JP2002019125A - ノズル体の製造方法 - Google Patents
ノズル体の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 電鋳製法により、高精度でかつ生産性にも優
れたノズル体を製造するための方法を提供するものであ
る。 【構成】 母型上に、上方へ向けてすぼまる截頭錐体状
の第１レジスト部と、該第１レジスト部の上端に連続し
て上方に略ストレート状に延設される柱状の第2レジス
ト部とからなるノズル用通孔に相当するレジスト体を多
数併設して形成する工程と、レジスト体形成後、母型上
に電鋳金属を上記レジスト体の第２レジスト部の所定高
さに至るまで電鋳して金属製ノズル体を形成する工程
と、レジスト体を除去する工程と、金属製ノズル体から
母型を除去する工程とからなるノズル体の製造方法。
れたノズル体を製造するための方法を提供するものであ
る。 【構成】 母型上に、上方へ向けてすぼまる截頭錐体状
の第１レジスト部と、該第１レジスト部の上端に連続し
て上方に略ストレート状に延設される柱状の第2レジス
ト部とからなるノズル用通孔に相当するレジスト体を多
数併設して形成する工程と、レジスト体形成後、母型上
に電鋳金属を上記レジスト体の第２レジスト部の所定高
さに至るまで電鋳して金属製ノズル体を形成する工程
と、レジスト体を除去する工程と、金属製ノズル体から
母型を除去する工程とからなるノズル体の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はノズル体の製造方法
に関する。
に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、プリンタ，ファクシミリ，複写
装置等で使用されるインクジェット方式のノズルあるい
は繊維業界で使用される糸の高速送り装置用ノズル等こ
れら装置に供されるノズル体の製造方法としては、例え
ば特開平２−１２１８４２号公報に記載のような、有機
樹脂材からなる板体にエキシマレーザーを直接照射して
ノズル部を形成したもの、プレス製法により板材にノズ
ルを形成するもの、あるいは特開昭５７−２０５１６６
号公報に記載のような、電鋳母型上に感光性レジスト等
を用いてノズル穴に対応したレジストパターンを形成し
た後、このレジストパターンを用いて金属材料を電鋳製
法により析出させてノズル体を形成するもの等種々の製
法が提案されている。
装置等で使用されるインクジェット方式のノズルあるい
は繊維業界で使用される糸の高速送り装置用ノズル等こ
れら装置に供されるノズル体の製造方法としては、例え
ば特開平２−１２１８４２号公報に記載のような、有機
樹脂材からなる板体にエキシマレーザーを直接照射して
ノズル部を形成したもの、プレス製法により板材にノズ
ルを形成するもの、あるいは特開昭５７−２０５１６６
号公報に記載のような、電鋳母型上に感光性レジスト等
を用いてノズル穴に対応したレジストパターンを形成し
た後、このレジストパターンを用いて金属材料を電鋳製
法により析出させてノズル体を形成するもの等種々の製
法が提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
たノズル体の製造方法にあっては、エキシマレーザーに
より樹脂材を加工するものの場合、入力側と出力側との
穴径にバラツキが生じるとともに、熱的変形も伴うた
め、高精度化の要求に応えにくく、また１ショットエリ
アが狭いため、連続生産ではノズル径のバラツキが生じ
る。
たノズル体の製造方法にあっては、エキシマレーザーに
より樹脂材を加工するものの場合、入力側と出力側との
穴径にバラツキが生じるとともに、熱的変形も伴うた
め、高精度化の要求に応えにくく、また１ショットエリ
アが狭いため、連続生産ではノズル径のバラツキが生じ
る。
【０００４】プレス製法の場合、プレス型の耐久性に問
題があるとともに、工程が煩雑でまた穴数が増えるとノ
ズル間ピッチや各ノズル径の精度が確保しにくいもので
ある。
題があるとともに、工程が煩雑でまた穴数が増えるとノ
ズル間ピッチや各ノズル径の精度が確保しにくいもので
ある。
【０００５】さらに電鋳製法の場合、ノズル径（開口
径）を母型上に配したレジスト層を乗り越える電着金属
析出成長時のせり出し量で管理するものであるため、電
鋳の析出条件を高精度で管理する必要があり、また、イ
ンク等の誘い込み部となる幅広凹部を形成し易いもので
あるが、せり出した電着金属の内周壁で擬似的にストレ
ート部を形成することはできても、ノズル部に任意の口
径，長さで決められたストレート部は作りにくいもので
ある。
径）を母型上に配したレジスト層を乗り越える電着金属
析出成長時のせり出し量で管理するものであるため、電
鋳の析出条件を高精度で管理する必要があり、また、イ
ンク等の誘い込み部となる幅広凹部を形成し易いもので
あるが、せり出した電着金属の内周壁で擬似的にストレ
ート部を形成することはできても、ノズル部に任意の口
径，長さで決められたストレート部は作りにくいもので
ある。
【０００６】本発明は、上述したような課題に鑑みてな
されたものであって、内部に流体の誘い込み部となる幅
広凹部とこれに連続するストレート部とを有する略ロー
ト状の形態をなす、理想的な形状のノズル体を、電鋳製
法により形成するにあたり、高精度でかつ生産性にも優
れた製造方法を提供することを目的とする。
されたものであって、内部に流体の誘い込み部となる幅
広凹部とこれに連続するストレート部とを有する略ロー
ト状の形態をなす、理想的な形状のノズル体を、電鋳製
法により形成するにあたり、高精度でかつ生産性にも優
れた製造方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明によるノズル体の製造方法は、母型上に、上
方へ向けてすぼまる截頭錐体状の第１レジスト部と、該
第１レジスト部の上端に連続して上方に略ストレート状
に延設される柱状の第２レジスト部とからなるノズル用
通孔に相当するレジスト体を多数併設して形成する工程
と、 レジスト体形成後、母型上に電鋳金属を上記レジ
スト体の第２レジスト部の所定高さに至るまで電鋳して
金属製ノズル体を形成する工程と、 レジスト体を除去
する工程と、金属製ノズル体から母型を除去する工程と
からなることを特徴とする。
に、本発明によるノズル体の製造方法は、母型上に、上
方へ向けてすぼまる截頭錐体状の第１レジスト部と、該
第１レジスト部の上端に連続して上方に略ストレート状
に延設される柱状の第２レジスト部とからなるノズル用
通孔に相当するレジスト体を多数併設して形成する工程
と、 レジスト体形成後、母型上に電鋳金属を上記レジ
スト体の第２レジスト部の所定高さに至るまで電鋳して
金属製ノズル体を形成する工程と、 レジスト体を除去
する工程と、金属製ノズル体から母型を除去する工程と
からなることを特徴とする。
【０００８】また、母型上に第１レジスト部及び第２レ
ジスト部を形成するための異なるネガタイプのフォトレ
ジスト層を積層して配するとともに、第２レジスト部の
配置パターンに対応して透光部を備えたパターン形状を
有するパターンフィルムを上方に配した状態で露光し、
現像することで、レジスト体を形成するにあたり、第２
レジスト部を形成するためのフォトレジスト層に比して
第１レジスト層を形成するためのフォトレジスト層の露
光感度を高くしたことを特徴とする。
ジスト部を形成するための異なるネガタイプのフォトレ
ジスト層を積層して配するとともに、第２レジスト部の
配置パターンに対応して透光部を備えたパターン形状を
有するパターンフィルムを上方に配した状態で露光し、
現像することで、レジスト体を形成するにあたり、第２
レジスト部を形成するためのフォトレジスト層に比して
第１レジスト層を形成するためのフォトレジスト層の露
光感度を高くしたことを特徴とする。
【０００９】また、母型の主面に、光を乱反射させるた
めの微細凹凸を形成する表面処理を施したことを特徴と
する。
めの微細凹凸を形成する表面処理を施したことを特徴と
する。
【００１０】また、母型上に第１レジスト部及び第２レ
ジスト部を形成するための異なるポジタイプのフォトレ
ジスト層を積層して配するとともに、第２レジスト部の
配置パターンに対応して遮光部を備えたパターン形状を
有するパターンフィルムを上方に配した状態で露光し、
現像することで、レジスト体を形成するにあたり、第１
レジスト部を形成するためのフォトレジスト層に比して
第２レジスト層を形成するためのフォトレジスト層の露
光感度を高くしたことを特徴とする。
ジスト部を形成するための異なるポジタイプのフォトレ
ジスト層を積層して配するとともに、第２レジスト部の
配置パターンに対応して遮光部を備えたパターン形状を
有するパターンフィルムを上方に配した状態で露光し、
現像することで、レジスト体を形成するにあたり、第１
レジスト部を形成するためのフォトレジスト層に比して
第２レジスト層を形成するためのフォトレジスト層の露
光感度を高くしたことを特徴とする。
【００１１】
【発明の実施の形態】（第１実施形態）第１実施形態と
しては、インクジェット用プリンターに供されるノズル
体の製造方法につき図１（ａ）乃至（ｇ），図２，図
３，図４および図５に基づき説明する。
しては、インクジェット用プリンターに供されるノズル
体の製造方法につき図１（ａ）乃至（ｇ），図２，図
３，図４および図５に基づき説明する。
【００１２】図２はインクジェットプリンター用のノズ
ル体の一実施形態を示しており、薄型平板状のノズル体
１に多数の通孔２を形成している。該通孔２は図３に示
すごとく、先端へ向けてすぼまる截頭錐体状の幅広凹部
３と該幅広凹部３先端と連続して形成されたストレート
部４とからなる略ロート状形態を呈している。
ル体の一実施形態を示しており、薄型平板状のノズル体
１に多数の通孔２を形成している。該通孔２は図３に示
すごとく、先端へ向けてすぼまる截頭錐体状の幅広凹部
３と該幅広凹部３先端と連続して形成されたストレート
部４とからなる略ロート状形態を呈している。
【００１３】このような断面形状をなしに通孔２を有す
るノズル体１は以下に示すような工程により製造される
ものである。
るノズル体１は以下に示すような工程により製造される
ものである。
【００１４】まず、図１（ａ）に示すように、ステンレ
ス等の導電性を有する母型５の一表面側に、例えば約３
０μm厚のネガタイプの感光性ドライフィルムレジスト
等を、熱圧着等の方法により装着して第１フォトレジス
ト層６を形成するとともに、該第１フォトレジスト層６
上に積層して異なるネガタイプの感光性ドライフィルム
レジストをこれも３０μｍ厚熱圧着等の方法で装着し
て、第２フォトレジスト層７を形成する。ここで第１フ
ォトレジスト層６と第２フォトレジスト層７形成にそれ
ぞれ使用する感光性ドライフィルムレジストについて
は、露光感度が異なるものを使用し、第２フォトレジス
ト層７に比べて第１フォトレジスト層６の感光性ドライ
フィルムレジストの露光感度を３〜３０倍の選ばれた範
囲で高くなるものを使用する。
ス等の導電性を有する母型５の一表面側に、例えば約３
０μm厚のネガタイプの感光性ドライフィルムレジスト
等を、熱圧着等の方法により装着して第１フォトレジス
ト層６を形成するとともに、該第１フォトレジスト層６
上に積層して異なるネガタイプの感光性ドライフィルム
レジストをこれも３０μｍ厚熱圧着等の方法で装着し
て、第２フォトレジスト層７を形成する。ここで第１フ
ォトレジスト層６と第２フォトレジスト層７形成にそれ
ぞれ使用する感光性ドライフィルムレジストについて
は、露光感度が異なるものを使用し、第２フォトレジス
ト層７に比べて第１フォトレジスト層６の感光性ドライ
フィルムレジストの露光感度を３〜３０倍の選ばれた範
囲で高くなるものを使用する。
【００１５】次いで、図１（ｂ）に示すように、第２フ
ォトレジスト層７の上方にノズル通孔２のストレート部
３に対応する後述の第２レジスト部の配列に則する透光
部８ａ（本実施例の場合円形）を備えた任意のパターン
フィルム８を配した状態で紫外線露光を行い、現像・乾
燥の各処理を経て、図１（ｃ）又は図４に示すような多
数の独立したレジスト体９を得る。該レジスト体９は、
図５のごとく、上方へ向けてすぼまる形態の截頭円錐体
状の第１レジスト部１０と、該第１レジスト部１０の上
端に連続して上方に略ストレート状に延設される円柱状
の第２レジスト部１１とから構成される。
ォトレジスト層７の上方にノズル通孔２のストレート部
３に対応する後述の第２レジスト部の配列に則する透光
部８ａ（本実施例の場合円形）を備えた任意のパターン
フィルム８を配した状態で紫外線露光を行い、現像・乾
燥の各処理を経て、図１（ｃ）又は図４に示すような多
数の独立したレジスト体９を得る。該レジスト体９は、
図５のごとく、上方へ向けてすぼまる形態の截頭円錐体
状の第１レジスト部１０と、該第１レジスト部１０の上
端に連続して上方に略ストレート状に延設される円柱状
の第２レジスト部１１とから構成される。
【００１６】すなわち、上記したごとく第１フォトレジ
スト層６と第２フォトレジスト層７とは露光感度を異な
らせ、第１フォトレジスト層６の露光感度を高くしてい
るので、透光部８ａのパターンに沿って透遇した紫外線
光により、第２フォトレジスト層７部分で略ストレート
状に露光・硬化するとともに、第１フォトレジスト層６
の表面に達した紫外線光は第１フォトレジスト層６に自
体の露光感度が優れているために、母型側へ行くに従い
末広がり状にレジスト層を硬化させ、結果として図１
（ｃ）に示すレジスト体９の形態を任意に構成すること
ができるものとなる。なお、第１レジスト部１０の母型
側へ向けての末広がりの程度は、露光器による露光時間
等の条件はもちろん第１フォトレジスト層６に使用する
感光性ドライフィルムレジストの露光感度を任意に選択
すれば良い。
スト層６と第２フォトレジスト層７とは露光感度を異な
らせ、第１フォトレジスト層６の露光感度を高くしてい
るので、透光部８ａのパターンに沿って透遇した紫外線
光により、第２フォトレジスト層７部分で略ストレート
状に露光・硬化するとともに、第１フォトレジスト層６
の表面に達した紫外線光は第１フォトレジスト層６に自
体の露光感度が優れているために、母型側へ行くに従い
末広がり状にレジスト層を硬化させ、結果として図１
（ｃ）に示すレジスト体９の形態を任意に構成すること
ができるものとなる。なお、第１レジスト部１０の母型
側へ向けての末広がりの程度は、露光器による露光時間
等の条件はもちろん第１フォトレジスト層６に使用する
感光性ドライフィルムレジストの露光感度を任意に選択
すれば良い。
【００１７】次いで、母型５を電鋳槽に移し、図１
（ｄ）のごとくニッケル，銅，ニッケル−コバルト合金
等で電鋳を行う。この時電鋳は、レジスト体９の第２レ
ジスト部１１の所定高さに至るまで電鋳を行いノズル体
を形成する（本実施例では母型から５０μｍ程度の高さ
まで電鋳を行う）。第２レジスト部１１のスパン範囲内
で電鋳高さを任意に調節することで、ストレート部分の
長さを任意に調節できるものとなる。
（ｄ）のごとくニッケル，銅，ニッケル−コバルト合金
等で電鋳を行う。この時電鋳は、レジスト体９の第２レ
ジスト部１１の所定高さに至るまで電鋳を行いノズル体
を形成する（本実施例では母型から５０μｍ程度の高さ
まで電鋳を行う）。第２レジスト部１１のスパン範囲内
で電鋳高さを任意に調節することで、ストレート部分の
長さを任意に調節できるものとなる。
【００１８】次いで、撥水性を付与するために、図１
（ｅ）のごとく撥水性を分散したメッキを行い、撥水層
１２を形成する。なお、本工程については任意のもので
あり、必ずしも必要な工程ではない。
（ｅ）のごとく撥水性を分散したメッキを行い、撥水層
１２を形成する。なお、本工程については任意のもので
あり、必ずしも必要な工程ではない。
【００１９】次いで、アルカリ溶液による膨潤，溶解除
去等の方法により、図１（ｆ）のごとくレジスト体９を
除去することで、ノズル体１に第１レジスト部１０に対
応して截頭円錐体状の幅広凹部３を、第２レジスト部１
１に対応して円柱状のストレート部４の内壁形状を備え
た通孔２を現出させる。その後ノズル体１から図１
（ｇ）のごとく母型５を除去することで、図２及び図３
に示す形状のノズル体１を得る。なお、本実施例の場合
は、ストレート部４先端のノズル体表面部分のみに撥水
材分散めっきにより撥水性を付与したものとなってい
る。
去等の方法により、図１（ｆ）のごとくレジスト体９を
除去することで、ノズル体１に第１レジスト部１０に対
応して截頭円錐体状の幅広凹部３を、第２レジスト部１
１に対応して円柱状のストレート部４の内壁形状を備え
た通孔２を現出させる。その後ノズル体１から図１
（ｇ）のごとく母型５を除去することで、図２及び図３
に示す形状のノズル体１を得る。なお、本実施例の場合
は、ストレート部４先端のノズル体表面部分のみに撥水
材分散めっきにより撥水性を付与したものとなってい
る。
【００２０】（第２実施形態）上述した第１の実施形態
において、母型５の一表面側に予めバフ研磨やサンドブ
ラスト等の方法により表面処理を行うことで、光乱反射
用の微細凹凸を形成しても良い。この場合、高感度の第
１フォトレジスト層６の特性と母型５表面の微細凹凸に
よる紫外線光の乱反射により、第１フォトレジスト層６
の母型側へ向けての末広がり硬化がより促進されるもの
となる。なお、母型５表面の微細凹凸による乱反射効果
を生かせば、母型上に形成する第１フォトレジスト層６
と第２フォトレジスト層７とは、同じ露光感度を有する
同一のレジストを使用し、パターンフィルムの透光部を
介した紫外線光による露光に加えて母型５表面の微細凹
凸による紫外線光の乱反射のみにより、母型に近い側の
第１フォトレジスト層６の硬化を母型に向けての末広が
り形状に硬化させることも可能である。
において、母型５の一表面側に予めバフ研磨やサンドブ
ラスト等の方法により表面処理を行うことで、光乱反射
用の微細凹凸を形成しても良い。この場合、高感度の第
１フォトレジスト層６の特性と母型５表面の微細凹凸に
よる紫外線光の乱反射により、第１フォトレジスト層６
の母型側へ向けての末広がり硬化がより促進されるもの
となる。なお、母型５表面の微細凹凸による乱反射効果
を生かせば、母型上に形成する第１フォトレジスト層６
と第２フォトレジスト層７とは、同じ露光感度を有する
同一のレジストを使用し、パターンフィルムの透光部を
介した紫外線光による露光に加えて母型５表面の微細凹
凸による紫外線光の乱反射のみにより、母型に近い側の
第１フォトレジスト層６の硬化を母型に向けての末広が
り形状に硬化させることも可能である。
【００２１】（第３実施形態）第３の実施形態として
は、上記実施形態においては、母型５の一表面に形成す
る第１，第２フォトレジスト層としてネガタイプの感光
性フィルムレジストを使用したが、これに代えてポジタ
イプのレジストを使用しても良い。この場合、母型上に
は第１レジスト部及び第２レジスト部をそれぞれ形成す
るため、ポジタイプの感光性フィルムレジストを使用し
た第１フォトレジスト層と第２フォトレジスト層を積層
して配するとともに、第１の実施形態のものとは逆に第
１フォトレジスト層側に比べて第２フォトレジスト層側
の露光感度が高くなるように異なる感度のレジストを使
用する。
は、上記実施形態においては、母型５の一表面に形成す
る第１，第２フォトレジスト層としてネガタイプの感光
性フィルムレジストを使用したが、これに代えてポジタ
イプのレジストを使用しても良い。この場合、母型上に
は第１レジスト部及び第２レジスト部をそれぞれ形成す
るため、ポジタイプの感光性フィルムレジストを使用し
た第１フォトレジスト層と第２フォトレジスト層を積層
して配するとともに、第１の実施形態のものとは逆に第
１フォトレジスト層側に比べて第２フォトレジスト層側
の露光感度が高くなるように異なる感度のレジストを使
用する。
【００２２】なお、露光・現像時に第２レジスト層上に
配されるパターンフィルムは、第２レジスト部の配置パ
ターンに対応して、遮光部を備えたパターン形状にする
必要がある。
配されるパターンフィルムは、第２レジスト部の配置パ
ターンに対応して、遮光部を備えたパターン形状にする
必要がある。
【００２３】（他の実施形態）母型５表面に形成するレ
ジスト層については、上記のごとくドライフィルム状の
ものに代えて、液体状の感光性レジストを使用しても良
く、また幅広凹部３，ストレート部４から成る略ロート
状通孔２の形状，長さ，比を任意設定するための、第１
レジスト部１０，第２レジスト部１１の大きさ，長さ，
比は、パターンフィルムの透光部パターンあるいは第
１，第２フォトレジスト層に使用する感光性レジストの
露光感度及びその差等により任意に設定，変更可能であ
り、特に通孔２のストレート部４の長さについては、電
鋳時の電着高さにより任意に長さ調節できるものでもあ
る。さらに図１の実施例における撥水性メッキについて
は、ノズル体１からレジスト体９を除去した後、メッキ
工程を行うこともでき、この場合、通孔２の内壁全体に
至るまで撥水性を付与することができる。
ジスト層については、上記のごとくドライフィルム状の
ものに代えて、液体状の感光性レジストを使用しても良
く、また幅広凹部３，ストレート部４から成る略ロート
状通孔２の形状，長さ，比を任意設定するための、第１
レジスト部１０，第２レジスト部１１の大きさ，長さ，
比は、パターンフィルムの透光部パターンあるいは第
１，第２フォトレジスト層に使用する感光性レジストの
露光感度及びその差等により任意に設定，変更可能であ
り、特に通孔２のストレート部４の長さについては、電
鋳時の電着高さにより任意に長さ調節できるものでもあ
る。さらに図１の実施例における撥水性メッキについて
は、ノズル体１からレジスト体９を除去した後、メッキ
工程を行うこともでき、この場合、通孔２の内壁全体に
至るまで撥水性を付与することができる。
【００２４】さらに、レジスト体９を構成する第１レジ
スト部１０と第２レジスト部１１の形状は，図４に示す
ようなそれぞれ截頭円錐体及び円柱状をベースとしたも
のの他、必要とするノズル体１の通孔２の内壁形状等用
途に応じては、パターンフィルム８に形成される透光部
８ａの形状を四角状にすることで図６に示すごとくそれ
ぞれ截頭四角錐体及び四角柱状に形成することも可能
で、また、これらに限定されることなく、透光部８ａの
形状を任意の多角形状に設定することで、第１レジスト
部，第２レジスト部それぞれを任意の多角形をベースと
する錐体，柱状体に形成することも可能である。
スト部１０と第２レジスト部１１の形状は，図４に示す
ようなそれぞれ截頭円錐体及び円柱状をベースとしたも
のの他、必要とするノズル体１の通孔２の内壁形状等用
途に応じては、パターンフィルム８に形成される透光部
８ａの形状を四角状にすることで図６に示すごとくそれ
ぞれ截頭四角錐体及び四角柱状に形成することも可能
で、また、これらに限定されることなく、透光部８ａの
形状を任意の多角形状に設定することで、第１レジスト
部，第２レジスト部それぞれを任意の多角形をベースと
する錐体，柱状体に形成することも可能である。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によるノズ
ル体の製造方法においては、流体の誘い込み用幅広部と
これに連続するストレート部とからなる略ロート型を呈
する複雑な形態の通孔を備えた理想の形状のノズル体
を、第１レジスト部と第２レジスト部とからなる新規な
形状のレジスト体９を利用する電鋳製法により通孔２の
形状を確実にかつ安定して再現できるとともに、効率よ
く高精度に形成することができる。また、母型５上に通
孔２に対応するレジスト体９を形成した状態で、レジス
ト体９は母型に向けて末広がり状の第１レジスト部１０
が土台となり、その上方に第２レジスト部１１を延設し
ている形態にて形成されているため、多数のレジスト体
９は図４のごとく倒れることなく、安定した形でしっか
りと立っており、後工程の電鋳作業に至るまでレジスト
体９の倒れこみ等による不良等が生じにくく、生産性に
優れたものとなる。また、電鋳工程時において、第２レ
ジスト部のスパン範囲内において、電鋳高さを調節する
ことにより、ストレート部の長さを用途に応じて高精度
に調節することが可能でもある。
ル体の製造方法においては、流体の誘い込み用幅広部と
これに連続するストレート部とからなる略ロート型を呈
する複雑な形態の通孔を備えた理想の形状のノズル体
を、第１レジスト部と第２レジスト部とからなる新規な
形状のレジスト体９を利用する電鋳製法により通孔２の
形状を確実にかつ安定して再現できるとともに、効率よ
く高精度に形成することができる。また、母型５上に通
孔２に対応するレジスト体９を形成した状態で、レジス
ト体９は母型に向けて末広がり状の第１レジスト部１０
が土台となり、その上方に第２レジスト部１１を延設し
ている形態にて形成されているため、多数のレジスト体
９は図４のごとく倒れることなく、安定した形でしっか
りと立っており、後工程の電鋳作業に至るまでレジスト
体９の倒れこみ等による不良等が生じにくく、生産性に
優れたものとなる。また、電鋳工程時において、第２レ
ジスト部のスパン範囲内において、電鋳高さを調節する
ことにより、ストレート部の長さを用途に応じて高精度
に調節することが可能でもある。
【図１】 （ａ）〜（ｇ）はノズル体の製造工程の一実
施形態を説明するための断面図である。
施形態を説明するための断面図である。
【図２】 ノズル体の斜視図である。
【図３】 ノズル体の通孔部分の拡大断面図である。
【図４】 母型上に配した多数のレジスト体を示す顕微
鏡写真である。
鏡写真である。
【図５】 母型上に配したレジスト体の形状を説明する
ための顕微鏡写真である。
ための顕微鏡写真である。
【図６】 母型上に配したレジスト体の他の実施形態に
おける形状を説明するための顕微鏡写真である。
おける形状を説明するための顕微鏡写真である。
１ ノズル体 ２ 通孔 ３ 幅広凹部 ４ ストレート部 ５ 母型 ８ パターンフィルム ９ ノズル体 １０ 第１レジスト部 １１ 第２レジスト部
Claims (4)
- 【請求項１】 母型上に、上方へ向けてすぼまる截頭錐
体状の第１レジスト部と、該第１レジスト部の上端に連
続して上方に略ストレート状に延設される柱状の第２レ
ジスト部とからなるノズル用通孔に相当するレジスト体
を多数併設して形成する工程と、 レジスト体形成後、母型上に電鋳金属を上記レジスト体
の第２レジスト部の所定高さに至るまで電鋳して金属製
ノズル体を形成する工程と、 レジスト体を除去する工程と、金属製ノズル体から母型
を除去する工程とからなるノズル体の製造方法。 - 【請求項２】 母型上に第１レジスト部及び第２レジス
ト部を形成するための異なるネガタイプのフォトレジス
ト層を積層して配するとともに、第２レジスト部の配置
パターンに対応して透光部を備えたパターン形状を有す
るパターンフィルムを上方に配した状態で露光し、現像
することで、レジスト体を形成するにあたり、第２レジ
スト部を形成するためのフォトレジスト層に比して第１
レジスト層を形成するためのフォトレジスト層の露光感
度を高くしたことを特徴とする請求項１に記載のノズル
体の製造方法。 - 【請求項３】 母型の主面に、光を乱反射させるための
微細凹凸を形成する表面処理を施した請求項１又は２に
記載のノズル体の製造方法。 - 【請求項４】 母型上に第１レジスト部及び第２レジス
ト部を形成するための異なるポジタイプのフォトレジス
ト層を積層して配するとともに、第２レジスト部の配置
パターンに対応して遮光部を備えたパターン形状を有す
るパターンフィルムを上方に配した状態で露光し、現像
することで、レジスト体を形成するにあたり、第１レジ
スト部を形成するためのフォトレジスト層に比して第２
レジスト層を形成するためのフォトレジスト層の露光感
度を高くしたことを特徴とする請求項１に記載のノズル
体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000209033A JP4527250B2 (ja) | 2000-07-10 | 2000-07-10 | ノズル体の製造方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000209033A JP4527250B2 (ja) | 2000-07-10 | 2000-07-10 | ノズル体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002019125A true JP2002019125A (ja) | 2002-01-23 |
| JP4527250B2 JP4527250B2 (ja) | 2010-08-18 |
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ID=18705509
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000209033A Expired - Fee Related JP4527250B2 (ja) | 2000-07-10 | 2000-07-10 | ノズル体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4527250B2 (ja) |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4527250B2 (ja) | 2010-08-18 |
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| A621 | Written request for application examination |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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