JPH04183892A - 透孔を有する電鋳製品の製造方法 - Google Patents
透孔を有する電鋳製品の製造方法Info
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- JPH04183892A JPH04183892A JP31495990A JP31495990A JPH04183892A JP H04183892 A JPH04183892 A JP H04183892A JP 31495990 A JP31495990 A JP 31495990A JP 31495990 A JP31495990 A JP 31495990A JP H04183892 A JPH04183892 A JP H04183892A
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- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims abstract description 58
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- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、透孔を有する電鋳製品の製造方法に関する。
この種の電鋳製品としては、例えば、各種メソシュ（精
密スクリーン印刷用メソシュなど）、電気かみそりの刃
、各種ノズルなどが挙げられる。
密スクリーン印刷用メソシュなど）、電気かみそりの刃
、各種ノズルなどが挙げられる。
これら電鋳製品、特に比較的厚手の透孔を有する電鋳製
品の製造に際しては、多くの場合、例えば、第５図（ａ
）ないしくｄ）にその製造過程の工程図を示すように、
まず、第５図（ａ）に示すように電鋳母型３０表面にネ
ガ型のフォトレジスト４を複数層に重ね合わせ、そのフ
ォトレジスト４の上に、電鋳製品の透孔に相当するパタ
ーン（網目模様）をもつフィルム５を密着させて焼き付
け、現像処理して、第５図（ｂ）に示すようにフォトレ
ジスト膜６を形成する。ついで、第５図ｆｃ）に示すよ
うに電鋳母型３のフォトレジスト膜６で覆われていない
表面に金属７を電着させ、しかるのち、第５図（ｄｌに
示すようにその電着金属７を電鋳母型３から剥離し、フ
ォトレジスト膜６を除去することにより、断面逆台形の
透孔２を有する電鋳製品を得る。
品の製造に際しては、多くの場合、例えば、第５図（ａ
）ないしくｄ）にその製造過程の工程図を示すように、
まず、第５図（ａ）に示すように電鋳母型３０表面にネ
ガ型のフォトレジスト４を複数層に重ね合わせ、そのフ
ォトレジスト４の上に、電鋳製品の透孔に相当するパタ
ーン（網目模様）をもつフィルム５を密着させて焼き付
け、現像処理して、第５図（ｂ）に示すようにフォトレ
ジスト膜６を形成する。ついで、第５図ｆｃ）に示すよ
うに電鋳母型３のフォトレジスト膜６で覆われていない
表面に金属７を電着させ、しかるのち、第５図（ｄｌに
示すようにその電着金属７を電鋳母型３から剥離し、フ
ォトレジスト膜６を除去することにより、断面逆台形の
透孔２を有する電鋳製品を得る。
比較的厚手の電鋳製品（例えば１５０〜２００μ）を得
るためには電鋳母型３の表面にフォトレジスト膜６を複
数層に重ね合わせるが、こうした場合は、露光部（電鋳
製品の透孔に相当する部分）の断面形状がフォトレジス
ト膜６の下層部で細くなる逆台形になる傾向がある。こ
の逆台形化の原因は、フォトレジスト膜６を２層、３層
と重ねることにより、指数関数的に光線（紫外線）の吸
収が行われ、この結果電鋳母型３の位置にはほとんど光
線が達しないことが原因であると考えられる。
るためには電鋳母型３の表面にフォトレジスト膜６を複
数層に重ね合わせるが、こうした場合は、露光部（電鋳
製品の透孔に相当する部分）の断面形状がフォトレジス
ト膜６の下層部で細くなる逆台形になる傾向がある。こ
の逆台形化の原因は、フォトレジスト膜６を２層、３層
と重ねることにより、指数関数的に光線（紫外線）の吸
収が行われ、この結果電鋳母型３の位置にはほとんど光
線が達しないことが原因であると考えられる。
このような逆台形化の傾向は光線透過率の小さいフォト
レジストのみを使用するほど顕著になることを知見した
。
レジストのみを使用するほど顕著になることを知見した
。
本発明は、こうした知見に基づき、フォトレジスト膜の
逆台形化の傾向を巧みに利用し、そうした断面逆台形の
透孔を必要とする電鋳製品、例えばノズル電鋳製品を得
ようとするのである。
逆台形化の傾向を巧みに利用し、そうした断面逆台形の
透孔を必要とする電鋳製品、例えばノズル電鋳製品を得
ようとするのである。
しかし、上記した厚手のフォトレジスト膜６ではその下
層部に達する光線（紫外線）量が少なくなり、表面硬化
が先行して下層部が未硬化膜になり易いことから、フォ
トレジスト膜６の下層部が電鋳母型３から剥離して欠損
を生じやすい。そのため、上記したフォトレジスト膜６
では一定した断面逆台形の透孔２をもつ電鋳製品が得る
ことが難しい。また、断面逆台形のみでは、ノズル、特
にインクジェットプリンター用ノズルのように噴射対象
物に対してインクを一様で平行に精度よく噴出させる必
要のある物には適しない。
層部に達する光線（紫外線）量が少なくなり、表面硬化
が先行して下層部が未硬化膜になり易いことから、フォ
トレジスト膜６の下層部が電鋳母型３から剥離して欠損
を生じやすい。そのため、上記したフォトレジスト膜６
では一定した断面逆台形の透孔２をもつ電鋳製品が得る
ことが難しい。また、断面逆台形のみでは、ノズル、特
にインクジェットプリンター用ノズルのように噴射対象
物に対してインクを一様で平行に精度よく噴出させる必
要のある物には適しない。
そこで本発明は、透孔２の断面形状としてその上部が逆
台形部２ａで、かつその下部の出口側に細い垂直部２ｂ
を有して、例えばノズル、特にインクジェットプリンタ
ー用ノズルに最適となる電鋳製品の製造方法を提供しよ
うとするものである。
台形部２ａで、かつその下部の出口側に細い垂直部２ｂ
を有して、例えばノズル、特にインクジェットプリンタ
ー用ノズルに最適となる電鋳製品の製造方法を提供しよ
うとするものである。
本発明は、第１図（ａ）ないしｔｅｌに例示するように
、電鋳母型３の表面に、電鋳製品の透孔に相当するパタ
ーン（模様）をもつネガ型のフォトレジスト膜６を形成
し、該電鋳母型６のフォトレジスト膜６で覆われていな
い表面に金属７を電着させたのち、その電着金属７を電
鋳母型３から剥離して、透孔２を有する電鋳製品を得る
製造方法において、上記フォトレジスト膜６を、光線透
過率の大きいフォトレジストと光線透過率の小さいフ第
１−レジストの複数層で形成し、電鋳母型３の表面に接
する側の下層部に光線透過率の大きいフ第１−レジスト
４ａを使用したものである。
、電鋳母型３の表面に、電鋳製品の透孔に相当するパタ
ーン（模様）をもつネガ型のフォトレジスト膜６を形成
し、該電鋳母型６のフォトレジスト膜６で覆われていな
い表面に金属７を電着させたのち、その電着金属７を電
鋳母型３から剥離して、透孔２を有する電鋳製品を得る
製造方法において、上記フォトレジスト膜６を、光線透
過率の大きいフォトレジストと光線透過率の小さいフ第
１−レジストの複数層で形成し、電鋳母型３の表面に接
する側の下層部に光線透過率の大きいフ第１−レジスト
４ａを使用したものである。
電鋳母型３の表面に接する下層部に光線透過率の高いフ
ォトレジスト４ａを使用したので、光線はフォトレジス
ト膜６の下層部にまで充分に達し、フォトレジス）４ａ
の電鋳母型３との接触面も充分に硬化させることができ
、フォトレジスト膜６の下層部が電鋳母型３から剥離し
て欠損するようなことが少なくなる。
ォトレジスト４ａを使用したので、光線はフォトレジス
ト膜６の下層部にまで充分に達し、フォトレジス）４ａ
の電鋳母型３との接触面も充分に硬化させることができ
、フォトレジスト膜６の下層部が電鋳母型３から剥離し
て欠損するようなことが少なくなる。
また、そのように下層部に光線透過率の高いフォトレジ
スｌ−４３を使用することにより、光線は−へ − そのフォトレジスト４ａ内をほぼ垂直に透過するため、
逆台形部６ａの下部に細い垂直部６ｂを有するフォトレ
ジスト膜６を得ることができる。したがって、このフォ
トレジスト膜６を用いて電鋳すると、断面形状が逆台形
部２ａの下部に細い垂直部２ｂを有する形の透孔２を有
する電鋳製品を得ることができ、その細い垂直部２ｂで
はインクなどの流体を一様に平行に噴出させことができ
る。
スｌ−４３を使用することにより、光線は−へ − そのフォトレジスト４ａ内をほぼ垂直に透過するため、
逆台形部６ａの下部に細い垂直部６ｂを有するフォトレ
ジスト膜６を得ることができる。したがって、このフォ
トレジスト膜６を用いて電鋳すると、断面形状が逆台形
部２ａの下部に細い垂直部２ｂを有する形の透孔２を有
する電鋳製品を得ることができ、その細い垂直部２ｂで
はインクなどの流体を一様に平行に噴出させことができ
る。
本発明によれば、透孔を有する電鋳製品の透孔２の断面
形状として逆台形部２ａの下部に細い垂直部２ｂをもつ
形のものを得ることができるため、ノズル、特にインク
ジェットプリンター用ノズルのように噴射対象物に対し
てインクなどを一様で平行に噴出させる必要のある物、
またはこれに類する物に適した電鋳製品も簡易に製造す
ることができて有利である。
形状として逆台形部２ａの下部に細い垂直部２ｂをもつ
形のものを得ることができるため、ノズル、特にインク
ジェットプリンター用ノズルのように噴射対象物に対し
てインクなどを一様で平行に噴出させる必要のある物、
またはこれに類する物に適した電鋳製品も簡易に製造す
ることができて有利である。
本発明に係る電鋳製品の製造方法一実施例を第１図（ａ
ｌないしくｆ）、第２図、第３図および第４図に基づき
説明する。
ｌないしくｆ）、第２図、第３図および第４図に基づき
説明する。
第２図はその電鋳製品の一例であるインクジェットプリ
ンター用ノズルを示しており、四角形の薄い平板状のノ
ズル本体１（１００μ厚）に多数の透孔２を形成してい
る。その透孔２の断面形状は、第３図に示すようにその
上部に逆台形部２ａを、下部（出口側）に細い垂直部２
ｂを連通形成した形を有している。
ンター用ノズルを示しており、四角形の薄い平板状のノ
ズル本体１（１００μ厚）に多数の透孔２を形成してい
る。その透孔２の断面形状は、第３図に示すようにその
上部に逆台形部２ａを、下部（出口側）に細い垂直部２
ｂを連通形成した形を有している。
このような断面形状の透孔２を有する電鋳製品は次のよ
うな工程を経て製造される。
うな工程を経て製造される。
まず、第１図（ａ）に示すようにステンレス鋼製の電鋳
母型３の表面にネガ型のフィルム状のフォトレジスト４
を複数層（図示例では４層４ａ・４ｂ・４Ｃ・４ｄ）重
ね合わせて、例えば２００μの厚膜を形成する。この場
合、４層のうち、電鋳母型３の表面に接する側のフォト
レジスト４ａ （５０μ厚）は、他の３層のフォトレジ
スト４ｂ・４Ｃ・４ｄの光線透過率よりも大きいものを
使用する。
母型３の表面にネガ型のフィルム状のフォトレジスト４
を複数層（図示例では４層４ａ・４ｂ・４Ｃ・４ｄ）重
ね合わせて、例えば２００μの厚膜を形成する。この場
合、４層のうち、電鋳母型３の表面に接する側のフォト
レジスト４ａ （５０μ厚）は、他の３層のフォトレジ
スト４ｂ・４Ｃ・４ｄの光線透過率よりも大きいものを
使用する。
第４図に三種のフォトレジストの紫外線透過特性（膜厚
５０μｍ層・断面図Ａは４層重ね合わせた時）を示して
いるが、その中で、光線透過率の大きいフォトレジスト
４ａとしては、例えば、日本合成化学工業■製の商品名
；口金Ａ Ｌ Ｐ ＨＯ−３２１Ｙ５０を、光線透過率
の小さいフォトレジス）４ｂ・４Ｃ・４ｄとしては、例
えば、同社製の商品名；口金ＡＬＰＨＣ＋−１１５０Ｍ
Ｙ、または日令ＡＬＰＨＯ−１１１Ｙ５０を選ぶ。因み
に、第４図中、波長３６５ｎｍは紫外線ランプの紫外線
波長のピークで、この波長の光が最も多く発せられてい
る。したがって、フォトレジストもこの３６５μｍに硬
化波長のピークをもってきているものが多い。
５０μｍ層・断面図Ａは４層重ね合わせた時）を示して
いるが、その中で、光線透過率の大きいフォトレジスト
４ａとしては、例えば、日本合成化学工業■製の商品名
；口金Ａ Ｌ Ｐ ＨＯ−３２１Ｙ５０を、光線透過率
の小さいフォトレジス）４ｂ・４Ｃ・４ｄとしては、例
えば、同社製の商品名；口金ＡＬＰＨＣ＋−１１５０Ｍ
Ｙ、または日令ＡＬＰＨＯ−１１１Ｙ５０を選ぶ。因み
に、第４図中、波長３６５ｎｍは紫外線ランプの紫外線
波長のピークで、この波長の光が最も多く発せられてい
る。したがって、フォトレジストもこの３６５μｍに硬
化波長のピークをもってきているものが多い。
次いで、第１図ｆｂ）に示すようにフォトレジスト４の
上に電鋳製品の透孔に相当するパターン（模様）をもつ
フィルム５を密着させ、第１図（Ｃ）に示すように紫外
線ランプを照射して焼き付け、現像、乾燥の各処理を行
う。このとき光線透過率の小さいフォトレジスト４ｄ・
４０層により光線が徐々に吸収され、４ｂ層あたりから
逆台形化が著しくなって、第１図（ｄ）に示すようなフ
ォトレジスト膜６を形成する。このフォトレジスト膜６
は、光線透過率の小さいフォトレジスト４ｂ・４Ｃ・４
ｄの上層部では断面逆台形部６ａを、光線透過率の大き
いフォトレジス）４ａの下層部では断面垂直部６ｂをも
つ形となる。次いで、電鋳母型３を電着槽に移し、ニッ
ケル、あるいはニッケルーコバルト合金で電鋳を行って
、第１図ｔｅｌに示すように電鋳母型３のフォトレジス
ト膜６で覆われていない表面に金属７をフォトレジスト
膜６の略２層目の高さ（１００μ）にまで電着する。
上に電鋳製品の透孔に相当するパターン（模様）をもつ
フィルム５を密着させ、第１図（Ｃ）に示すように紫外
線ランプを照射して焼き付け、現像、乾燥の各処理を行
う。このとき光線透過率の小さいフォトレジスト４ｄ・
４０層により光線が徐々に吸収され、４ｂ層あたりから
逆台形化が著しくなって、第１図（ｄ）に示すようなフ
ォトレジスト膜６を形成する。このフォトレジスト膜６
は、光線透過率の小さいフォトレジスト４ｂ・４Ｃ・４
ｄの上層部では断面逆台形部６ａを、光線透過率の大き
いフォトレジス）４ａの下層部では断面垂直部６ｂをも
つ形となる。次いで、電鋳母型３を電着槽に移し、ニッ
ケル、あるいはニッケルーコバルト合金で電鋳を行って
、第１図ｔｅｌに示すように電鋳母型３のフォトレジス
ト膜６で覆われていない表面に金属７をフォトレジスト
膜６の略２層目の高さ（１００μ）にまで電着する。
電鋳後、その電着金属７をフォトレジスト膜６共に電鋳
母型３から剥離し、フォ）・レジスト膜６を除去するこ
とにより、第１図（ｆｌに示すような断面形状が逆台形
部２ａと細い垂直部２ｂからなる透孔２を有する電鋳製
品９を得る。
母型３から剥離し、フォ）・レジスト膜６を除去するこ
とにより、第１図（ｆｌに示すような断面形状が逆台形
部２ａと細い垂直部２ｂからなる透孔２を有する電鋳製
品９を得る。
上記実施例では、電鋳母型３０表面に形成するフォトレ
ジスト４として、フィルム状のレジストを用いているが
、これに代えて液体状のフォトレシストを複数層に順次
塗布乾燥して厚肉のフォトレジスト膜６を形成すること
もできる。
ジスト４として、フィルム状のレジストを用いているが
、これに代えて液体状のフォトレシストを複数層に順次
塗布乾燥して厚肉のフォトレジスト膜６を形成すること
もできる。
第１図（ａ）ないしくｆ）、第２図、第３図および第４
図は本発明に係る電鋳製品の製造方法の一実施例を示し
ており、 第１図（ａｌないしくｆ）は製造過程の工程説明図、第
２図は電鋳製品の斜視図、 第３図は第２図に示す電鋳製品の透孔部の拡大断面図、 第４図は各種フォトレジストの紫外線透過特性を示す図
である。 第５図（ａ）ないしくｄｌは従来例の電鋳製品の製造過
程の工程説明図である。 ２・・・・・透孔、 ３・・・・・電鋳母型、 ４・・・・・フォトレジスト、 ６・・・・・フォトレジスト膜、 ７・・・・・電着金属、 ９・・・・・電鋳製品。
図は本発明に係る電鋳製品の製造方法の一実施例を示し
ており、 第１図（ａｌないしくｆ）は製造過程の工程説明図、第
２図は電鋳製品の斜視図、 第３図は第２図に示す電鋳製品の透孔部の拡大断面図、 第４図は各種フォトレジストの紫外線透過特性を示す図
である。 第５図（ａ）ないしくｄｌは従来例の電鋳製品の製造過
程の工程説明図である。 ２・・・・・透孔、 ３・・・・・電鋳母型、 ４・・・・・フォトレジスト、 ６・・・・・フォトレジスト膜、 ７・・・・・電着金属、 ９・・・・・電鋳製品。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、電鋳母型（３）の表面に、電鋳製品の透孔に相当す
るパターンをもつネガ型のフォトレジスト膜（６）を形
成し、該電鋳母型（３）のフォトレジスト膜（６）で覆
われていない表面に金属（７）を電着させたのち、その
電着金属（７）を電鋳母型（３）から剥離して透孔（２
）を有する電鋳製品を得る製造方法において、 上記フォトレジスト膜（６）が光線透過率の大きいフォ
トレジストと光線透過率の小さいフォトレジストの複数
層からなり、電鋳母型（３）の表面に接する側の下層部
に光線透過率の大きい方のフォトレジスト（４ａ）を使
用してあることを特徴とする、透孔を有する電鋳製品の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2314959A JP2992645B2 (ja) | 1990-11-19 | 1990-11-19 | 透孔を有する電鋳製品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2314959A JP2992645B2 (ja) | 1990-11-19 | 1990-11-19 | 透孔を有する電鋳製品の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04183892A true JPH04183892A (ja) | 1992-06-30 |
| JP2992645B2 JP2992645B2 (ja) | 1999-12-20 |
Family
ID=18059728
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2314959A Expired - Fee Related JP2992645B2 (ja) | 1990-11-19 | 1990-11-19 | 透孔を有する電鋳製品の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2992645B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2006016654A (ja) * | 2004-06-30 | 2006-01-19 | Kuraray Co Ltd | 貫通型金属構造体の製造方法 |
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-
1990
- 1990-11-19 JP JP2314959A patent/JP2992645B2/ja not_active Expired - Fee Related
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