゾル比
で、8.5/1.5〜9.510.5の範囲で最も大き
な値を示した。さらに浄化性能でも、この範囲で調製し
た排ガス浄化用触媒が最も優れていた。
以上、本発明を実施例に従がい説明したが、特に担持体
については、これらの材料に限定されるものではない。
発明の効果 以上記述したごとく本発明によれば、高温領域でも比表
面積の低下の極めて小さい安定な触媒担持層が得られ、
触媒としても、熱劣化の小さい触媒が得られる。また、
生産を8慮しても品質の安定し、た触媒が得られるもの
である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例におけるハニカム状のセラミッ
ク成形体を示す図、第2図、第3図、第4図は実施例の
特性結果を示す図である。 代理人の氏名 弁理士 小鍜治 明 ほか2名ピ   
  =蛸 ご トーー)

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) セラミック成形体上に、貴金属触媒成分を担持
    する触媒担持層が設けられた排ガス浄化用触媒において
    、上記触媒担持層はアルミナゾルおよび、シリカゾルの
    混合液を出発物質としてセラミック成形体上に形成され
    、これに白金,パラジウム,ロジウムからなる群より選
    ばれた少なくとも1種以上の貴金属が担持されているこ
    とを特徴とする排ガス浄化用触媒。
  2. (2) 触媒担持層を形成するアルミナゾルおよびシリ
    カゾルの混合液において、シリカゾルが硝酸アルミニウ
    ムによりカチオン化されたものであることを特徴とする
    特許請求の範囲第1項記載の排ガス浄化用触媒。
  3. (3) アルミナゾルおよびシリカゾルの混合液より形
    成される触媒担持層が、アルミナ(Al_2O_3)お
    よび、シリカ(SiO_2)のモル比で9.5:0.5
    〜8.5〜1.5の範囲内であることを特徴とする特許
    請求の範囲第1項または第2項記載の排ガス浄化用触媒
JP2295806A 1990-10-31 1990-10-31 排ガス浄化用触媒 Pending JPH04166229A (ja)

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